以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
(電子写真感光体)
本発明の電子写真感光体は、上記一般式(II−1)で示される化合物を含有する組成物の硬化物からなる第1の機能層を有することを特徴とするものである。特に、電子写真感光体における最表面層が上記第1の機能層となっていることが好ましい。以下、本発明の電子写真感光体の好適な実施形態について説明する。
図1は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図1に示した電子写真感光体100は、いわゆる機能分離型感光体(又は積層型感光体)であり、導電性支持体3上に、下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5が順次積層された構造を有するものである。電子写真感光体100においては、下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5により感光層6が構成されている。そして、電子写真感光体100においては、保護層5が、導電性支持体3から最も遠い側に配置される最表面層となっており、上記一般式(II−1)で示される化合物を含有する組成物の硬化物からなる第1の機能層となっている。以下、電子写真感光体100を構成する各要素について説明する。
導電性支持体3としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金属板、金属ドラム、金属ベルト、あるいは導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。
また、電子写真感光体100がレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性支持体3表面は、中心線平均粗さRaが0.04〜0.5μmとなるように粗面化することが好ましい。Raが0.04μm未満であると、鏡面に近くなるため干渉防止効果が不十分となる傾向にあり、Raが0.5μmを超えると、画質が粗くなる傾向にある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止のための粗面化は特に必要なく、基材の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。
粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて導電性支持体3に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性支持体3を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化などが好ましい。
ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極として電解質溶液中で陽極酸化することにより、アルミニウム表面に酸化膜を形成する処理である。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
陽極酸化膜の膜厚は、0.3〜15μmであることが好ましい。膜厚が0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が不十分となる傾向にある。また、膜厚が15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向にある。
また、導電性支持体3には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が10〜11質量%の範囲、クロム酸が3〜5質量%の範囲、フッ酸が0.5〜2質量%の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5〜18質量%の範囲が好ましい。処理温度は42〜48℃が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚は、0.3〜15μmが好ましい。0.3μm未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、15μmを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。
ベーマイト処理は、90〜100℃の純水中に5〜60分間浸漬すること、又は90〜120℃の加熱水蒸気に5〜60分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚は、0.1〜5μmが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
下引層4は、例えば、有機金属化合物及び/又は結着樹脂を含有して構成される。
有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。有機金属化合物としては、特に、有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は、残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、好ましく使用される。
結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を用いることができる。これらを2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。
また、下引層4には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−2−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−2−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させることもできる。
また、下引層4中には、低残留電位化や環境安定性の観点から、電子輸送性顔料を混合/分散することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭47−30330号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中ではペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料と多環キノン顔料、酸化亜鉛、酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。
また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理しても良い。電子輸送性顔料は多すぎると下引層の強度を低下させ、塗膜欠陥を生じる原因となるため、好ましくは95質量%以下、より好ましくは90質量%以下で使用される。
下引層4中には、電気特性の向上や光散乱性の向上等の目的により、各種の有機化合物の微粉末若しくは無機化合物の微粉末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリテトラフルオロエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が有効である。添加微粉末の粒径は、0.01〜2μmのものが好ましい。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引層4の固形分の総質量に対して、質量比で10〜90質量%であることが好ましく、30〜80質量%であることがより好ましい。
また、下引層4中には、電子輸送性物質、電子輸送性顔料等を含有させることも低残留電位化や環境安定性の観点から有効である。
下引層4は、上記各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。
下引層形成用塗布液の混合/分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、振動ボールミル、コロイドミル、ペイントシェーカー、超音波等を用いる常法が適用される。混合/分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有期金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合/分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
また、下引層4を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
塗布後、塗膜を乾燥させて下引層4を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性支持体3は、その欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層4を形成することが好ましい。
下引層4の膜厚は、好ましくは0.01〜30μm、より好ましくは0.05〜30μm、さらに好ましくは0.1〜30μm、特に好ましくは0.2〜25μmである。
電荷発生層1は、電荷発生材料を含有して、又は、電荷発生材料及び結着樹脂を含有して構成される。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や、三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料など、公知のものを特に制限なく使用することができる。電荷発生材料としては、380nm〜500nmの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が好ましく、700nm〜800nmの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平5−263007号公報及び特開平5−279591号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−140472号公報及び特開平5−140473号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、又は特開平4−189873号公報及び特開平5−43813号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。
また、電荷発生層1は、600〜900nmの波長域での分光吸収スペクトルにおいて810〜839nmの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を含有してなる層(第2の機能層)であることが好ましい。この特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものである。また、810〜835nmの範囲に最大ピーク波長を有するものは、より優れた分散性が得られるため好ましい。このように、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のV型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせることにより、顔料粒子の結晶配列が好適に制御された微細なヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料となり、電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とを得ることができる。
通常、フタロシアニン顔料は、結晶中の分子配列によってフタロシアニン分子間の相互作用が変化し、結果として分子配列の状態がスペクトルに反映される。従来の製造方法により作製されたV型ヒドロキシガリウムフタロシアニンが840〜870nmに吸収極大を有する場合には、吸収が長波長側に伸びる。これは、すなわち分子間の相互作用が強いことを意味し、これによって結晶中を電荷が流れ易い状態となり、暗電流の増大やかぶりなどを発生しやすくなるものと推察される。結晶合成時の条件をコントロールすることで、分子配列を制御し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の810〜839nmに吸収極大を有することで、優れた電子写真特性や画質特性を得ることが可能となった。かかるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、顔料粒子の結晶配列が好適に制御されたことと、分散性向上に適した微細化によって、分光吸収スペクトルが短波長側にシフトしたものと推定される。
また、本発明で用いられる上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の平均一次粒子径は、0.10μm以下であることが好ましく、0.08μm以下であることがより好ましい。更に、BET法による比表面積値が、45m2/g以上であることが好ましく、50m2/g以上であることがより好ましく、55m2/g以上であることが特に好ましい。平均一次粒子径が0.10μmを超える場合、又は、比表面積値が45m2/g未満である場合は、粒子が粗大化しているか、又は、粒子の凝集体が形成されており、電子写真特性や画質特性上の欠陥が発生しやすくなる傾向にある。
本発明で用いられる上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の製造方法としては、I型ヒドロキシガリウムフタロシアニンを溶剤とともに湿式粉砕処理することによって結晶変換する方法が挙げられる。かかる製造方法において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルが810〜839nmの範囲内に吸収極大を有するように、結晶変換状態を湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターしながら湿式粉砕処理時間を決定することにより、810〜839nmの範囲内に吸収極大を有する特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を得ることができる。
上記の方法で得られる特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、顔料の粒径が十分に小さく、且つ均一となるので、当該ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を電子写真感光体の感光層の材料に用い、かつ電子写真感光体が後述する表面保護層を備えることにより、十分な感度、帯電性、暗減衰特性を達成し、画質欠陥を生じることなく長期にわたって安定した画像品質を得ることが可能となる。
