JP4875984B2 - 所望の平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールを製造する方法 - Google Patents

所望の平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールを製造する方法 Download PDF

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Description

発明の詳細な説明
(技術分野)
本出願は、米国仮出願第60/513886号からの優先権を主張し、その全体の開示を参照によって本明細書に引用する。
本発明は、少なくとも1週またはそれ以上かけて、アリピプラゾールを放出する放出制御製剤の製造に用いるためにとりわけ適用される、所望の粒径分布および平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールを製造する方法に関する。
(技術背景)
米国仮出願第60/513618号は、無菌懸濁液の形態での放出を制御した無菌のアリピプラゾールの注射製剤、および
(a)好ましくは、約5〜約100ミクロンであり、より好ましくは約10〜約90ミクロンの範囲内の所望の粒径分布および平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールバルク用を製造し、
(b)無菌のアリピプラゾールバルク用の無菌ベヒクルを製造し、
(c)無菌のアリピプラゾールバルクおよび無菌のベヒクルと併せて、無菌の最初の懸濁液を形成し、
(d)無菌の最初の懸濁液中のアリピプラゾールの平均粒径を約0.05〜約30ミクロンの範囲内に減少し、最終の無菌懸濁液を形成し、
(e)最終の無菌懸濁液を凍結乾燥し、所望の結晶多形(無水物、1水和物、または両方の混合物)のアリピプラゾールの無菌で凍結乾燥した懸濁液を形成する
工程を含む、無菌で凍結乾燥したアリピプラゾール製剤(該注射製剤の調製に使用)を調製するための方法を開示する。
凍結乾燥したアリピプラゾール製剤を製造するための上記の方法を実施するにあたり、無菌のアリピプラゾールおよび無菌のベヒクルを無菌で併せて、無菌懸濁液を形成し、無菌懸濁液を同様に凍結乾燥し、無菌の凍結乾燥粉末またはケークを形成するために、すべてが無菌である必要がある。従って、滅菌の方法は、ボールミル粉砕に対抗する結晶化法によって、所望の平均粒径および粒径分布の無菌のアリピプラゾールバルクを調製するために用いる。好ましくは衝突噴流結晶化法による工程中で製造される無菌のアリピプラゾールバルクは、所望の小粒径および狭い粒径分布、広い表面積、高い化学純度、および改良された結晶構造のために高い安定性を有する。
衝突噴流結晶化は、お互い正面で衝突する二つの噴流を用いる。気流のうち一つは、アリピプラゾール中、富溶液を運び、他方は水のような貧溶媒を運ぶ。二つの気流は、衝突による激しい乱気流および高度なマイクロ混合のために、急激な均一混合および過飽和を可能にさせるように、お互い衝突する。過飽和のこの即時の到達は、急速な核形成を開始する。一般に、アリピプラゾールの平均結晶粒度は、過飽和の上昇および貧溶媒の温度の減少に伴って減少する。それ故、最小の粒径を得るために、アリピプラゾールが豊富な溶液の最高濃度および貧溶媒の最低温度を有するのが好都合である。
無菌のアリピプラゾールバルクを形成するために用いる技術は、アリピプラゾール製剤の粒径が1ヶ月間かけて、血液系にその放出プロファイルを制御するために重要である。
アリピプラゾールのバッチ結晶化は、≧100ミクロンの粒子を生成することを見出してきた。しかしながら、上述した放出制御の無菌のアリピプラゾール注射製剤を製剤化する際、アリピプラゾールの粒径は、≦100ミクロンが95%である必要がある。さらに、狭い粒径分布が放出プロファイルの制御を維持するために必要である。バッチのアリピプラゾールの粉砕は、広い粒径分布が得られるので望ましくない。それ故、バッチ結晶化を用いる達成可能なものより狭い粒径分布を持つ、≦100ミクロンが95%まで、アリピプラゾールの粒径を減少することができる無菌のアリピプラゾールバルクを製造するための技術を用いるのに好都合である。
オシロらの米国特許第5006528号は、ドーパミン性神経遮断アンタゴニストであるアリピプラゾールを含む、7−[(4−フェニルピペラジノ)ブトキシ]カルボスチリルを開示する。
構造:
Figure 0004875984
を有するアリピプラゾールは、統合失調症を治療するのに有用である、非定型の抗精神病薬である。また、難水溶性である(室温で、<1μg/mL)。
リバーサイドらの米国特許第6267989号は、ナノ粒子組成物中で、結晶成長および粒子凝集を妨害する方法であって、ナノ粒子組成物は、ボールミル粉砕を含む水溶性で粉砕する技術を用いる最適で有効な平均粒径を減少することを開示する。
ミドラーらの米国特許第5314506号は、衝突噴流が医薬粒子の高度なマイクロ混合を達成するために用いられ、続いて小結晶の核形成および直接生成する高純度および高安定性の広い表面積を有する医薬的な粒子の直接的な結晶化法を開示する。
リンドルッドらの米国特許第6302958号は、小結晶の核形成および直接生成を有効にするために、衝突流体の薬品および溶媒の流れの隣接で超音波エネルギーを与えるために超音波処理を用いる医薬組成物のサブミクロン粒度の結晶を結晶化する方法および装置を開示する。
2002年4月29日に出願した米国仮出願第60/376414号、および2003年1月9日に出願した第60/439066号(発明の名称「噴霧を用いる結晶化システム」)に基づく、チェンコウ ウェイ(代理人明細書TU58NP)によって、2003年4月21日に出願した米国出願番号第10/419418号は、一溶液を噴霧することによって医薬品を結晶化し、二つ目の溶液を含む容器に噴霧した溶液を導入する方法を開示し、該溶液は混合して生成物を形成し、結晶化後の粉砕を必要としない。該出願を参照によって本明細書に引用する。
2002年5月10日に出願した米国仮出願第60/379351号、および2003年1月9日に出願した第60/439057号(発明の名称「均一化を用いる結晶化システム」)に基づく、チェンコウ ウェイ(代理人明細書TU59NP)によって、2003年4月21日に出願した米国出願番号第10/419647号は、最初の溶液を噴霧し、二番目の溶液に導入する最初の溶液および二番目の溶液から化学材料を結晶化する方法を開示し、噴霧した溶液および二番目の溶液を混合して生成物を形成する。該出願を参照によって本明細書に引用する。
(発明の簡潔な説明)
本発明によれば、所望の小粒径および狭い粒径分布、好ましくは約100ミクロン以下で、好ましくは25ミクロン以上の平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールバルクを製造する方法が提供され、該方法は、
(a)有機溶媒、好ましくはエタノール中で、好ましくは所望の高温で加熱して、アリピプラゾール溶液の噴流を提供し;
(b)溶液からアリピプラゾールの沈殿を生じることができる貧溶媒、好ましくは水の噴流を提供し、好ましくは、該貧溶媒がアリピプラゾール溶液の温度より低い所望の温度であり;
(c)アリピプラゾールの溶媒溶液の噴流および貧溶媒の噴流を互いに衝突させて、それらの衝突点で激しい乱流を生じさせ、各噴流は、核形成前に各流れの高度なマイクロ混合に達するのに充分な直線速度を有しており、それによってアリピプラゾール1水和物の結晶のスラリーの生成をもたらし;次いで
(d)所望の小粒径および狭い粒径分布のアリピプラゾール1水和物の結晶を回収する
工程を含む。
工程(d)の前に、米国特許第6302958号で記載の通り、超音波プローブにより超音波エネルギーを提供してもよく、その開示は参照によって本明細書に引用され、その方法では、その先端を二つの噴流間の決まった隙間内に置き、衝突噴流が核形成前に流体の高度なマイクロ混合に達しさせる。
さらに本発明において、好ましい方法は、
(a)約70〜約85℃の範囲内、好ましくは約75〜約80℃の温度で加熱したアリピプラゾールのエタノール溶液の噴流を提供し;
(b)約2〜約40℃の範囲内、好ましくは約20〜約35℃の温度で加熱する脱イオン水の噴流を提供し;
(c)アリピプラゾールおよび水溶液の噴流は、約0.20〜約0.30kg/分の範囲内、好ましくは約0.22〜約0.28kg/分のそれぞれの流速(内径0.02インチの噴流ノズルを用いる)で衝突し、その衝突点で高い乱流を生じさせ、各噴流は、核形成前に各流れの高度なマイクロ混合に達するのに充分な直線速度を有しており、それによって、アリピプラゾール1水和物の結晶スラリーを形成させ;次いで
(d)100ミクロン以下で好ましくは25ミクロン以上の平均粒径を有する、好ましくは約95%が100ミクロン以下の粒径を有するアリピプラゾール1水和物の結晶を回収する工程を含む、
約100ミクロン以下で、好ましくは25ミクロン以上の所望の平均粒径および狭い粒径分布を有する無菌のアリピプラゾールバルクを製造する方法である。
工程(d)の前に、上述の通り、超音波処理プローブの手段で超音波エネルギーを与えてもよく、その方法では、その先端を二つの噴流間の所定の隙間内に置き、噴流を衝突させて核形成前に流体の高度なマイクロ混合に達するようにする。
本発明の上記方法を実施するにあたり、貧溶媒とアリピプラゾールの有機溶媒溶液の体積比は、約0.5:1〜約1.5:1の範囲内、好ましくは約0.9:1〜約1.1:1がよい。
上記の方法は、25ミクロン以下の平均粒径を有するアリピプラゾール1水和物の結晶を製造するためにも用いられうる。
上述の通り、本発明の方法は、連続的な結晶化法において、核形成の開始前に均一な組成物を形成できるように流れの高度なマイクロ混合に達するようにお互い衝突する噴流を用いる。核形成および沈殿は、それらの溶媒中で、アリピプラゾールの溶解性における貧溶媒の付加効果を用いて開始する。
上で開示した超音波処理工程は、米国特許第6302958号で記載したとおり実施する。
本発明の方法によって生成するアリピプラゾールは、所望の粒径分布、好ましくは10%が<10ミクロン、50%が<35ミクロン、95%が<100ミクロンであって、約25〜約100ミクロンの範囲内の平均粒径を有する無菌のアリピプラゾールバルクを形成するのに用いられうる。
本発明の方法によって製造された無菌のアリピプラゾールバルクは、米国仮出願第10/419647号に記載したアリピプラゾールの注射製剤を形成するために水で懸濁され得る無菌の凍結乾燥したアリピプラゾール製剤の形成にも使用され得る。
本発明の方法のそれぞれの上記の態様は、本発明の衝突噴流結晶化方法に関する。
本発明の方法は、ミドラーらの米国特許第5314506号の実施例に開示される衝突噴流結晶化技術を用いる。
上述の通り、所望の小粒径および狭い粒径分布の無菌のアリピプラゾールバルク用は、上記のチェンドウ ウェイの出願(発明の名称:噴霧化を用いた結晶化システムおよび均一化を用いた結晶化システム)のそれぞれで記載され、クレームされている方法および装置を用いて製造され得るものであって、それらも本明細書に引用する。
(発明の詳細な説明)
本発明の方法は、以下の反応式:
Figure 0004875984
で示される。
本発明の方法を実施するにあたり、低発熱性のアリピプラゾールの出発原料は、所望の粒径の無菌アリピプラゾールが生成することを確保するために用いられる。低発熱性のアリピプラゾールの出発原料は、無水物の形態または1水和物の形態のどちらかであり得る。各原料は、本発明の衝突噴流結晶化方法によって、所望の1水和物の形態を得る。
本発明の方法は、核形成前に、流れの高度なマイクロ混合およびアリピプラゾール1水和物の結晶の形成に達する二つの衝突噴流を作り出す二つの噴流ノズルを用いる。二つの衝突噴流は、お互い直面するノズルで、実質的にお互い正反対であるべきである。噴流ノズルは、流体の流れが真正面から衝突し、作用するように調整し位置を合わせた。噴流ノズルが適当に調整され、適当な流速が選択されるとき、二つの流れは衝突の際、平面を形成する。
各工程の流れ、すなわちアリピプラゾール−有機溶媒気流および貧溶媒気流は、滅菌する。二つの工程の流れを滅菌するために、両方の流れは、好ましくはポリッシュフィルターで濾過し、次いで0.2ミクロンのフィルターのような適当な大きさのフィルターに通して滅菌濾過する。該アリピプラゾールの流れは、沈殿を防ぐために、例えば約80℃のような高温で濾過するべきである。
各溶液の温度および成分は、1)衝突噴流の上流で結晶化する材料はなく、2)充分な過飽和は、核形成を引き起こすために衝突噴流内で発展するように選択される。マイクロ混合は、核形成の開始前に、混合物の至る所で温度および成分的な均一性を作り出す。
アリピプラゾールの最小粒径を得るために、有機溶媒中でアリピプラゾールの可能な最高濃度を用いた。従って、有機溶媒中、好ましくはエタノール中のアリピプラゾールの開始溶液は、約0.01〜約0.1kg/Lのアリピプラゾール、好ましくは約0.04〜約0.06kg/Lのアリピプラゾールを含む。最も好ましい態様において、該アリピプラゾールは、約0.05kg/Lの量で存在する。
有機溶媒は、好ましくはエタノールであり、最も好ましくは約92〜約97%(残りは水である)エタノールがよい。
メタノール、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、酢酸またはイソプロピルアルコールもしくは2またはそれ以上のその混合液、または水混合液のような他の有機溶媒も用いられうる。
該貧溶媒は、好ましくは脱イオン水である。
該二つの流れ、すなわち有機溶媒中のアリピプラゾール溶液の流れおよび貧溶媒の流れは、それらが最小5m/sの高い直線速度でお互い真正面にて衝突させる噴流を特徴とする。流速は、該流れを運ぶために用いる噴流ノズルの直径および流れがノズルによって噴出される速度によって決定される。好ましい態様として、アリピプラゾール/溶媒の流れおよび貧溶媒の流れの各流速は、実質的に同一であるが、当然ながら反対方向である。
該流速は、適当な衝突に達するように選択される。例えば、内径0.02インチの噴流ノズルを用いる場合、流速は、約0.20〜約0.30kg/分、好ましくは約0.22kg/分〜約0.28kg/分の範囲内であり、より好ましくは約0.24kg/分〜約0.26kg/分であって、好ましくは約0.25kg/分がよい。
該流れの各温度は、生じたアリピプラゾールの最終的な粒径を決定するのに重要である。従って、アリピプラゾール−溶媒(好ましくは、エタノール)の流れは、約70〜約85℃の範囲の温度、好ましくは約75〜約80℃に加熱されるべきである。該貧溶媒の流れ(好ましくは、水)は、アリピプラゾール−溶媒の流れの温度より実質的に低い温度であるべきで、約2〜約40℃の範囲内であり、好ましくは約20〜約35℃であり、好ましくは約30℃がよい。
反対方向からお互い真正面で衝突する二つの流れは、激しい乱流のために急速で均質な攪拌および過飽和、ならびに衝突による高度な攪拌を生じる。過飽和の即時達成は、急速な核形成を開始する。一般に、平均的な結晶の大きさは、過飽和の増加および貧溶媒の温度の減少につれて減少する。アリピプラゾールの最小の粒径は、アリピプラゾール溶液の可能な最高濃度および貧溶媒の最低温度を用いて得られる。超音波処理は、さらにより小さな粒子を望む場合に使用される。
(図面の説明)
添付図に関して、衝突噴流結晶化の工程流れ図および本発明の方法を実施するにあたり使用されるジャケット付きの衝突晶析容器10を含む晶析装置を示す。衝突容器10の左右の側面に位置するアリピプラゾール富溶液(12)および貧溶媒(14)をそれぞれ含む、二つのジャケット付き容器12、14がある。これらの側面の容器12、14の両方は、衝突容器10から離れた場所に置かれる。それぞれ直径0.02インチを有する衝突噴流ノズル16、18は、10mm離れた場所に置かれる。衝突容器10は、必要なら、攪拌器11および明確に図示していない超音波発生装置(米国特許第6302958号に使用されたとおり)を含みうる。衝突容器10の出口31は、ライン33を経由して容器32で受けるように連結する。オーバーフローライン35は、衝突容器10およびライン33と連結し、衝突容器10内で定量を維持する目的がある。
上記の記述は、流れ図の無菌部分についてである。示すとおり非滅菌部分は、アリピプラゾールのエタノール溶液、好ましくは95%エタノール溶液を保存するための容器34を含み、ポンプ36を経由し、ポリッシュフィルター38および滅菌フィルター40を通し、容器12にくみ上げて上記の通り実施した。
噴流ノズル16、18は、それらが発する流体の流れが、容器10に直接連結される攪拌した衝突容器10の内側または分離した噴流チャンバー(図示していない)の内側で衝突するように置かれるべきである。該流体噴流は、すぐに激しい乱流の衝突を作り出すために衝突させなければならない。該二つの噴流ノズルは、それらがお互いに直面する方向にそれらの出口の先端を実質的に正反対に向けるように、すなわち、二つの噴流ノズルが頭上から見て、お互いに180度であるか、またはそれに近くなるように、好ましくは調整される。好ましくは、各噴流出口のノズルは、以下の材料をラインで移動させ、チャンバーの外側に送る手助けをするために、水平から僅かに例えば約10度下向きの角度を有することができる。
同様に、攪拌した衝突容器10の内側に直接置かれた二つの噴流ノズルは、それらが好ましくはお互いに直面する方向でそれらの出口の先端を有し、お互い実質的に向かい合うように調整される。該噴流ノズルがそのように置かれるとき、各ノズルは、0度から約15度まで水平方向から僅かに上向きまたは下向きの角度を有することができるが、好ましくは二つのノズルは、一つの流体の流れが反対のノズルの出口孔を通過しないようにするために水平から下向きの角度(約13度)を有する。
噴流ノズル16は、アリピプラゾール溶液を容器10(または分離噴流チャンバー)に輸送するために用い、一方噴流18は、同様に水の輸送に用いる。該噴流チャンバーまたは容器10の内側のノズル先端との距離は、各流体噴流の流体力学の形成が、衝突点まで本質的に損なわれないようにすべきである。それ故、該ノズル先端との間の最大の距離は、噴流ノズルの内側の流体の直線速度に依存して変化する。一般的に非粘性流体において、良い結果を得るために、噴流ノズル内の直線速度は、直線速度の上限がそれに達するのに関与する実践的な問題点によってのみ限定されるけれども、少なくとも約5m/秒であり、より好ましくは約10m/秒以上であって、最も好ましくは約20〜25m/秒であるべきである。直線速度および流速は、入り口の管および/または出口先端の直径を変更すること、および/または流体をノズルへ移送しノズルを経由する外力の強さを変更するような種々の公知方法によって共に制御可能である。各噴流装置は、所望の最終流体の成分比に達するように独立して操作可能である。他方に対する一つの噴流の所望の流量比が一致しないとき、好ましくは、差異は入り口の管を適当な大きさにすることによって補正する。例えば、もし貧溶媒に対して送り込まれる溶液の4:1の体積比が所望であるなら、送り込まれる溶液を移送する入り口の管は、貧溶媒を移送する入り口の管の2倍の直径にすべきである。噴流が噴流チャンバーの内側で衝突するとき、噴流チャンバー内側の流体に対する滞留時間は、通常とても短く、すなわち10秒以下である。
容器内の攪拌は、標準的な攪拌機11、好ましくはラッシュトン(Rushton)10タービン翼、インターミグ羽根(Intermig impellers)、またはスラリー懸濁液を攪拌するために適当な他の攪拌機によって提供される。該容器内側の良好な環境を提供するいずれかの羽根が使用され得る。しかしながら、該噴流が攪拌容器の内側で直接的に衝突するように調整されるとき、該容器内側の衝突噴流によって占有する空間を妨害しない攪拌機が好ましく、とりわけ例えばラッシュトンタービン翼がよい。該容器内側の衝突噴流は、攪拌機の排出の流れに置かれることが最も好ましく、継続モードで操作するとき(すなわち、等しい流出の流れ、維持された定容量)、攪拌容器10内の液体の高さは、羽根の高さの約2〜4倍の間が最も好ましい。
晶析は、好ましくは継続工程内で実施され、結晶分解が終了する適当な滞留時間は、攪拌容器の容積容量を調整することによって達成されるが、該混合物は、もしバッチプロセスを望むなら、成長時間のいずれか所望の長さに対する容器内に維持することができる。
手動の種晶添加は、例えば、攪拌容器10内で、移送ラインまたは噴流チャンバー自体の系内のいずれかの場所で実施されうる。ある状況において、継続的な噴流工程は、「セルフシーディング(self-seeding)」、すなわち噴流チャンバー(使用するなら)、移送ライン(使用するなら)または攪拌容器10の内側で形成する最初の結晶が、そこを経由して流れる材料の種晶として提供されうる。
マイクロ混合した材料は、噴流結晶化法の有益な結果に達するために充分過飽和にならねばならない。核形成の熱制御された開始だけではなく、貧溶媒が過飽和に影響を及ぼす核形成を開始するために使用されるとき、温度変化が生成物の結果にも影響を与える。一般的に、上限温度が選択される溶媒の沸点によってのみで限定されるけれど、良い結果は、約24℃〜70℃の範囲で噴流チャンバー内において、高度な過飽和を提供する貧溶媒に対するアリピプラゾールの体積比を用いて達成される。
使用され得る衝突容器の具体例は、本明細書に参照によって引用するミドラーによる米国特許第5314506号、およびリンドルッドによる米国特許第6302958号で開示される。
アリピプラゾール1水和物の100gバッチを製造するために、アリピプラゾール無水物N1の100gを4L容器12に付して、2Lの95%エタノールで75〜80℃にて溶解した。次いで、澄明な溶液を生成物リッチな2Lジャケット付き容器10に移して、75〜80℃を維持した。貧溶媒容器14において、次いで2Lの脱イオン水(DI)を加えて、28〜32℃に加熱した。両方の液体が所望の温度であるとき、二つの流れは、ポンプ20および22を経由して同時にくみ上げられて、それぞれ質量流量計24、26を通って、それぞれ無菌フィルター28、30を通して、内径0.02インチのノズル16、18によって、0.22〜0.28kg/分の速度で衝突させ、1水和物の結晶を生成する。該結晶は、衝突容器10で定容量を維持するために受容器32に継続的に移す。100gバッチを衝突するために、およそ5〜7分かかる。該スラリーを20〜25℃に冷却し、濾過し、200mLの脱イオン水で洗浄した。次いで、該ケークを35℃で減圧乾燥し、カールフィッシャー試験%(KF%)で約4%w/w.のおよそ100gのアリピプラゾール1水和物、H0を得る。
(実施例)
以下の作業実施例は、本発明の好ましい態様で示す。
実施例1
無菌バルクの活性医薬成分(API)のアリピプラゾールは、添付図で示されるとおりセットした装置を用いる超音波処理による衝突結晶化を用いて製造した。
下記の方法は、無菌のアリピプラゾールバルクを形成するために用いた。
1.4Lフラスコ34に、100gのアリピプラゾールを入れる。
2.2Lの95%エタノールを加える。
3.澄明な溶液になるまで、懸濁液を80℃まで加熱する。
4.アリピプラゾール温溶液を2Lのジャケット付き容器12に移して、75〜80℃に維持する。
5.2Lの脱イオン(DI)水を2Lのジャケット付き容器14に入れる。
6.DI水を2℃まで冷却する。
7.100mLの95%エタノールおよび100mLのDI水を衝突容器10に加えて、2℃に冷却する。
8.超音波処理を開始する(超音波処理は、米国特許第6302958号に記載のとおり用いられる120W出力の0.5インチプローブによって提供される)。
9.0.25kg/分で直径0.02インチのノズル16によって、アリピプラゾール溶液をくみ上げ、直径0.02インチのノズル18によって、0.25kg/分でくみ上げた2℃の水でそれに衝突する。
10.衝突容器10内で、定容量を維持するために該結晶を受容器32に継続的に移しながら、衝突容器10で新たに形成した結晶スラリーに超音波処理する。
11.衝突後、20〜25℃まで該スラリーを冷却する。
12.該スラリーを濾過する。
13.200mLのDI水で該ケークを洗浄する。
14.該湿ケークを減圧下、35℃で乾燥し、減少した粒径(95%が100ミクロン以下である)を持つ4.0%w/wのKF値のアリピプラゾール(97.9g)を得る。
実施例2
無菌バルクのAPIアリピプラゾールを衝突噴流結晶化法および添付図で示したとおりセットした装置を用いて製造した。
下記の手順を用い、無菌のアリピプラゾールバルクを形成する:
1.2000mLの95%エタノール中、100gのアリピプラゾールを懸濁する。それが澄明な溶液になるまで、懸濁液を80℃まで加熱する。
2.アリピプラゾール溶液を保存容器12にポリッシュ濾過して、80℃を維持する。
3.2000mLの水を別の保存容器14にポリッシュ濾過して、80℃まで加熱する。
4.内径0.02インチノズル16によって、0.25kg/分でアリピプラゾール溶液をくみ上げ、衝突容器10で回収される結晶スラリーを形成するために直径0.02インチのノズル18によって、0.25kg/分でくみ上げた30℃の水でそれに衝突する。
5.衝突容器10で定容量を維持するために受容器32に、それを継続的に移送しながら、衝突容器10で新たに生成した結晶スラリーを攪拌する。
6.衝突後、受容器32で室温まで該スラリーを冷却する。
7.該スラリーを濾過する。
8.該湿ケークを減圧下、35℃で乾燥し、減少した粒径(95%が100ミクロン以下である)を持つアリピプラゾールを100g(96%回収率)得る。
実施例3
アリピプラゾールの注射可能な水性懸濁液(200mgのアリピプラゾール/2mL、200mg/バイアル)を以下の通り製造した。
下記の成分を15℃(±5℃)に維持した3Lガラスジャケット付き容器に加え、無菌の一次懸濁液を生成する:
Figure 0004875984
該無菌懸濁液を約0.5時間、500〜1000rpmで混合し、次いで20”Hg(±5”Hg)減圧下で、さらに1時間、300〜500rpmで混合した。
2.5mLの上記懸濁液を滅菌したバイアルに無菌で満たして、次いで、滅菌した栓で無菌にて部分的に栓をした。バイアルは、凍結乾燥機に無菌で移送して、下記の循環によって凍結乾燥した:
(a)熱処理:−40℃で0.1〜1時間以上かけて生成物を凍結し、少なくとも−40℃で6時間保ち、
(b)−50℃またはそれ以下まで冷却管を冷却し、
(c)初期乾燥:およそ100ミクロンHgまでチャンバー圧を下げて、およそ2時間かけて、−5℃まで生成物の温度を上げて、−5℃および100ミクロンHgで少なくとも48時間初期乾燥を継続し、
(d)大気圧下、または無菌の窒素または空気を用いる部分減圧下でバイアルに栓をして、凍結乾燥機から除去し、
(e)適当なシールおよびラベルでバイアルを密封する。
添付図は、本発明の方法を実施するにあたり使用する衝突噴流結晶化法の流れ図の略図であり、結晶化容器を含む。

Claims (19)

  1. (a)アリピプラゾールの有機溶媒溶液の噴流を提供し;
    (b)溶液からアリピプラゾールの沈殿を生じることができる貧溶媒の噴流を提供し;
    (c)アリピプラゾールの溶媒溶液の噴流と貧溶媒の噴流とが互いに衝突し、それらの衝突点で激しい乱気流を作り出すようにし、かつ各噴流は、核形成前に各流れの高度なマイクロ混合に達するために充分な直線速度を有しており、それによりアリピプラゾール1水和物の結晶のスラリーを生じさせ;ついで
    (d)工程(c)で得られた、所望の小粒径が100ミクロン以下であるが25ミクロン以上の平均粒径を有する、狭い粒径分布のアリピプラゾール1水和物の結晶を回収し、ここで該結晶の少なくとも50%が35ミクロン未満の粒径であることを特徴とする、
    所望の小粒径および狭い粒径分布の無菌結晶のアリピプラゾール1水和物を、製粉せずに製造する方法。
  2. さらに、アリピプラゾールの小結晶の核形成および直接的な生成を有効にするために、該衝突噴流の隣接で超音波エネルギーを与える工程を含む、請求項1に記載の方法。
  3. 有機溶媒中で、アリピプラゾール溶液の噴流が70℃〜85℃の温度で加熱され、貧溶媒の噴流が他の噴流の温度より低い温度である、請求項1に記載の方法。
  4. アリピプラゾールのための有機溶媒が、エタノール、メタノール、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、酢酸またはイソプロピルアルコール、または1もしくはそれ以上の混合液、または水との混合液である、請求項1に記載の方法。
  5. アリピプラゾールのための有機溶媒が、エタノールまたはエタノールおよび水の混合液である、請求項1に記載の方法。
  6. 貧溶媒が水である、請求項1に記載の方法。
  7. 貧溶媒への有機溶媒中のアリピプラゾール溶液の体積比が、0.5:1〜1.5:1の範囲内である、請求項1に記載の方法。
  8. アリピプラゾール溶媒の流れおよび貧溶媒の流れが、1:1の体積比である、請求項1に記載の方法。
  9. 有機溶媒がエタノールを含み、アリピプラゾールのエタノール溶液が、70〜85℃の範囲内の温度で加熱される、請求項1に記載の方法。
  10. 2〜40℃の範囲内の温度で、該貧溶媒が水である、請求項1に記載の方法。
  11. 有機溶媒中、アリピプラゾール溶液の噴流および貧溶媒の噴流が、同一または異なっているが、内径0.02インチの噴流ノズルを用いた場合にそれぞれ0.2〜0.3kg/分の範囲内にある流速でお互い衝突する、請求項1に記載の方法。
  12. (a)70〜85℃の範囲内の温度で加熱された、エタノール/水中のアリピプラゾール溶液の噴流を提供し;
    (b)2〜40℃の範囲内の温度である、脱イオン水の噴流を与え;
    (c)アリピプラゾールのエタノール溶液の噴流および水の噴流を内径0.02インチの噴流ノズルを用いて、それぞれ0.2〜0.3kg/分の範囲内の流速にて衝突させ、その衝突点で高い乱流を生じさせて、核形成前に各流れの高度なマイクロ混合に達するように、アリピプラゾール1水和物の結晶スラリーを形成させ、次いで
    (d)工程(c)で得られた、95%が100ミクロン以下であるが25ミクロン以上の平均粒径を有するアリピプラゾール1水和物の結晶を回収し、ここで該結晶の少なくとも50%が35ミクロン未満の粒径であることを特徴とする、
    所望の小粒径および狭い粒度分布の無菌のアリピプラゾールを、製粉せずに製造する方法。
  13. さらに、アリピプラゾールの小結晶の核形成および直接的な生成を有効にするために、該衝突噴流の隣接で超音波エネルギーを与える工程を含む、請求項12に記載の方法。
  14. アリピプラゾールは、低発熱量を有し、アリピプラゾールの無水物の形態またはアリピプラゾールの1水和物の形態である、請求項12に記載の方法。
  15. アリピプラゾールのエタノール溶液が、0.01〜0.1kg/Lのアリピプラゾールを含む、請求項12に記載の方法。
  16. アリピプラゾール溶液の流れおよび水の流れが、それぞれ滅菌されている、請求項12に記載の方法。
  17. エタノール中のアリピプラゾールの流れおよび脱イオン水の流れは、それらがお互い衝突するとき、反対方向に流動し、平面を形成し、衝突による高い乱流および高度なマイクロ混合によって、急速な均質混合および過飽和をもたらし、それにより急速な核形成を開始する、請求項12に記載の方法。
  18. 平均の結晶粒度がエタノール中のアリピプラゾールの濃度および過飽和の増加および貧溶媒の温度減少に伴って減少する、請求項12に記載の方法。
  19. アリピプラゾールのエタノール溶液の流れおよび水の流れが、それぞれ1:1の体積比である、請求項12に記載の方法。
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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7714129B2 (en) * 2003-12-16 2010-05-11 Teva Pharmaceutical Industries Ltd. Methods of preparing anhydrous aripiprazole form II
PL1613598T3 (pl) * 2003-12-16 2012-03-30 Teva Pharma Sposób wytwarzania krystalicznych form aripiprazolu
CA2555289A1 (en) * 2004-02-05 2005-08-25 Ben-Zion Dolitzky Process for preparing aripiprazole
US7507823B2 (en) * 2004-05-06 2009-03-24 Bristol-Myers Squibb Company Process of making aripiprazole particles
CN102627603A (zh) * 2004-11-18 2012-08-08 斯索恩有限公司 制备结晶阿立哌唑的方法
EP1933814A2 (en) * 2005-09-15 2008-06-25 Elan Pharma International Limited Nanoparticulate aripiprazole formulations
US8158152B2 (en) * 2005-11-18 2012-04-17 Scidose Llc Lyophilization process and products obtained thereby
TW200800202A (en) * 2005-12-22 2008-01-01 Teva Pharma Processes for reducing particle size of aripiprazole
CA2650395A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-08 Schering Corporation Process for the precipitation and isolation of 6,6-dimethyl-3-aza-bicyclo [3.1.0] hexane-amide compounds by controlled precipitation and pharmaceutical formulations containing same
US8420122B2 (en) 2006-04-28 2013-04-16 Merck Sharp & Dohme Corp. Process for the precipitation and isolation of 6,6-dimethyl-3-aza-bicyclo [3.1.0] hexane-amide compounds by controlled precipitation and pharmaceutical formulations containing same
US8039621B2 (en) * 2006-10-24 2011-10-18 Cambrex Charles City, Inc. Process for preparing anhydrous Aripirazole type I
CN101172966B (zh) * 2007-04-06 2012-08-29 重庆医药工业研究院有限责任公司 一种阿立哌唑微晶的制备方法
BRPI0815382A2 (pt) * 2007-07-31 2015-02-10 Otsuka Pharma Co Ltd Métodos para a produção de suspensão de aripiprazol e formulação de secagem por congelamento
GB0909154D0 (en) * 2008-09-25 2009-07-08 Nanomaterials Tech Pte Ltd A process for making particles for delivery of drug nanoparticles
DE102009008478A1 (de) * 2009-02-11 2010-08-19 PHAST Gesellschaft für pharmazeutische Qualitätsstandards mbH Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung pharmazeutisch hochfeiner Partikel sowie zur Beschichtung solcher Partikel in Mikroreaktoren
CN101507908B (zh) 2009-04-09 2010-12-01 北京化工大学 微通道套管式装置及其应用
NZ602674A (en) 2010-03-22 2013-10-25 Mjr Pharmjet Gmbh Method and device for producing microparticles or nanoparticles
CN101816913B (zh) * 2010-05-20 2015-10-21 吴传斌 一种微球制造方法及制造设备
TWI589301B (zh) 2010-08-24 2017-07-01 大塚製藥股份有限公司 含有碳苯乙烯基衍生物與聚矽氧油及/或聚矽氧油衍生物之懸浮液以及塊體組成物
JP5893616B2 (ja) 2010-10-18 2016-03-23 大日本住友製薬株式会社 注射用徐放性製剤
PT2667856T (pt) 2011-01-24 2021-09-02 Otsuka Pharma Co Ltd Dispositivo médico contendo uma composição de bolo compreendendo aripiprazol como um ingrediente ativo, e uma composição de bolo compreendendo aripiprazol como um ingrediente ativo
JO3410B1 (ar) * 2011-06-07 2019-10-20 Otsuka Pharma Co Ltd تركيبة أريبيبرازول مجفف بالتبريد
CN102846543B (zh) 2011-06-27 2014-11-19 上海中西制药有限公司 一种阿立哌唑药物制剂及其制备方法
CN102850268B (zh) 2011-06-27 2015-07-15 上海中西制药有限公司 阿立哌唑ⅰ型微晶、阿立哌唑固体制剂及制备方法
JOP20200109A1 (ar) 2012-04-23 2017-06-16 Otsuka Pharma Co Ltd مستحضر قابل للحقن
US9732068B1 (en) * 2013-03-15 2017-08-15 GenSyn Technologies, Inc. System for crystalizing chemical compounds and methodologies for utilizing the same
US9051268B2 (en) 2013-04-30 2015-06-09 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Oral solid preparation comprising aripiprazole and method for producing oral solid preparation comprising aripiprazole
EP3865476B1 (en) * 2014-08-25 2024-08-14 Alkermes Pharma Ireland Limited Crystallization process of aripiprazole derivatives in extended release formulations for treatment of schizophrenia
CA3026452C (en) * 2015-06-04 2023-03-21 Crititech, Inc. Nozzle assembly and methods for use
CA3030972A1 (en) 2016-07-28 2018-02-01 Mylan Laboratories Ltd Process for preparing sterile aripiprazole formulation
CN111346397B (zh) * 2020-03-11 2022-03-29 天津大学 适用于溶析结晶或反应结晶的加料设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04231960A (ja) * 1990-06-15 1992-08-20 Merck & Co Inc 結晶の構造および大きさを改良する結晶化方法
JP2002535379A (ja) * 1999-01-29 2002-10-22 ブリストルーマイヤーズ スクイブ カンパニー 音波衝突ジェット結晶化装置及び方法
JP2003212852A (ja) * 2001-09-25 2003-07-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd アリピプラゾール水和物、アリピプラゾール無水物結晶、それらの製造方法及びそれらを含む製剤

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5006528A (en) * 1988-10-31 1991-04-09 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Carbostyril derivatives
US6267989B1 (en) * 1999-03-08 2001-07-31 Klan Pharma International Ltd. Methods for preventing crystal growth and particle aggregation in nanoparticulate compositions
YU34501A (sh) * 2000-05-26 2003-10-31 Pfizer Products Inc. Postupak reaktivne kristalizacije radi povećanja veličine čestica
EP1539319A4 (en) * 2002-04-29 2005-10-12 Bristol Myers Squibb Co CRYSTALLIZATION SYSTEM USING ATOMIZATION
US20040005257A1 (en) * 2002-05-10 2004-01-08 Chenkou Wei Crystallization system using homogenization
WO2004083183A1 (en) * 2003-03-21 2004-09-30 Hetero Drugs Limited Novel crystalline forms of aripiprazole
US20050032811A1 (en) * 2003-08-06 2005-02-10 Josiah Brown Methods for administering aripiprazole

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04231960A (ja) * 1990-06-15 1992-08-20 Merck & Co Inc 結晶の構造および大きさを改良する結晶化方法
JP2002535379A (ja) * 1999-01-29 2002-10-22 ブリストルーマイヤーズ スクイブ カンパニー 音波衝突ジェット結晶化装置及び方法
JP2003212852A (ja) * 2001-09-25 2003-07-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd アリピプラゾール水和物、アリピプラゾール無水物結晶、それらの製造方法及びそれらを含む製剤

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