JP4872429B2 - 不揮発性記憶素子 - Google Patents
不揮発性記憶素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4872429B2 JP4872429B2 JP2006113142A JP2006113142A JP4872429B2 JP 4872429 B2 JP4872429 B2 JP 4872429B2 JP 2006113142 A JP2006113142 A JP 2006113142A JP 2006113142 A JP2006113142 A JP 2006113142A JP 4872429 B2 JP4872429 B2 JP 4872429B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- variable resistance
- film
- interlayer insulating
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 68
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 66
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 33
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 28
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 28
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 description 24
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 15
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010037 TiAlN Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004541 SiN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004166 TaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004158 TaO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010282 TiON Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 or TiAlON Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
図1から図5は、本発明の第1の実施の形態を示す図である。図1に示すように、本実施の形態の不揮発性記憶素子20は、電極引き出し部が基板21上に形成された第1の導電層22と、基板21上の他の領域に形成された第2の導電層23と、第1の導電層22および第2の導電層23を含んだ基板21上に形成された第1の層間絶縁膜24とを有して構成される。
図6に本発明の第2の実施の形態における不揮発性記憶素子50の断面図を示す。図6で上部電極51の拡大電極部52が少なくとも2つの領域の可変抵抗膜53、54に挟まれて、挟まれた可変抵抗膜53、54上の上部電極52と接続されている。すなわち、図6で示すように、拡大電極部52の開口部55が拡大電極部52の下の接続電極56を覆い、開口部55は接続電極56の形状よりも少なくとも大きく形成されている。この両側に可変抵抗膜53、54が形成されている点が第1の実施の形態と本実施の形態の異なるところである。なお、図6に示すように可変抵抗膜53、54および上部電極51は、側面を含み全面を水素バリア膜58で覆われている。
図8に第3の実施形態の不揮発性記憶素子90の断面図を示す。第2の実施形態で示したように、微小な領域に集積された複数の記憶部を持つ不揮発性記憶素子として、例えば図8で示すクロスポイント型の構造からなる不揮発性記憶素子がある。
2,16 トランジスタ
3,21 (半導体)基板
4,24 第1の層間絶縁膜
5,32,94,94a,94b,94c,94d,94e 第1のプラグ
6,33,95 第2のプラグ
7,25,57 下部電極
8 キャパシタ絶縁膜
9,27,51 上部電極
10,30 第2の層間絶縁膜
11,14 配線
12,35,99 第3のプラグ
13,56 接続電極
15 キャパシタ
17,55,65 開口部
18 埋込絶縁膜
20,50,60,90 不揮発性記憶素子
22,76,77,103,103a,103b,103c,103d,103e 第1の導電層
23,100,101a,101b,101c,101d,101e 第2の導電層
26,53,54,91 可変抵抗膜
28,52,62,97 拡大電極部
29,98 接続電極
31 第3の層間絶縁膜
34,80,81,96,96a,96b,96c,96d,96e 第1の配線
36,101 第4のプラグ
37,102 第2の配線
38 第1のコンタクトホール
39 第2のコンタクトホール
40,41 コンタクトホール
45,58,82,89 水素バリア膜
61,70,71,92,92a,92b,92c,92d,92e 部分上部電極
64,68,69 部分可変抵抗膜
72,73,93,93a,93b,93c,93d,93e 部分下部電極
74 第5のプラグ
75 第6のプラグ
78 第7のプラグ
79 第8のプラグ
105 記憶部
110 半導体チップから見た要部
Claims (6)
- 基板上に形成された第1の導電層と、前記基板上の他の領域に形成された第2の導電層と、前記第1の導電層および前記第2の導電層を含んだ前記基板上に形成された第1の層間絶縁膜と、を有する電極引き出し部と、
前記第1の層間絶縁膜上に形成された下部電極と、前記下部電極上に形成された可変抵抗膜と、前記可変抵抗膜上に形成され前記可変抵抗膜の側面を含む全面を覆い、かつ外側に拡大して形成された上部電極と、を有する記憶部と、
前記上部電極のうちの外側に拡大された拡大電極部に接し、前記拡大電極部の下に形成された接続電極と、
前記下部電極と前記接続電極との側面を埋めて形成される第2の層間絶縁膜と、
前記接続電極および前記記憶部を覆い、かつ前記第2の層間絶縁膜上に形成された第3の層間絶縁膜と、
を備え、
前記可変抵抗膜の底面は前記接続電極の上面と直接接することなく、かつ前記上部電極は電気的に前記接続電極の上面に接続され、
前記上部電極のうちの前記拡大電極部は少なくとも2つの領域の前記可変抵抗膜に挟まれており、
前記拡大電極部の開口部は前記接続電極部を覆い、かつ前記接続電極部の形状よりも大きく、
前記可変抵抗膜が、前記下部電極と前記上部電極との間に電気的パルスもしくは磁気的パルスを印加することにより抵抗値を増加または減少する特性を有する記憶領域を構成し、前記抵抗値の変化により情報を記憶または読み出しを行うことを特徴とする不揮発性記憶素子。 - 前記下部電極は、
前記第1の層間絶縁膜を貫通する第1のプラグで前記第1の導電層に接続され、
前記第1の導電層に接続され、かつ前記第1、第2および第3の層間絶縁膜を貫通する第2のプラグにより、前記第3の層間絶縁膜上の第1の配線に接続され、
前記上部電極は、
前記接続電極を介して前記第1の層間絶縁膜を貫通する第3のプラグで前記第2の導電
層に接続され、かつ前記第2の導電層に接続された、前記第1、第2および第3の層間絶縁膜を貫通する第4のプラグにより、前記第3の層間絶縁膜上の第2の配線に接続されることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記上部電極から引き出される第2の導電層の方向が、前記下部電極より引き出される第1の導電層の方向と直交することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の不揮発性記憶素子。
- 前記上部電極の上に形成され、前記上部電極の側面を含む全面を覆う水素バリア膜をさらに備えたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の不揮発性記憶素子。