また、本発明で用いられる上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、CuKα特性X線に対するブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを有するものであることが好ましい。また、特に7.5゜の回折ピークの半値幅が0.35〜1.20゜であるものが好ましい。7.5゜の回折ピークにおける半値幅が上記範囲外である場合、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子の再凝集による分散性の低下が生じやすくなる傾向にあり、その結果、電子写真感光体の感度が低下したり、かぶりなどの画質欠陥が生じやすくなる傾向にある。なお、Journal of Imaging Science and Technology,Vol.40,No.3,May/June,249(1996)、特開平5−263007号公報、特開平7−53892号公報などに記載されている従来の製造方法により作製される高感度なV型ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、CuKα特性X線に対するブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、及び28.3°に回折ピークを有しているが、特徴的な7.5゜の回折ピークの半値幅が0.35未満であり、本発明で用いられる特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が従来のものとは異なることが明らかである。
上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の製造方法において、原料として使用されるI型ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、従来より公知の方法によって得ることができる。以下にその一例を示す。
先ず、o−フタロジニトリルまたは1,3−ジイミノイソインドリンと三塩化ガリウムとを所定の溶媒中で反応させる方法(I型クロロガリウムフタロシアニン法);o−フタロジニトリル、アルコキシガリウムおよびエチレングリコールを所定の溶媒中で加熱し反応させてフタロシアニン二量体(フタロシアニン・ダイマー)を合成する方法(フタロシアニン・ダイマー法)、等により粗ガリウムフタロシアニンを製造する。上記の反応における溶媒としては、α−クロロナフタレン、β−クロロナフタレン、α−メチルナフタレン、メトキシナフタレン、ジメチルアミノエタノール、ジフェニルエタン、エチレングリコール、ジアルキルエーテル、キノリン、スルホラン、ジクロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホアミドなどの不活性且つ高沸点の溶剤を用いることが好ましい。
次に、上記の工程で得られた粗ガリウムフタロシアニンについてアシッドペースティング処理を行うことによって、粗ガリウムフタロシアニンを微粒子化するとともにI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に変換する。ここで、アシッドペースティング処理とは、具体的には、粗ガリウムフタロシアニンを硫酸などの酸に溶解させたものあるいは硫酸塩などの酸塩としたものを、アルカリ水溶液、水または氷水中に注ぎ、再結晶させることをいう。アシッドペースティング処理に用いる酸としては硫酸が好ましく、中でも濃度70〜100%(特に好ましくは95〜100%)の硫酸がより好ましい。
本発明で用いるヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、上記のアシッドペースティング処理によって得られたI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を溶剤とともに湿式粉砕処理して結晶変換することによって得られるが、湿式粉砕処理が、外径0.1〜3.0mmの球形状メディアを使用した粉砕装置が好ましく、外径0.2〜2.5mmの球形状メディアを用いることが特に好ましい。メディアの外径が3.0mmより大きい場合、粉砕効率が低下するため粒子径が小さくならずに凝集体が生成し易い傾向がある。また、メディアの外径が0.1mmより小さい場合、メディアとヒドロキシガリウムフタロシアニンを分離し難くなる傾向がある。さらに、メディアが球形状でなく、円柱状や不定形状等、他の形状の場合、粉砕効率が低下するとともに、粉砕によってメディアが磨耗し易く、磨耗粉が不純物となりヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の特性を劣化させ易くなる傾向がある。
メディアの材質は特に制限されないが、顔料中に混入した場合にも画質欠陥を発生しにくいものが好ましく、ガラス、ジルコニア、アルミナ、メノーなどを好ましく使用できる。
また、湿式粉砕処理を行う容器の材質についても特に制限されないが、顔料中に混入した場合にも画質欠陥を発生しにくいものが好ましく、ガラス、ジルコニア、アルミナ、メノー、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフェニレンサルファイドなどを好ましく使用できる。また、鉄、ステンレスなどの金属容器の内面にガラス、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフェニレンサルファイドなどをライニングしても良い。
メディアの使用量は、使用する装置によっても異なるが、I型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料1質量部に対して1〜1000質量部であることが好ましく、10〜100質量部であることがより好ましい。また、メディアの外径が小さくなると同じ質量でも装置内に占めるメディア密度が高まり、混合溶液の粘度が上昇して粉砕効率が変化するため、メディア外径を小さくするに従い、適宜メディア使用量と溶剤使用量をコントロールすることによって最適な混合比で湿式処理を行うことが望ましい。
また、湿式粉砕処理の温度は、0〜100℃が好ましく、5〜80℃がより好ましく、10〜50℃が特に好ましい。温度が0℃未満である場合には、結晶転移の速度が遅くなる傾向にあり、また、温度が100℃を超える場合にはヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の溶解性が高くなり結晶成長しやすく微粒化が困難となる傾向にある。
湿式粉砕処理に使用される溶剤としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−アミルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルiso−ブチルケトンなどのケトン類の他に、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらの溶剤の使用量はヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料1質量部に対して1〜200質量部が好ましく、1〜100質量部がより好ましい。
湿式粉砕処理に用いられる装置としては、振動ミル、自動乳鉢、サンドミル、ダイノーミル、コボールミル、アトライター、遊星ボールミル、ボールミルなどのメデイアを分散媒体として使用する装置を用いることができる。
結晶変換の進行スピードは、湿式粉砕処理工程のスケール、攪拌スピード、メディア材質などによって大きく影響されるが、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の分光吸収スペクトルが、810〜839nmの範囲内に吸収極大を有するように、結晶変換状態を湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターしながら、810〜839nmの範囲内に吸収極大を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に変換されるまで継続する。一般的には、湿式粉砕処理の処理時間は5〜500時間の範囲が好ましく、7〜300時間の範囲がより好ましい。処理時間が5時間より少ないと、結晶変換が完結せず、電子写真特性の低下、特に感度不足の問題が生じやすくなる傾向にある。また、処理時間が500時間より増えると、粉砕ストレスの影響により感度低下を生じたり、生産性低下、メディアの摩滅粉の混入などの問題が生じやすくなる傾向にある。湿式粉砕処理時間をこのように決定することにより、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料粒子が均一に微粒子化した状態で湿式粉砕処理を完了することが可能となり、複数ロットの繰り返し湿式粉砕処理を実施した場合における、ロット間の品質ばらつきを抑えることが可能となる。
なお、上述した特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、電荷発生層1に含有させることが好ましいが、他の層に含有させてもよい。
電荷発生層1に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
電荷発生層1は、上記電荷発生材料を用いて蒸着により、又は、上記電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液を用いて形成される。
電荷発生層形成用塗布液は、電荷発生材料と結着樹脂の配合比(質量比)が、10:1〜1:10であることが好ましい。また、電荷発生材料として上記特定のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いる場合、当該ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と結着樹脂との配合比(質量比)は、好ましくは40:1〜1:4であり、分散液中の顔料の分散性、電子写真感光体の感度の観点から、より好ましくは20:1〜1:2である。また、電荷発生層1は、感度調整、分散性コントロールなどの観点からヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料以外のアゾ顔料、ペリレン顔料、縮環芳香族系顔料などの電荷発生材料を含有してもよい。ここで、本発明に使用される他の電荷発生材料としては、金属含有または無金属のフタロシアニンを用いることが好ましく、中でも、810〜839nmの範囲に吸収極大を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料以外のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ジクロロスズフタロシアニン顔料またはオキシチタニルフタロシアニン顔料を用いることが特に好ましい。また、これらの他の電荷発生材料の配合量は、電荷発生層1中に含まれる物質全量基準で50質量%以下であることが好ましい。
また、これらの材料を分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。この際、分散によって該の結晶型が変化しない条件が必要とされる。なお、上記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。さらに、この分散の際、粒子を好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.3μm以下、さらに好ましくは0.15μm以下の粒子サイズにすることが有効である。
また、これらの分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
また、電荷発生層形成用塗布液を用いて電荷発生層1を形成する際、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
電荷発生層1の膜厚は、好ましくは0.1〜5μm、より好ましくは0.2〜2.0μmである。
電荷輸送層2は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。
電荷輸送材料としては、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができるが、これらに限定されるものではない。
また、電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式(V−1)、(V−2)又は(V−3)で表される化合物が好ましい。
上記式(V−1)中、R14は水素原子又はメチル基を示し、n1は1又は2を示す。また、Ar11及びAr12は置換もしくは未置換のアリール基、−C6H4−C(R18)=C(R19)(R20)、又は、−C6H4−CH=CH−CH=C(Ar)2を示し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、又は炭素数1〜3のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。また、R18、R19、R20は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Arは、置換又は未置換のアリール基を示す。
上記式(V−2)中、R15、R15’は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、を示す。また、R16、R16’、R17及びR17’は同一でも異なってもよく、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜2のアルキル基で置換されたアミノ基、置換もしくは未置換のアリール基、−C6H4−C(R18)=C(R19)(R20)、又は、−C6H4−CH=CH−CH=C(Ar)2を示し、R18、R19、R20は水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、又は、置換もしくは未置換のアリール基を示し、Arは、置換もしくは未置換のアリール基を示す。n2及びn3は0〜2の整数を示す。
上記式(V−3)中、R21は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−C6H4−CH=CH−CH=C(Ar)2を示す。Arは、置換又は未置換のアリール基を示す。R22及びR23はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜2のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。
結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材を用いることもできる。これらの結着樹脂は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比(質量比)は10:1〜1:5が好ましい。
また、高分子電荷輸送材を単独で用いることもできる。高分子電荷輸送材としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、とくに好ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。
電荷輸送層2は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法を使用できる。
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層1上に塗布する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。
電荷輸送層2の膜厚は、好ましくは5〜50μm、より好ましくは10〜30μmである。
保護層5は、電子写真感光体100における最表面層であり、表面層の磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つ、トナーの転写効率を上げるために設けられる層である。保護層5は、下記一般式(I)で表わされる化合物を含む組成物の硬化物からなる層である。ただし、本発明においては、下記一般式(I)を減縮した、後述する一般式(II−1)で表される化合物が適用される。
[式(I)中、Fは正孔輸送性を有するn価の有機基を示し、Rは1価の有機基を示し、Lはアルキレン基を示し、nは1〜4の整数を示す。]
また、上記一般式(I)で示される化合物の中でも好ましいものとして、下記一般式(II)で示される化合物が挙げられる。ただし、本発明においては、下記一般式(II)を減縮した、下記一般式(II−1)で示される化合物が適用される。
[式(II)中、Ar1〜Ar4は各々独立に置換もしくは未置換のアリール基を示し、Ar5は置換もしくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、c1、c2、c3、c4及びc5は各々独立に0又は1を示し、kは0又は1を示し、Dは下記一般式(III)で示される1価の有機基を示し、c1、c2、c3、c4及びc5の総数は1〜4である。]
[式(II−1)中、Ar1、Ar2及びAr5は各々独立に、炭素数1〜4のアルキル基もしくは未置換のフェニル基で置換された又は未置換のフェニル基を示し、Dは下記一般式(III)で示される1価の有機基を示し、c1、c2及びc5は各々独立に0又は1を示し、c1、c2及びc5の総数は1〜3である。]
[式(III)中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示し、Lは炭素数1〜18のアルキレン基を示す。]
ここで、上記一般式(I)及び(II)中、Rは1価の有機基を示すが、炭素数1〜18の1価の有機基であることが好ましく、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜18の1価の炭化水素基、又は、−(CH2)r−O−R4で表わされる基であることがより好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、又は、−(CH2)r−O−R4で表わされる基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。なお、R4は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、環を形成してもよいが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの脂肪族炭化水素基であることが好ましく、rは1〜12の整数を示し、1〜4の整数であることが好ましい。また、上記一般式(I)及び(II)中、Lは枝分かれしてもよい炭素数1〜18のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることがより好ましい。なお、上記一般式(I)及び(II)において、R又はLが複数存在する場合、それぞれは同一でも異なっていてもよい。
また、上記一般式(II)中のAr1〜Ar4で示される置換もしくは未置換のアリール基としては、下記一般式(1)〜(7)で示されるアリール基が好ましい。
上記式(1)〜(7)中、R69は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数7〜10のアラルキル基を示し、R70〜R72はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基又はハロゲン原子を示し、Arは置換又は未置換のアリーレン基を示し、Dは上記一般式(III)で表される基を示し、cは上記一般式(II)におけるc1、c2、c3又はc4に対応するものであり、0又は1を示し、sは0又は1を示し、tは1〜3の整数を示す。
また、上記式(7)で示されるアリール基におけるArとしては、下記式(8)又は(9)で示されるアリーレン基が好ましい。
上記式(8)、(9)中、R73及びR74はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、tは1〜3の整数を示す。
また、上記式(7)で示されるアリール基におけるZ’としては、下記式(10)〜(17)で示される2価の基が好ましい。
式(10)〜(17)中、R75及びR76はそれぞれ水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されたフェニル基、または未置換のフェニル基、炭素数7〜10のアラルキル基、又は、ハロゲン原子を示し、Wは2価の基を示し、v及びwはそれぞれ1〜10の整数を示し、tはそれぞれ1〜3の整数を示す。
また、上記式(16)〜(17)中、Wは下記式(18)〜(26)で示される2価の基であることが好ましい。なお、式(25)中、uは0〜3の整数を示す。
また、上記一般式(II)におけるAr5の具体的構造としては、kが0のときは上記Ar1〜Ar4の具体的構造として例示したアリール基であり、kが1のときは上記Ar1〜Ar4の具体的構造として例示したアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基である。このとき、Ar5として示されるアリール基又はアリーレン基中のcは、上記一般式(II)中のc5に相当する。
また、上記一般式(I)で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物(I−1)〜(I−59)が挙げられる。なお、上記一般式(I)で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。また、下記表中、結合手は記載されているが末端に置換基が記載されていないものは末端にメチル基を有するものを示す。
また、上記一般式(I)で示される化合物は、下記一般式(IV)で示される化合物であることが特に好ましい。
[式(IV)中、X1、X2及びX3は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリール基、炭素数7〜10のアラルキル基、置換もしくは未置換のスチリル基、置換もしくは未置換のブタジエン基、又は、置換もしくは未置換のヒドラゾン基を示し、R1、R2及びR3は各々独立に、炭素数1〜18の1価の有機基を示し、L1、L2及びL3は各々独立に、アルキレン基を示し、p1、p2及びp3は各々独立に、0〜2の整数を示し、q1、q2及びq3は、0又は1を示し、(q1+q2+q3)≧1の条件を満たす。]
ここで、上記一般式(IV)中、R1、R2及びR3は各々独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜18の1価の炭化水素基、又は、−(CH2)r−O−R4で表わされる基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基、又は、−(CH2)r−O−R4で表わされる基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。なお、R4は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、環を形成してもよいが、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの脂肪族炭化水素基であることが好ましく、rは1〜12の整数を示し、1〜4の整数であることが好ましい。
また、上記一般式(IV)中、L1、L2及びL3は各々独立に、枝分かれしてもよい炭素数1〜18のアルキレン基であることが好ましく、メチレン基であることがより好ましい。
また、上記一般式(IV)中、X1、X2及びX3は各々独立に、炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜4のアルキル基であることがより好ましい。
更に、上記一般式(IV)中、q1、q2及びq3は、(q1+q2+q3)≧2の条件を満たすことが好ましい。
上記一般式(IV)で表される電荷輸送性化合物としてより具体的には、例えば、下記表に示す化合物(No.1〜125)が挙げられる。なお、下記化合物1〜125は、一般式(IV)で示される化合物のX1、X2、X3、R1、R2、R3、L1、L2、L3、p1、p2、p3、q1、q2及びq3を、下記の表に示されるように組み合わせたものである。
上記一般式(I)で示される化合物は、例えば、ヒドロキシアルキル基を有するトリフェニルアミン化合物を硫酸ジアルキル又はヨウ化アルキル等と反応させてヒドロキシアルキル基をエーテル化する方法により容易に合成可能である。その場合、使用する試薬としては、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル等から任意に選ばれたものを用いることができ、ヒドロキシアルキル基に対して1〜3当量、好ましくは1〜2当量用いればよい。また、塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブトキシド、水素化ナトリウム及びナトリウム金属等から任意に選ばれたものを用いることができ、ヒドロキシアルキル基に対して1〜3当量、好ましくは1〜2当量用いればよい。また、反応は、0℃以上、使用溶剤の沸点以下の範囲内の温度で行うことができる。
また、反応の際に使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、N,N’−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン及び1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等が挙げられ、それらから選択された単独の溶媒或いは2〜3種の混合溶媒を使用することができる。また、反応によっては、層間移動触媒として、テトラ−n−ブチルアンモニウムアイオダイド等の4級アンモニウム塩を使用することができる。
保護層5には更に、結着樹脂として、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン、特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材などの高分子電荷輸送材を用いることもできる。
また、結着樹脂としては、フェノール樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、熱硬化性シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及びポリベンズイミダゾール樹脂などの熱硬化性樹脂が好ましく用いられ、特に、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、ウレタン樹脂等の架橋性樹脂が機械的強度の点から好ましく用いられる。更にこれらの中でも、フェノール樹脂及びエポキシ樹脂が特に好ましく用いられる。
フェノール樹脂としては、レゾルシン、ビスフェノールなど、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノールなどの水酸基を1個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの水酸基を2個含む置換フェノール類、ビスフェノールA、ビスフェノールZなどのビスフェノール類、ビフェノール類など、フェノール構造を有する化合物とホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等を酸触媒、又は、アルカリ触媒下で反応させ、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類、トリメチロールフェノール類のモノマー、及びそれらの混合物、又はそれらをオリゴマー化されたもの、およびモノマーとオリゴマーの混合物などが使用される。このうち、分子の構造単位の繰り返しが2〜20程度の比較的大きな分子がオリゴマー、それ以下のものがモノマーである。
上記酸触媒としては、例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸、リン酸などが挙げられる。また、アルカリ触媒としては、例えば、NaOH、KOH、Ca(OH)2、Mg(OH)2、Ba(OH)2、CaO、MgO等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物や酸化物、アミン系触媒、酢酸亜鉛および酢酸ナトリウムなどの酢酸塩類などが挙げられる。アミン系触媒としては、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。なお、塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる場合が多いため、減圧で留去させるか、酸で中和するか、シリカゲルなどの吸着剤や、イオン交換樹脂などと接触させることにより不活性化、あるいは、除去することが好ましい。
メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂としては、メチロール基がそのままのメチロールタイプ、メチロール基がすべてアルキルエーテル化されたフルエーテルタイプ、あるいは、フルイミノタイプ、メチロールとイミノ基の混合タイプなど種々のものが使用できるが、塗布液の安定性の観点から、エーテルタイプのものが好ましい。
ウレタン樹脂としては、多官能イソシアネート、イソシアヌレート、あるいは、これらをアルコールや、ケトンでブロックしたブロックイソシアネートなどが使用でき、塗布液の安定性の観点から、ブロックイソシアネート、あるいは、イソシアヌレートが好ましく、上記一般式(I)で表わされる化合物と混合、塗布後、加熱架橋することで保護層を形成することができる。
シリコーン樹脂としては、後述の一般式(VI)、あるいは、一般式(VII)で表わされる化合物などから誘導される樹脂を使用することができる。
上述の結着樹脂は1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、上記一般式(I)で表わされる化合物と上記結着樹脂との配合比(質量比)は、10:1〜1:5が好ましい。
また、保護層5に、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を所望の割合で混合した場合には、電荷輸送層2との接着性、熱収縮やハジキによる塗布膜欠陥などを抑制することができる。
保護層5には、保護層5の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式(VI)で表わされる化合物を添加することもできる。
Si(R30)(4−g)Qg (VI)
[式(VI)中、R30は水素原子、アルキル基又は置換もしくは未置換のアリール基を示し、Qは加水分解性基を示し、gは1〜4の整数を示す。]
上記一般式(VI)で表わされる化合物の具体例としては以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン(g=4);メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、3−(ヘプタフルオロイソプロポキシ)プロピルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン(g=3);ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン(g=2);トリメチルメトキシシラン等の1官能アルコキシシラン(g=1)等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには3及び4官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには1及び2官能のアルコキシシランが好ましい。
また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、KP−85、X−40−9740、X−40−2239(以上、信越シリコーン社製)、及びAY42−440、AY42−441、AY49−208(以上、東レダウコーニング社製)等を用いることができる。
また、保護層5には、その強度を高めるために、下記一般式(VII)に示すような2つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
B−(Si(R40)(3−a)Qa)2 (VII)
[式(VII)中、Bは2価の有機基を示し、R40は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Qは加水分解性基を示し、aは1〜3の整数を示す。]
上記一般式(VII)で表わされる化合物として具体的には、下記化合物(VII−1)〜(VII−16)を好ましいものとして挙げることができる。
また、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、トルク低減のため、保護層5には下記一般式(VIII)で表される繰り返し構造単位を持つ環状化合物又はその誘導体のうちの少なくとも一種を含有させることが好ましい。
上記式(VIII)中、A1及びA2はそれぞれ独立に1価の有機基を示す。
上記一般式(VIII)で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、1,3,5−トリメチル−1,3,5−トリフェニルシクロトリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル−1,3,5,7,9−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、3−(3,3,3−トリフルオロプロピル)メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は1種を単独で用いてもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。
また、保護層5には、残留電位を下げるために導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、2種以上を組み合わせて用いることもできる。2種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層5の透明性の観点から、0.3μm以下が好ましく、0.1μm以下が特に好ましい。
更に、保護層5には、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を改善するために、各種粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、併用してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子を挙げることができる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径1〜100nm、好ましくは10〜30nmの酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。最表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から保護層5の全固形分中の0.1〜50質量%の範囲、好ましくは0.1〜30質量%の範囲で用いられる。
ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、球状で、平均粒子径1〜500nm、好ましくは10〜100nmの、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。電子写真感光体における保護層5中のシリコーン粒子の含有量は、保護層5の全固形分中の0.1〜30質量%の範囲であり、好ましくは0.5〜10質量%の範囲である。
また、その他の粒子としては、4弗化エチレン、3弗化エチレン、6弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系粒子や”第8回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 p89”に示される様な、上記フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ZnO−Al2O3、SnO2−Sb2O3、In2O3−SnO2、ZnO−TiO2、ZnO−TiO2、MgO−Al2O3、FeO−TiO2、TiO2、SnO2、In2O3、ZnO、MgO等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。
また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。シリコーンオイルとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層5を形成するための組成物中に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、あるいは加圧下などで含浸処理してもよい。
また、保護層5には、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層5にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「Sumilizer BHT−R」、「Sumilizer MDP−S」、「Sumilizer BBM−S」、「Sumilizer WX−R」、「Sumilizer NW」、「Sumilizer BP−76」、「Sumilizer BP−101」、「Sumilizer GA−80」、「Sumilizer GM」、「Sumilizer GS」以上住友化学社製、「IRGANOX1010」、「IRGANOX1035」、「IRGANOX1076」、「IRGANOX1098」、「IRGANOX1135」、「IRGANOX1141」、「IRGANOX1222」、「IRGANOX1330」、「IRGANOX1425WL」、「IRGANOX1520L」、「IRGANOX245」、「IRGANOX259」、「IRGANOX3114」、「IRGANOX3790」、「IRGANOX5057」、「IRGANOX565」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブAO−20」、「アデカスタブAO−30」、「アデカスタブAO−40」、「アデカスタブAO−50」、「アデカスタブAO−60」、「アデカスタブAO−70」、「アデカスタブAO−80」、「アデカスタブAO−330」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールLS2626」、「サノールLS765」、「サノールLS770」、「サノールLS744」以上三共ライフテック社製、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「マークLA57」、「マークLA67」、「マークLA62」、「マークLA68」、「マークLA63」以上、旭電化社製、「スミライザーTPS」以上住友化学社製、チオエーテル系としては、「スミライザーTP−D」以上住友化学社製、ホスファイト系としては、「マーク2112」、「マークPEP・8」、「マークPEP・24G」、「マークPEP・36」、「マーク329K」、「マークHP・10」以上、旭電化社製が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。
保護層5は、上述した各構成材料を含む組成物を硬化させることにより形成することができる。
架橋性樹脂として、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などを用いる場合、これらの樹脂から合成時の触媒を除去するために、該樹脂をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチルなどの適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿などの処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。
イオン交換樹脂としては、例えば、アンバーライト15、アンバーライト200C、アンバーリスト15E(以上、ローム・アンド・ハース社製);ダウエックスMWC−1−H、ダウエックス88、ダウエックスHCR−W2(以上、ダウ・ケミカル社製);レバチットSPC−108、レバチットSPC−118(以上、バイエル社製);ダイヤイオンRCP−150H(三菱化成社製);スミカイオンKC−470、デュオライトC26−C、デュオライトC−433、デュオライト−464(以上、住友化学工業社製);ナフィオン−H(デュポン社製)などの陽イオン交換樹脂;アンバーライトIRA−400、アンバーライトIRA−45(以上、ローム・アンド・ハース社製)などの陰イオン交換樹脂が挙げられる。
また、無機固体としては、Zr(O3PCH2CH2SO3H)2、Th(O3PCH2CH2COOH)2などのプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体;スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサンなどのプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン;コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸などのヘテロポリ酸;ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸などのイソポリ酸;シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、CaO、MgOなどの単元系金属酸化物;シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類など複合系金属酸化物;酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイトなどの粘土鉱物;LiSO4、MgSO4などの金属硫酸塩;リン酸ジルコニア、リン酸ランタンなどの金属リン酸塩;LiNO3、Mn(NO3)2などの金属硝酸塩;シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体などのアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体;アミノ変性シリコーン樹脂などのアミノ基を含有するポリオルガノシロキサンなどが挙げられる。
保護層5を形成するための組成物には、必要に応じて有機溶剤を含有させることができる。かかる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;テトラヒドロフラン;ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;等の他、種々の溶媒が挙げられる。なお、電子写真感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系又はケトン系溶剤、あるいは、それらの混合系溶剤を用いることが好ましく、また、沸点が50〜150℃のものを用いることが好ましい。これらは任意に混合して使用することができる。溶媒量は任意に設定できるが、少なすぎると上記一般式(I)で表わされる化合物が析出あるいは固液分離したり、所望の膜厚が得られにくくなるため、保護層5を形成するための組成物中に含まれる固形分の合計1質量部に対して、0.5〜30質量部とすることが好ましく、1〜20質量部とすることがより好ましい。
さらに、保護層5を形成するための組成物に含まれる、上記一般式(I)で表わされる化合物や架橋性樹脂等を硬化させるために、酸性化合物等の硬化触媒を使用することが好ましい。上記一般式(I)で表される化合物の硬化のメカニズムは必ずしも明らかではないが、当該化合物と酸性化合物とを含む組成物を加熱することにより、上記化合物の架橋反応を進行せしめ、電気特性及び機械強度に優れた硬化膜(保護層5)を形成することができる。このとき、フェノール樹脂等の架橋性樹脂を併用することで、より緻密な架橋構造を形成することができ、機械強度が特に優れた硬化膜を形成することができる。
硬化温度は任意に設定可能であるが、好ましくは、室温から200℃であり、より好ましくは、100℃から150℃である。
硬化の際に用いられる酸性化合物としては、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化亜鉛等のルイス酸、塩酸、硫酸、リン酸、酢酸、フェノール、安息香酸、トルエンスルホン酸、フェノールスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらの中でも、成膜性や電気特性の観点から、フェノール及びスルホン酸類が好ましい。
加える酸性化合物の量は、上記一般式(I)で表わされる化合物100質量部に対して0.0001〜300質量部の範囲で任意に設定可能であるが、0.001〜150質量部であることが好ましい。また、上記一般式(I)で表わされる化合物は、1種を単独で用いてもよいが、2種以上を混合して用いてもよい。
また、上記酸性化合物以外の硬化触媒を更に加えてもよく、かかる硬化触媒としては、ビス(イソプロピルスルホニル)ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルp−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、2−メチル−2−(4−メチルフェニルスルホニル)プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、2−ニトロベンジルp−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類(g)ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミドのようなN−スルホニルオキシイミド類、(4−フルオロベンゼンスルホニルオキシ)−3,4,6−トリメチル−2−ピリドンのようなピリドン類、2,2,2−トリフルオロ−1−トリフルオロメチル−1−(3−ビニルフェニル)−エチル−4−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類などの光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、及び、無水カルボン酸化合物などが好ましく挙げられる。
プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア2500X、4167、X−47−110、3525、5225(商品名、キングインダストリー社製)等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えばBF3、FeCl3、SnCl4、AlCl3、ZnCl2等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。
オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートなどが挙げられる。
無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水n−カプロン酸、無水n−カプリル酸、無水n−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。
ルイス酸の具体例としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、ジブチル・ビス(アセチルアセトナト)スズ、トリス(アセチルアセトナト)鉄、トリス(アセチルアセトナト)ロジウム、ビス(アセチルアセトナト)亜鉛、トリス(アセチルアセトナト)コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの触媒の使用量は特に制限されないが、組成物中に含まれる固形分の合計100質量部に対して0.1〜20質量部であることが好ましく、0.3〜10質量部であることが特に好ましい。
また、硬度、接着性、可とう性などの膜特性の調整のために、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルビスフェノール類、フェノールエポキシ樹脂などのエポキシ含有化合物、テレフタル酸、マレイン酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸など、あるいは、それらの無水物を添加してもよい。添加量としては、上記一般式(I)で表わされる化合物1質量部に対し、0.05〜1質量部、好ましくは0.1〜0.7質量部で用いられる。
保護層5を形成するための組成物を電荷輸送層2上に塗布する場合、塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。そして、塗布後、塗膜を乾燥させることで保護層5を形成することができる。
なお、塗布の際には1回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。
また、上記組成物を架橋させて保護層5を形成する際に、硬化温度は100〜170℃とすることが好ましく、100〜160℃とすることがより好ましい。また、硬化時間は、好ましくは30分〜2時間、より好ましくは30分〜1時間であり、加熱温度を他段階に変化させてもよい。
架橋反応を行う雰囲気としては、窒素、ヘリウム、アルゴンなどのいわゆる酸化に対して不活性なガス雰囲気下で行うことにより、電気特性の悪化を防止することができる。不活性ガス雰囲気下で架橋反応を行う場合には、空気雰囲気下よりも硬化温度を高く設定することができ、その際の硬化温度は好ましくは100〜180℃、より好ましくは110〜160℃である。また、硬化時間は、好ましくは30分〜2時間、より好ましくは30分〜1時間である。
保護層5の膜厚は、0.5〜15μmが好ましく、1〜10μmがより好ましく、1〜5μmがさらに好ましい。
また、保護層5の25℃における酸素透過係数は、4×1012fm/s・Pa以下であることが好ましく、3.5×1012fm/s・Pa以下であることがより好ましく、3×1012fm/s・Pa以下であることがさらに好ましい。
ここで、酸素透過係数は層の酸素ガス透過のし易さを表す尺度であるが、見方を変えると、層の物理的な隙間率の代用特性と捕らえることもできる。なお、ガスの種類が変われば透過率の絶対値は変わるものの、検体となる層間で大小関係の逆転は殆どない。したがって、酸素透過係数は、一般的なガス透過のし易さを表現する尺度と解釈してよい。
長寿命感光体で表面への付着が課題となる酸化劣化物などは、例えばNOxやオゾンガスが感光層内部に浸透し、感光層の一部が化学的に劣化することなどによって生じると考えられる。従って、最表面層のガス透過が起こりにくいほど、すなわち、酸素透過係数が低いほど酸化劣化物などは生じにくく、高画質、長寿命に有利である。一方、酸化劣化物などが生じてしまった場合、これらが電子写真感光体最表面に付着したままの状態だと、画質に悪影響を及ぼす。従って、これら酸化劣化物などを、クリーニングブレード、ブラシなど何らかの方法で除去する必要があるが、長期に渡ってクリーニング部材の機能を安定化させるためには、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑材を付与することが効果的である。
感光層6には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。これらの添加剤は、感光層6を構成する下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2又は保護層5の少なくとも一層に添加することができる。
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。
また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受容性物質を含有させることができる。電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系やCl,CN,NO2等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。
以上、本発明の電荷輸送性膜を用いた電子写真感光体の好適な一例について説明したが、上記のものに限定されるものではない。例えば、図1に示した電子写真感光体100は、導電性支持体3上に、下引層4、電荷発生層1、電荷輸送層2及び保護層5が順次積層された構造を有しているが、電子写真感光体は、図2に示す電子写真感光体110のように、下引層を有していなくてもよい。また、図3に示す電子写真感光体120のように、保護層を有していなくてもよく、図4に示す電子写真感光体130のように、下引層及び保護層の両方を有していなくてもよい。また、図1〜4に示した電子写真感光体において、電荷発生層1と電荷輸送層2の積層順序はいずれが上層であってもよい。
なお、電子写真感光体120及び130のように電子写真感光体が保護層を有していない場合、電荷輸送層2を、上記一般式(I)で表わされる化合物を含む組成物の硬化物からなる第1の機能層とすることができる。このとき、電荷輸送層2に使用する電荷輸送材料としては、上記一般式(I)で表わされる化合物を単独で用いてもよいが、当該化合物と電荷輸送層2の説明において上述した電荷輸送材料とを組み合わせて用いてもよい。さらに、膜の強度や成膜性、電気特性を制御するために、任意の熱硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂を混合して用いることも可能である。
また、本発明の電子写真感光体は、感光層6を構成する層のうちのいずれか一層が上記一般式(I)で表わされる化合物を含む組成物の硬化物からなる第1の機能層であればよく、電子写真感光体100及び110のように電子写真感光体が保護層5を有する場合であっても、保護層5の代わりに、例えば電荷輸送層2が上記第1の機能層となっていてもよい。また、感光層6を構成する層のうち複数の層が上記第1の機能層となっていてもよく、例えば保護層5及び電荷輸送層2の両方が上記第1の機能層となっていてもよい。
また、電子写真感光体は、図5に示す電子写真感光体140のような、いわゆる単層型感光体であってもよい。この場合、感光層は、電荷発生材料と結着樹脂とを含有して形成される単層型感光層を有することとなり、この単層型感光層が、上記一般式(I)で表わされる化合物を含む組成物の硬化物からなる第1の機能層となる。ここで、電荷発生材料としては、機能分離型感光層における電荷発生層に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型感光層における電荷発生層及び電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様のものを用いることができる。単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、単層型感光層における固形分全量を基準として好ましくは10〜85質量%、より好ましくは20〜50質量%である。また、単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で、電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は単層型感光層における固形分全量を基準として5〜50質量%とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。単層型感光層の膜厚は、5〜50μm程度が好ましく、10〜40μmとすることがさらに好ましい。
(画像形成装置及びプロセスカートリッジ)
図6は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図6に示す画像形成装置200は、画像形成装置本体(図示せず)に、上記本発明の電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ30と、露光装置40と、転写装置50と、中間転写体60とを備える。なお、画像形成装置200において、露光装置40はプロセスカートリッジ30の開口部から電子写真感光体7に露光可能な位置に配置されており、転写装置50は中間転写体60を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体60はその一部が電子写真感光体7に当接可能に配置されている。
プロセスカートリッジ30は、ケース内に電子写真感光体7とともに帯電装置31、現像装置35、クリーニング装置37及び繊維状部材(歯ブラシ形状)39を、取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。
ここで、帯電装置31は、電子写感光体7を接触方式により帯電させるものである。また、現像装置35は、電子写真感光体7上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。
以下、現像装置35に使用されるトナーについて説明する。かかるトナーとしては、平均形状係数(ML2/A)が100〜150であることが好ましく、100〜140であることがより好ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が2〜12μmであることが好ましく、3〜9μmであることがより好ましい。このような平均形状係数及び体積平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。
トナーは、上記平均形状係数及び体積平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法;混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法;結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法;結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法;結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。
また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用することができる。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。
トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。
トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。
特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることもできる。
また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、C.I.ピグメント・レッド48:1、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピグメント・レッド57:1、C.I.ピグメント・イエロー97、C.I.ピグメント・イエロー17、C.I.ピグメント・ブルー15:1、C.I.ピグメント・ブルー15:3等を代表的なものとして例示することができる。
離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。
また、帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。
現像装置35に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はVブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。
現像装置35に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用できる。これらは、1種を単独で、又は2種以上を併用して使用できる。但し、平均粒径としては0.1〜10μmの範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは0.05〜2.0質量%、より好ましくは0.1〜1.5質量%の範囲である。
現像装置35に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えることができる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。
また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス(ジオクチルパイロフォスフェート)オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、o−メチルフェニルトリメトキシシラン、p−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。
有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。
粒子径としては、平均粒子径で好ましくは5nm〜1000nm、より好ましくは5nm〜800nm、さらに好ましくは5nm〜700nmでのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が0.6質量%以上であることが好ましい。
トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、1次粒径が40nm以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電生成物を除去するために好ましい。
また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。
クリーニング装置37は、繊維状部材(ロール形状)37aと、クリーニングブレード37bとを備える。
クリーニング装置37は、繊維状部材37a及びクリーニングブレード37bが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材37aとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材37aは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向にオシレーション可能に支持されていてもよい。繊維状部材37aとしては、ポリエステル、ナイロン、アクリル等や、トレシー(東レ社製)等の極細繊維からなる布状のもの、ナイロン、アクリル、ポリオレフィン、ポリエステル等の樹脂繊維を基材状又は絨毯状に植毛したブラシ状のもの等を挙げることができる。また、繊維状部材37aとしては、上述したものに、導電性粉末やイオン導電剤を配合して導電性を付与したり、繊維一本一本の内部又は外部に導電層が形成されたもの等を用いることもできる。導電性を付与した場合、その抵抗値としては繊維単体で1×102〜1×109Ωのものが好ましい。また、繊維状部材37aの繊維の太さは、好ましくは30d(デニール)以下、より好ましくは20d以下であり、繊維の密度は好ましくは2万本/inch2以上、より好ましくは3万本/inch2以上である。
クリーニング装置37には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物(例えば、放電生成物)を除去することが求められる。この目的を長期に渡って達成すると共にクリーニング部材の機能を安定化させるために、クリーニング部材には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質(潤滑成分)を供給することが好ましい。
例えば、繊維状部材37aとしてロール状のものを用いる場合、金属石鹸、ワックス等の潤滑性物質と接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好ましい。クリーニングブレード37bとしては、通常のゴムブレードが用いられる。このようにクリーニングブレード37bとしてゴムブレードを使用する場合には、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することは、ブレードの欠けや磨耗を抑制することに特に効果的である。
以上説明したプロセスカートリッジ30は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
露光装置40としては、帯電した電子写真感光体7を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置40の光源としては、半導体レーザ、LEDアレイ等の光源を用いることができるが、記録速度の点から、マルチビーム方式の面発光レーザーを用いることが好ましい。
転写装置50としては、電子写真感光体7上のトナー像を被転写媒体(例えば、中間転写体60)に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。
中間転写体60としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体60の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。
なお、上述した電子写真感光体を使用する際には、プリント用紙からの紙粉やタルク等が発生し、それが電子写真感光体へ付着し易く、また上記電子写真感光体は耐磨耗性が高いため、紙粉やタルク等の除去が困難である。従って、紙粉やタルク等の付着を防止し、安定した画像を得るために、中間転写体60を用いることが好ましい。
また、被転写媒体とは、電子写真感光体7上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体7から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体60を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。
図7は、本発明の画像形成装置の他の一実施形態を示す模式図である。図7に示す画像形成装置210は、電子写真感光体7が画像形成装置本体に固定され、帯電装置32、現像装置35及びクリーニング装置37がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、帯電装置32は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えている。
画像形成装置210においては、電子写真感光体7とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置32、現像装置35及びクリーニング装置37が画像形成装置本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。
上述した本発明の電子写真感光体は、耐磨耗性に優れるため、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置32、現像装置35又はクリーニング装置37をそれぞれ本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、1プリント当りの部材コストを低減することができる。また、これらの装置のうち2つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもでき、それにより1プリント当りの部材コストをさらに低減することができる。
なお、画像形成装置210は、帯電装置32、現像装置35及びクリーニング装置37がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置200と同様の構成を有している。
図8は、本発明の画像形成装置の他の一実施形態を示す模式図である。画像形成装置220は、プロセスカートリッジ30を4つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置220では、中間転写体60上に4つのプロセスカートリッジ30がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置220は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置200と同様の構成を有している。
タンデム方式の画像形成装置220では、各色の使用割合により各電子写真感光体の磨耗量が異なってくるために、各電子写真感光体の電気特性が異なってくる傾向がある。これに伴い、トナー現像特性が初期の状態から除々に変化してプリント画像の色合いが変化し、安定な画像を得ることができなくなる傾向にある。特に、画像形成装置を小型化するために、小径の電子写真感光体が使用される傾向にあり、30mmφ以下のものを用いたときにはこの傾向が顕著になる。ここで、電子写真感光体に本発明の電子写真感光体の構成を採用すると、その直径を30mmφ以下とした場合にもその表面の磨耗が十分に抑制される。したがって、本発明の電子写真感光体は、タンデム方式の画像形成装置に対して特に有効である。
図9は、本発明の画像形成装置の他の一実施形態を示す模式図である。図9に示した画像形成装置230は、1つの電子写真感光体で複数の色のトナー画像を形成させる、所謂4サイクル方式の画像形成装置である。画像形成装置230は、駆動装置(図示せず)により所定の回転速度で図中の矢印Aの方向に回転される感光体ドラム7を備えており、感光体ドラム7の上方には、感光体ドラム7の外周面を帯電させる帯電装置32が設けられている。
また、帯電装置32の上方には面発光レーザーアレイを露光光源として備える露光装置40が配置されている。露光装置40は、光源から射出される複数本のレーザービームを、形成すべき画像に応じて変調すると共に、主走査方向に偏向し、感光体ドラム7の外周面上を感光体ドラム7の軸線と平行に走査させる。これにより、帯電した感光体ドラム7の外周面上に静電潜像が形成される。
感光体ドラム7の側方には現像装置35が配置されている。現像装置35は回転可能に配置されたローラ状の収容体を備えている。この収容体の内部には4個の収容部が形成されており、各収容部には現像器35Y,35M,35C,35Kが設けられている。現像器35Y,35M,35C,35Kは各々現像ローラ36を備え、内部に各々Y,M,C,Kの色のトナーを貯留している。
画像形成装置230でのフルカラーの画像の形成は、感光体ドラム7が4回転する間に行われる。すなわち、感光体ドラム7が4回転する間、帯電装置32は感光体ドラム7の外周面の帯電、露光装置30は、形成すべきカラー画像を表すY,M,C,Kの画像データのうちの何れかに応じて変調したレーザービームを感光体ドラム7の外周面上で走査させることを、感光体ドラム7が1回転する毎にレーザービームの変調に用いる画像データを切替えながら繰り返す。また現像装置35は、現像器35Y,35M,35C,35Kの何れかの現像ローラ36が感光体ドラム7の外周面に対応している状態で、外周面に対応している現像器を作動させ、感光体ドラム7の外周面に形成された静電潜像を特定の色に現像し、感光体ドラム7の外周面上に特定色のトナー像を形成させることを、感光体ドラム7が1回転する毎に、静電潜像の現像に用いる現像器が切り替わるように収容体を回転させながら繰り返す。これにより、感光体ドラム7が1回転する毎に、感光体ドラム7の外周面上には、Y,M,C,Kのトナー像が互いに重なるように順次形成されることになり、感光体ドラム7が4回転した時点で感光体ドラム7の外周面上にフルカラーのトナー像が形成されることになる。
また、感光体ドラム7の略下方には無端の中間転写ベルト60が配設されている。中間転写ベルト60はローラ61,63,65に巻掛けられており、外周面が感光体ドラム7の外周面に接触するように配置されている。ローラ61,63,65は図示しないモータの駆動力が伝達されて回転し、中間転写ベルト60を図9矢印B方向に回転させる。
中間転写ベルト60を挟んで感光体ドラム7の反対側には転写装置(転写器)50が配置されており、感光体ドラム7の外周面上に形成されたトナー像は転写装置50によって中間転写ベルト60の画像形成面に転写される。
また、感光体ドラム7を挟んで現像装置35の反対側には、感光体ドラム7の外周面に潤滑剤供給装置39及びクリーニング装置37が配置されている。感光体ドラム7の外周面上に形成されたトナー像が中間転写ベルト60に転写されると、潤滑剤供給装置39により感光体ドラム7の外周面に潤滑剤が供給され、当該外周面のうち転写されたトナー像を担持していた領域がクリーニング装置37により清浄化される。
中間転写ベルト60よりも下方側にはトレイ70が配置されており、トレイ70内には記録材料としての用紙Pが多数枚積層された状態で収容されている。トレイ70の左斜め上方には取り出しローラ71が配置されており、取り出しローラ71による用紙Pの取り出し方向下流側にはローラ対73、ローラ75が順に配置されている。積層状態で最も上方に位置している記録紙は、取り出しローラ71が回転されることによりトレイ70から取り出され、ローラ対73、ローラ75によって搬送される。
また、中間転写ベルト60を挟んでローラ65の反対側には転写装置52が配置されている。ローラ対73、ローラ75によって搬送された用紙Pは、中間転写ベルト60と転写器52の間に送り込まれ、中間転写ベルト60の画像形成面に形成されたトナー像が転写装置52によって転写される。転写装置52よりも用紙Pの搬送方向下流側には、定着ローラ対を備えた定着装置54が配置されており、トナー像が転写された用紙Pは、転写されたトナー像が定着装置54によって溶融定着された後に画像形成装置230の機体外へ排出され、排紙トレイ(図示せず)上に載置される。
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[現像剤の作製]
現像剤に関する以下の説明において、各物性値の測定は以下の方法にて行った。すなわち、トナー及び複合粒子の粒度分布については、マルチサイザー(日科機社製)を用い、アパーチャー径100μmのもので測定した。また、トナー及び複合粒子の平均形状係数ML2/Aは、下記式:
ML2/A=(最大長)2×π×100/(面積×4)
で計算された値を意味し、真球の場合、ML2/A=100となる。平均形状係数を求める為の具体的な手法として、トナー画像を光学顕微鏡から画像解析装置(LUZEX III、ニレコ社製)に取り込み、円相当径を測定して、最大長及び面積から、10個のトナー粒子について上記式のML2/Aの値を求め、その平均値を算出することにより求めた。
<トナー母粒子の製造>
(樹脂粒子分散液の調整)
スチレン370質量部、n−ブチルアクリレート30質量部、アクリル酸8質量部、ドデカンチオール24質量部及び四臭化炭素4質量部を混合して溶解させた溶液と、非イオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)6質量部及びアニオン性界面活性剤(ネオゲンSC、第一工業製薬社製)10質量部をイオン交換水550質量部に溶解させた溶液とを混合してフラスコ中で乳化重合を開始し、15分間ゆっくり撹拌しながら、この混合溶液に、過硫酸アンモニウム4質量部を溶解したイオン交換水50質量部を加えた。フラスコ内の窒素置換を行った後、混合溶液を攪拌しながら混合溶液の温度が70℃になるまでオイルバスで加熱し、5時間そのまま乳化重合を継続した。その結果、体積平均粒径150nm、ガラス転移温度(Tg)57℃、重量平均分子量(Mw)10900の樹脂粒子が分散された樹脂粒子分散液が得られた。この分散液の固形分濃度は40質量%であった。
(着色剤分散液(1)の調製)
カーボンブラック(モーガルL、キャボット社製)60質量部、ノニオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)6質量部及びイオン交換水240質量部を混合し、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間攪拌した。その後、アルティマイザーにて分散処理して体積平均粒子径が250nmである着色剤(カーボンブラック)粒子が分散された着色剤分散液(1)を調製した。
(着色剤分散液(2)の調整)
Cyan顔料(B15、大日精化社製)60質量部、ノニオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)5質量部及びイオン交換水240質量部を混合し、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間攪拌した。その後、アルティマイザーにて分散処理して体積平均粒子径が250nmである着色剤(Cyan顔料)粒子が分散された着色剤分散液(2)を調製した。
(着色剤分散液(3)の調整)
Magenta顔料(R122、大日精化社製)60質量部、ノニオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)5質量部及びイオン交換水240質量部を混合し、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間攪拌した。その後、アルティマイザーにて分散処理して体積平均粒子径が250nmである着色剤(Magenta顔料)粒子が分散された着色剤分散液(3)を調製した。
(着色分散液(4)の調整)
Yellow顔料(Y180、大日精化社製)90質量部、ノニオン性界面活性剤(ノニポール400、三洋化成社製)5質量部及びイオン交換水240質量部を混合し、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間攪拌した。その後、アルティマイザーにて分散処理して体積平均粒子径が250nmである着色剤(Yellow顔料)粒子が分散された着色剤分散液(4)を調製した。
(離型剤分散液の調製)
パラフィンワックス(HNP0190、日本精蝋社製、融点85℃)100質量部、カチオン性界面活性剤(サニゾールB50、花王社製)5質量部及びイオン交換水240質量部を混合し、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて10分間分散した。その後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、体積平均粒径が540nmである離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調製した。
(トナー母粒子Kの調製)
上記の樹脂粒子分散液を235質量部、着色剤分散液(1)を30質量部、離型剤分散液を40質量部、ポリ水酸化アルミニウム(Paho2S、浅田化学社製)を0.5質量部、イオン交換水を600質量部、それぞれ丸型ステンレス鋼鉄フラスコに投入し、ホモジナイザー(ウルトラタラックスT50、IKA社製)を用いて混合、分散した。その後、加熱用オイルバス中でフラスコ内の混合液を攪拌しながら45℃まで加熱し、45℃で25分間保持した。このとき、混合液中に体積平均粒径D50が4.5μmである凝集粒子が生成していることを確認した。さらに加熱用オイルバスの温度を上げて58℃で1時間保持したところ、D50は5.3μmとなった。この凝集体粒子を含む分散液に26質量部の樹脂粒子分散液を追加した後、加熱用オイルバスを用いて50℃で30分間保持した。この凝集体粒子を含む分散液に1N水酸化ナトリウムを追加して分散液のpHを7.0に調整した後、フラスコを密閉し、磁気シールを用いて攪拌を継続しながら80℃まで加熱し、4時間保持した。分散液を冷却した後、分散液中に生成したトナー母粒子を濾別し、イオン交換水で5回洗浄した後、凍結乾燥してトナー母粒子Kを得た。トナー母粒子Kの体積平均粒径D50は5.9μm、平均形状係数ML2/Lは134であった。
(トナー母粒子Cの調製)
着色粒子分散液(1)の代わりに、着色粒子分散液(2)を用いた以外はトナー母粒子Kの調整と同様にして、トナー母粒子Cを得た。このトナー母粒子Cの体積平均粒径D50は5.7μm、平均形状係数ML2/Aは130であった。
(トナー母粒子Mの調製)
着色粒子分散液(1)の代わりに、着色粒子分散液(3)を用いた以外はトナー母粒子Kの調整と同様にして、トナー母粒子Mを得た。このトナー母粒子Mの体積平均粒径D50は5.5μm、平均形状係数ML2/Aは135であった。
(トナー母粒子Yの調製)
着色粒子分散液(1)の代わりに、着色粒子分散液(4)を用いた以外はトナー母粒子Kの調整と同様にして、トナー母粒子Yを得た。このトナー母粒子Yの体積平均粒径D50は5.8μm、平均形状係数ML2/Aは133であった。
<キャリアの製造>
トルエン15質量部、スチレン−メタクリレート共重合体(成分比:90/10)2質量部及びカーボンブラック(R330、キャボット社製)0.2質量部を混合し、20分間スターラーで撹拌して分散処理した被覆液を調製した。次に、この被覆液とフェライト粒子(体積平均粒径:55μm)100質量部とを真空脱気型ニーダーに入れて、60℃で30分間撹拌した後、さらに加温しながら減圧して脱気し乾燥させることによりキャリアを得た。このキャリアは、1000V/cmの印加電界時の体積固有抵抗値が1×1010Ω・cmであった。
<K、C、M、Y色トナーの作製>
上記トナー母粒子K、C、M、Yのそれぞれ100質量部に対して、ルチル型酸化チタン(粒径:20nm、n−デシルトリメトキシシラン処理したもの)1質量部、シリカ(粒径:40nm、気相酸化法により調製し、シリコーンオイル処理したもの)2.0質量部、酸化セリウム(体積平均粒径:0.7μm)1質量部、及び、高級脂肪酸アルコール(分子量700の高級脂肪酸アルコール)とステアリン酸亜鉛と炭酸カルシウム(体積平均粒径:0.1μm)とを5:1:1(質量比)の割合で混合したものをジェットミルで粉砕し、体積平均粒径8.0μmとした混合材料0.3質量部を添加し、5Lヘンシェルミキサーで周速30m/sで15分間ブレンドした。その後、45μmの目開きのシーブを用いて粗大粒子を除去し、表面に添加剤が外添されたK(ブラック)、C(シアン)、M(マゼンタ)及びY(イエロー)色トナーを得た。
<現像剤の作製>
上記の表面に添加剤が外添されたK、C、M、Y色トナーのそれぞれについて、該トナー5質量部と、上記キャリア100質量部とを、V−ブレンダーを用いて40rpmで20分間攪拌し、212μmの目開きを有するシーブで篩分することにより現像剤を得た。
[I型ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造]
1,3−ジイミノイソインドリン30質量部及び三塩化ガリウム9.1質量部をジメチルスルホキシド230質量部に加え、160℃で6時間攪拌しながら反応させて赤紫色結晶を得た。得られた結晶をジメチルスルホキシドで洗浄した後、イオン交換水で洗浄し、乾燥してI型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶28質量部を得た。次に、得られたI型クロロガリウムフタロシアニンの粗結晶10質量部を60℃に加熱した硫酸(濃度97%)300質量部に十分に溶解させた溶液を、25%アンモニア水600質量部とイオン交換水200質量部との混合溶液中に滴下してヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を析出させた。この結晶を濾過により採取し、イオン交換水で洗浄した後、乾燥してI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料8質量部を得た。
このようにして得られたI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料について、X線回折スペクトルの測定を行った。その結果を図12に示す。なお、本実施例におけるX線回折スペクトルの測定は、粉末法によりCuKα特性X線(波長1.54178Å)を用いて、以下の条件で行った。
使用測定器:理学電機社製X線回折装置Miniflex
X線管球:Cu
管電流:15mA
スキャン速度:5.0deg./min
サンプリング間隔:0.02deg.
スタート角度(2θ):5deg.
ストップ角度(2θ):35deg.
ステップ角度(2θ):0.02deg.
[ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料HPC−1の製造]
上記の工程で得られたI型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料6質量部を、N,N−ジメチルホルムアミド80質量部及び外径1mmのガラス製球形状メディア350質量部とともに、ガラス製ボールミルを使用して25℃で168時間湿式粉砕処理した。このとき、結晶変換の進行度合いを湿式粉砕処理液の吸収波長測定によりモニターし、湿式粉砕処理後のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の600〜900nmの波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長(λMAX)が823nmであることを確認した。次いで、得られた結晶をアセトンを用いて洗浄し、乾燥して、CuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料5.5質量部を得た。得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料をHPC−1とする。得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料HPC−1のX線回折スペクトルを図13に、分光吸収スペクトルを図14にそれぞれ示す。なお、分光吸収スペクトルの測定は、日立製作所社製のU−2000型分光光度計を用いて行い、測定液は、室温下で酢酸n−ブチル8mLにヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料1mgを超音波分散させて調製した。また、比表面積値は、BET式の比表面積測定器(フローソープII2300、島津製作所社製)を用いて測定したところ、62.57m2/gであった。
[実施例1]
30mmφの円筒状アルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをRz=0.55μmとした。このセンタレス研磨処理したアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、2質量%水酸化ナトリウム溶液で1分間エッチング処理、中和処理、及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、10質量%硫酸溶液により基材表面に陽極酸化膜(電流密度1.0A/dm2)を形成した。水洗後、80℃の1質量%酢酸ニッケル溶液に20分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、表面に約6.5μmの陽極酸化膜が形成されたアルミニウム基材を得た。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.4°、16.6°、25.5°、28.3°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニン1質量部を、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)1質量部、及び酢酸n−ブチル100質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記の陽極酸化膜が形成されたアルミニウム基材上に浸漬塗布し、110℃で8分間加熱乾燥して、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記一般式(IX)で表わされるベンジジン化合物1.5質量部、上記化合物(I−12)1.0質量部、下記一般式(X)で表わされる構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量:50,000)3質量部、及び、ドデシルベンゼンスルホン酸0.005質量部を、クロロベンゼン6質量部、及び、テトラヒロドフラン14質量部の混合液に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、110℃で60分間の加熱を行なって硬化させ、膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
[実施例2]
まず、ホーニング処理を施した30mmφの円筒状アルミニウム基材を準備した。次に、ジルコニウム化合物(オルガチックスZC540、マツモト製薬社製)100質量部、シラン化合物(A1100、日本ユニカー社製)10質量部、イソプロパノール400質量部、及びブタノール200質量部を混合し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を上記のアルミニウム基材上に浸漬塗布し、150℃で10分間加熱乾燥して、膜厚約0.1μmの下引層を形成した。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、28.3°に強い回折ピークを持つ上述のヒドロキシガリウムフタロシアニン(HPC−1)1質量部を、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)1質量部、及び酢酸n−ブチル100質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記下引層上に浸漬コートし、110℃で10分間加熱乾燥して、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、下記一般式(XI)で表わされる電荷輸送性化合物2.0質量部、上記化合物(I−10)1.0質量部、上記一般式(X)で表わされる構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量:80,000)3質量部、及び、ドデシルベンゼンスルホン酸0.005質量部を、クロロベンゼン20質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、110℃で60分間の加熱を行なって硬化させ、膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
なお、上記化合物(I−10)としては、以下の手順で合成したものを用いた。すなわち、4,4’−ビスヒドロキシメチルトリフェニルアミン100gをテトラヒドロフラン600mlに溶解し、カリウムt−ブトキシド120gを加えて1時間撹拌した。これに、ヨウ化メチル160gをテトラヒドロフラン80mlに溶解させた溶液を、2時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、2時間よく撹拌したのち、分液ロートに移し、トルエン500mlを加え、蒸留水500mlで4回洗浄した。トルエン層を乾燥し、溶媒を留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、上記化合物(I−10)102gを得た。得られた化合物(I−10)のIRスペクトルを図10に示す。なお、IRスペクトルは、赤外分光光度計(HORIBA FT−730、堀場製作所社製)にて測定した。
[実施例3]
酸化亜鉛(比表面積値:16m2/g、平均粒径:70nm、テイカ社製試作品)100質量部をトルエン500質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤(KBM603、信越化学社製)1.5質量部を添加し、2時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、150℃で2時間焼き付けを行った。この表面処理を施した酸化亜鉛60質量部、硬化剤としてのブロック化イソシアネート(スミジュール3175、住友バイエルンウレタン社製)15質量部、及び、ブチラール樹脂(BM−1、積水化学社製)15質量部をメチルエチルケトン85質量部に溶解した溶液38質量部と、メチルエチルケトン25質量部とを混合し、1mmφのガラスビーズを用いてサンドミルにて2時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてのジオクチルスズジラウレート0.005質量部、及び、シリコーンオイル(SH29PA、東レダウコーニングシリコーン社製)0.01質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を30mmφの円筒状アルミニウム基材上に浸漬塗布し、160℃、100分間の加熱乾燥を行い、膜厚20μmの下引層を形成した。
次に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、28.3°に強い回折ピークを持つ上述のヒドロキシガリウムフタロシアニン(HPC−1)1質量部を、ポリビニルブチラール(エスレックBM−S、積水化学社製)1質量部、及び酢酸n−ブチル100質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記下引層上に浸漬コートし、110℃で10分間加熱乾燥して、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成した。
次に、上記化合物(I−1)1.0質量部、上記化合物(I−10)2.0質量部、上記一般式(X)で表わされる構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量:46,000)3質量部、及び、ドデシルベンゼンスルホン酸0.005質量部を、クロロベンゼン20質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、110℃で60分間の加熱を行なって硬化させ、膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
なお、上記化合物(I−1)としては、以下の手順で合成したものを用いた。すなわち、4−ヒドロキシメチルトリフェニルアミン100gをテトラヒドロフラン600mlに溶解し、カリウムt−ブトキシド60gを加えて1時間撹拌した。これに、ヨウ化メチル80gをテトラヒドロフラン40mlに溶解させた溶液を、2時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、2時間よく撹拌したのち、分液ロートに移し、トルエン500mlを加え、蒸留水500mlで4回洗浄した。トルエン層を乾燥し、溶媒を留去したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、上記化合物(I−1)82gを得た。得られた化合物(I−1)のIRスペクトルを図11に示す。なお、IRスペクトルは、赤外分光光度計(HORIBA FT−730、堀場製作所社製)にて測定した。
[比較例1]
電荷輸送層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−12)1.0質量部に代えて、上記一般式(XI)で表わされる電荷輸送性化合物1.0質量部を用いた以外は実施例1と同様にして電子写真感光体を得た。
[比較例2]
電荷輸送層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)1.0質量部を用いず、上記一般式(XI)で表わされる電荷輸送性化合物を3.0質量部用いた以外は実施例2と同様にして電子写真感光体を得た。
[比較例3]
電荷輸送層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−1)1.0質量部、及び、上記化合物(I−10)2.0質量部に代えて、上記一般式(IX)で表わされるベンジジン化合物3.0質量部を用いた以外は実施例3と同様にして電子写真感光体を得た。
[比較例4]
電荷輸送層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)1.0質量部に代えて、下記一般式(XII)で表わされるトリフェニルアミン化合物1.0質量部を用いた以外は実施例2と同様にして電子写真感光体を作製しようとしたが、形成した電荷輸送層が白濁してしまい、透明な層が得られなかった。
[電子写真感光体の特性評価試験]
実施例1〜3及び比較例1〜3で得られた電子写真感光体のそれぞれと、上記現像剤とを組み合わせてプリンター(DocuCentre Color 400CP、富士ゼロックス社製)に搭載し、画像形成装置を作製した。得られた画像形成装置を用い、常温常湿(20℃、50%RH)で感光体表面を−700Vに帯電させ、波長780nm、露光量4.9mJ/m2でフラッシュ露光を行った後、50msec後の感光体の表面電位を測定した。この操作を1万回繰り返し、1回目と1万回目の露光後の表面電位の差(ΔVL)を測定することで残留電位の安定性を評価し、感光体表面を帯電させた電位V0を計測してから1秒後の表面電位をV1として、{(V0−V1)/V0}×100で求められる暗減衰率(DDR)[%]を測定し、帯電性を評価した。
また、低温低湿(10℃、20%RH)の環境下にて1万枚の画像形成テストを行い、次いで高温高湿(28℃、75%RH)の環境下で1万枚の画像形成テストを行った。合計2万枚プリント後のプリント画質を目視にて観察し、画質欠陥の有無を評価した。更に、2万枚プリント後の感光体の磨耗量を測定し、1000回転当りの磨耗率を算出した。これらの結果を表23に示す。
表23に示した結果から明らかなように、本発明の電子写真感光体(実施例1〜3)によれば、比較例1〜3の電子写真感光体と比較して、帯電及び露光を繰り返し行なった場合における感光体の帯電電位の変動を抑制することができ、画質欠陥の発生を十分に抑制することができることが確認された。また、本発明の電子写真感光体(実施例1〜3)によれば、比較例1〜3の電子写真感光体と比較して、繰り返し画像形成を行った場合の感光体の摩耗率を低減することができることが確認された。
[実施例4]
実施例3の30mmφの円筒状アルミニウム基材を84mmφに変えた以外は実施例3と同様にして、アルミニウム基材上に下引層及び電荷発生層を順次形成した。次に、上記一般式(IX)で表わされるベンジジン化合物3質量部、及び、上記一般式(X)で表わされる構造単位を有する高分子化合物(粘度平均分子量:46,000)3質量部を、クロロベンゼン20質量部に溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、110℃で60分間の加熱を行ない、膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
次に、上記化合物(I−10)5.5質量部、レゾール型フェノール樹脂(PL−2215、群栄化学社製)7質量部、メチルフェニルポリシロキサン0.01質量部、及び、フェノールスルホン酸亜鉛0.01質量部を、イソプロパノール15質量部及びメチルエチルケトン5質量部に溶解させ、保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、140℃で40分間加熱して硬化させ、膜厚3μmの保護層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
[実施例5]
保護層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)5.5質量部に代えて、上記化合物(I−13)5.5質量部を用いた以外は実施例4と同様にして電子写真感光体を得た。
[実施例6]
フェノール30質量部、ホルマリン100質量部、及び、トリエチルアミン3質量部を混合し、80℃にて4時間加熱撹拌した。その後、得られた反応物を40℃にてロータリーエバポレータで留分が出なくなるまで濃縮し、フェノール樹脂Aを50質量部得た。
保護層形成用塗布液を調製する際に、レゾール型フェノール樹脂(PL−2215、群栄化学製)7質量部に代えて、上記フェノール樹脂A5質量部を用いた以外は実施例4と同様にして電子写真感光体を得た。
[実施例7]
実施例4と同様にして、アルミニウム基材上に下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次形成した。
次に、酸化錫粒子(S−2000、三菱マテリアル社製)10質量部、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン0.5質量部、及び、トルエン50質量部を混合し、90℃で2時間過熱撹拌した。次いで、トルエンを留去した後、130℃にて1時間加熱した。
このように処理して得られた酸化錫粒子1質量部、上記化合物(I−10)5.5質量部、レゾール型フェノール樹脂(PL−4852、群栄化学社製)7質量部、メチルフェニルポリシロキサン0.01質量部、及び、フェノールスルホン酸亜鉛0.01質量部を、イソプロパノール15質量部、及び、メチルエチルケトン5質量部に溶解させた。得られた溶液に、2mm径のガラスビーズ20質量部を加え、ペイントシェーカーで1時間分散した後、ガラスビーズをろ別し、保護層形成用塗布液を得た。得られた塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、140℃で40分間加熱して硬化させ、膜厚3μmの保護層を形成した。これにより、電子写真感光体を得た。
[比較例5]
保護層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)5.5質量部に代えて、下記式(XIII)で表わされる化合物5.5質量部を用いた以外は実施例4と同様にして電子写真感光体を得た。
[比較例6]
保護層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)5.5質量部に代えて、下記式(XIV)で表わされる化合物5.5質量部を用いた以外は実施例4と同様にして電子写真感光体を得た。
[比較例7]
保護層形成用塗布液を調製する際に、上記化合物(I−10)5.5質量部に代えて、上記式(XIII)で表わされる化合物5.5質量部を用いた以外は実施例4と同様にして電子写真感光体を得た。
[電子写真感光体の特性評価試験]
実施例4〜7及び比較例5〜7で得られた電子写真感光体のそれぞれと、上記現像剤とを組み合わせてプリンター(DocuCentre Color 500、富士ゼロックス社製)に搭載し、露光装置を発振波長780nmのマルチビーム面発光レーザーに改造して画像形成装置を得た。得られた画像形成装置を用い、常温常湿(20℃、50%RH)で感光体表面を−700Vに帯電させ、波長780nm、露光量4.9mJ/m2でフラッシュ露光を行った後、50msec後の感光体の表面電位を測定した。この操作を1万回繰り返し、1回目と1万回目の露光後の表面電位の差(ΔVL)を測定することで残留電位の安定性を評価し、感光体表面を帯電させた電位V0(−700V)を計測してから1秒後の表面電位をV1として、{(V0−V1)/V0}×100で求められる暗減衰率(DDR)[%]を測定し、帯電電位の安定性を評価した。
また、低温低湿(10℃、20%RH)の環境下にて1万枚の画像形成テストを行い、次いで高温高湿(28℃、75%RH)の環境下で1万枚の画像形成テストを行った後の感光体上への付着物の有無を目視にて観察し、A:付着物なし、B:部分的に付着物あり(全体の30%程度以下)、C:付着物あり(全体の30%程度を超える)、の3段階で評価した。
また、クリーニング性の評価として、上記の合計2万枚の画像形成テスト後の感光体への付着物の有無、及び画質への影響を目視にて観察し、A:付着物及び画質欠陥なし、B:軽微な付着物が見られ、部分的にスジ等の画質欠陥あり(全体の10%程度以下)、C:付着物が見られ、広範に画質欠陥あり(全体の10%程度を超える)、の3段階で評価した。
また、合計2万枚プリント後のプリント画質を目視にて観察し、画質欠陥の有無を評価した。更に、2万枚プリント後の感光体の磨耗量を測定し、1000回転当りの磨耗率を算出した。これらの結果を表24に示す。
表24に示した結果から明らかなように、本発明の電子写真感光体(実施例4〜7)によれば、比較例5〜7の電子写真感光体と比較して、帯電及び露光を繰り返し行なった場合における感光体の残留電位の変動及び暗減衰を抑制することができ、画質欠陥の発生を十分に抑制することができることが確認された。また、本発明の電子写真感光体(実施例4〜7)によれば、比較例5〜7の電子写真感光体と比較して、繰り返し画像形成を行った場合の感光体への付着物の発生を十分に抑制することができ、且つ、クリーニング性が良好であることが確認された。更に、本発明の電子写真感光体(実施例4〜7)によれば、比較例5〜7の電子写真感光体と比較して、感光体の摩耗率を低減することができることが確認された。
1…電荷発生層、2…電荷輸送層、3…導電性支持体、4…下引層、5…保護層、6…感光層、7…電子写真感光体、30…プロセスカートリッジ、31…帯電装置、35…現像装置、37…クリーニング装置、40…露光装置、50…転写装置、60…中間転写体、100,110,120,130,140…電子写真感光体、200,210,220,230…画像形成装置。