- 前記記憶部は複数の領域の部分可変抵抗膜と、前記部分可変抵抗膜上に形成されて前記部分可変抵抗膜を覆い、かつ外側に拡大して形成された部分上部電極と、複数の前記部分上部電極が単一の前記拡大電極部に接続された構成を備え、
複数の領域の前記部分可変抵抗膜は、複数の領域の部分下部電極上に形成され、
前記部分下部電極は、前記第1、第2および第3の層間絶縁膜を貫通する導電体により、複数の配線として引き出されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の不揮発性記憶素子。 - 前記記憶部は、前記上部電極、前記可変抵抗膜および前記下部電極がクロスポイント型の構造からなることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の不揮発性記憶素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006113142A JP4872429B2 (ja) | 2006-04-17 | 2006-04-17 | 不揮発性記憶素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006113142A JP4872429B2 (ja) | 2006-04-17 | 2006-04-17 | 不揮発性記憶素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007287903A JP2007287903A (ja) | 2007-11-01 |
JP4872429B2 true JP4872429B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=38759393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006113142A Active JP4872429B2 (ja) | 2006-04-17 | 2006-04-17 | 不揮発性記憶素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4872429B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8344345B2 (en) | 2007-12-26 | 2013-01-01 | Panasonic Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device having a resistance variable layer and manufacturing method thereof |
JP5039857B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2012-10-03 | パナソニック株式会社 | 記憶装置およびその製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002198494A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 強誘電体メモリ及びその製造方法 |
JP4167513B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2008-10-15 | シャープ株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
WO2006013819A1 (ja) * | 2004-08-02 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 抵抗変化素子とそれを用いた抵抗変化型メモリ |
-
2006
- 2006-04-17 JP JP2006113142A patent/JP4872429B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007287903A (ja) | 2007-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4948688B2 (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶素子、抵抗変化型不揮発性記憶装置及び抵抗変化型不揮発性記憶素子の製造方法 | |
JP5107252B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 | |
JP4228033B2 (ja) | 不揮発性記憶素子、不揮発記憶装置、及びそれらの製造方法 | |
US8592798B2 (en) | Non-volatile storage device and method for manufacturing the same | |
KR101048199B1 (ko) | 비휘발성 반도체 기억 장치 및 그 제조 방법 | |
TWI450390B (zh) | 使用電阻材料及內電極之非揮發性記憶體裝置及其相關之方法及處理系統 | |
JP3896576B2 (ja) | 不揮発性メモリおよびその製造方法 | |
WO2010050094A1 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 | |
JP4897089B2 (ja) | 抵抗変化型不揮発性記憶装置及びその製造方法 | |
JP4137994B2 (ja) | 不揮発性記憶素子、不揮発性記憶素子アレイおよびその製造方法 | |
JP4880894B2 (ja) | 半導体記憶装置の構造及びその製造方法 | |
JP5502339B2 (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
CN102290528B (zh) | 存储装置及其制造方法 | |
JP5242864B1 (ja) | 不揮発性記憶素子の製造方法 | |
JP2010177257A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2010251352A (ja) | 不揮発性記憶素子及びその製造方法 | |
JP5324724B2 (ja) | 不揮発性記憶装置の製造方法 | |
JP2010027753A (ja) | 不揮発性記憶素子およびその製造方法 | |
JP2008306011A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法 | |
JP5061469B2 (ja) | 不揮発性記憶素子およびその製造方法 | |
JP4872429B2 (ja) | 不揮発性記憶素子 | |
JP5555821B1 (ja) | 不揮発性記憶素子及びその製造方法 | |
JP2008091601A (ja) | 不揮発性記憶素子およびその製造方法 | |
WO2013140768A1 (ja) | 不揮発性記憶装置及びその製造方法 | |
JP2014082279A (ja) | 不揮発性記憶装置及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081023 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20091127 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110414 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111025 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111107 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4872429 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |