JP4870502B2

JP4870502B2 - 有機ｅｌシート製造装置

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Publication number: JP4870502B2
Application number: JP2006251824A
Authority: JP
Inventors: 紀雄森井; 博一榎本; 充孝村田
Original assignee: 株式会社ヒラノテクシード
Priority date: 2006-09-15
Filing date: 2006-09-15
Publication date: 2012-02-08
Anticipated expiration: 2026-09-15
Also published as: JP2008071726A

Description

本発明は、高分子型の有機ＥＬシートを製造する有機ＥＬシート製造装置に関するものである。

本出願人は先に有機ＥＬの材料を塗工するのに好適な塗工装置を提案している（例えば、特許文献１参照）。この塗工装置であると、フィルム基材上に有機ＥＬの材料を薄く塗工することができる。

ところで、高分子型の有機ＥＬシートを製造する方法としては、ロールツーロールの方式がある。この方式は、発光層の塗布をまず窒素雰囲気中で行い、次に、陰極の成膜、封止膜の成膜は真空雰囲気中で行っている。
特開２００３−１１７１公報

上記のようなロールツーロール方式の製造方法であると、窒素雰囲気から真空雰囲気にするために、各材料を塗布または成膜したフィルム基材を空気中に一旦取り出して移し変える必要があった。この移し変えるときに空気中にフィルム基材を暴露すると空気中の湿度と酸素の影響で有機膜がダメージを受け、有機ＥＬの性能が劣化してしまうという問題点がある。

そこで、本発明は上記問題点に鑑み、高分子型の有機ＥＬシートを製造する場合に、１つの装置で材料を塗工及び成膜することができる有機ＥＬシート製造装置を提供する。

本発明は、シート状のフィルム基材上に高分子型有機ＥＬを形成する複数の材料を塗工及び成膜して高分子型有機ＥＬシートを製造する有機ＥＬシート製造装置において、塗工室と、前記塗工室と連結された成膜室と、前記塗工室内部に設けられた前記フィルム基材を巻き取る第１巻きロールと、前記塗工室内部に設けられた塗工装置と、前記成膜室内部に設けられた前記フィルム基材を巻き取る第２巻きロールと、前記成膜室内部に設けられた成膜装置と、前記塗工室と前記成膜室とを大気圧、または、真空雰囲気にする内圧調整装置と、前記フィルム基材上に成膜するときに、前記塗工装置を前記塗工室から退避させる退避装置と、を有し、前記フィルム基材を前記第１巻きロールと前記第２巻きロールとの間を連結した状態で維持し、前記フィルム基材上に前記材料を塗工するときは、前記内圧調整装置によって前記塗工室と前記成膜室とを大気圧にした後に、前記第１巻きロールから前記フィルム基材を巻き出して前記塗工装置によって前記材料を塗工し、前記成膜室に搬入して前記第２巻きロールで巻き取り、前記フィルム基材上に成膜するときは、前記退避装置が前記塗工装置を前記塗工室から退避させ、前記内圧調整装置によって前記塗工室と前記成膜室とを真空雰囲気中にした後に、前記第２巻きロールから前記フィルム基材を巻き出して前記成膜装置によって前記材料を成膜して、前記塗工室に搬入して前記第１巻きロールで巻き取ることを特徴とする有機ＥＬシート製造装置である。

本発明によれば、第１巻きロールと第２巻きロールとの間でフィルム基材を交互にやり取りすることにより、高分子型有機ＥＬの材料を塗工及び成膜することができる。

以下、本発明の一実施形態の有機ＥＬシート製造装置（以下、単に製造装置という）１０について図１〜図６に基づいて説明する。

（１）有機ＥＬシート１の構成
製造装置１０について説明をする前に、この製造装置１０によって製造される有機ＥＬシート１について図２に基づいて説明する。

図２に示すように、この有機ＥＬシート１は、合成樹脂製のフィルム基材２の上にバリア層３が積層され、その上に透明電極であるＩＴＯ４が積層されている。その上に正孔注入層５が積層され、その上に有機ＥＬ発光層６が積層され、その上に陰極７が積層されている。最後に、正孔注入層５、有機ＥＬ発光層６、陰極７を外部と遮断し気密状態にするために封止膜８が設けられている。この中で、バリア層３、ＩＴＯ４、陰極７、封止膜８は真空雰囲気中で各材料が成膜して積層されたものであり、正孔注入層５と有機ＥＬ発光層６とは、大気圧下における窒素雰囲気中で各材料が塗工される。

以下、フィルム基材２上にこれら材料を塗工及び成膜する製造装置１０について説明する。

（２）製造装置１０の構成
製造装置１０の構成について図１に基づいて説明する。

製造装置１０は、塗工室１２、成膜室１４、塗工室１２と成膜室１４とを連結する連結室１６とより構成され、各部屋の内部は一体となり、かつ、気密状態となっている。塗工室１２、成膜室１４、連結室１６内部を大気圧下における窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気または真空雰囲気にするためにポンプ６０、ガス精製循環装置７０が設けられている。

以下、フィルム基材２の搬送路に沿ってその構造を説明する。

塗工室１２内部には、フィルム基材２を巻回した第１巻きロール１８が配置され、案内ロール２０、２２を経てバックアップロール２４が配置されている。このバックアップロール２４の下方には後から詳しく説明する塗工装置１００が配置されている。

フィルム基材２は、バックアップロール２４から案内ロール２６を通過し、加熱ロール２８が配置されている。この加熱ロール２８から４個の案内ロールを経て、塗工室１２の天井面からフィルム基材２が連結室１６内部に搬入される。

連結室１６は、水平方向に延び、その内部に５つの案内ロール３８が順番に設けられ、フィルム基材２を図１において左端部から右端部まで案内した後、成膜室１４の天井部からフィルム基材２を成膜室１４内部に搬入する。

成膜室１４に搬入されたフィルム基材２は、案内ロール４０、４２、４４を経て冷却ロール４６に至る。冷却ロール４６の左側、下側、右側にはそれぞれ成膜装置４８，５０，５２が設けられている。

フィルム基材２は、冷却ロール４６から案内ロール５４，５６を経て第２巻きロール５８に巻き取られる。

なお、以下の説明では、上記のようにフィルム基材２が第１巻きロール１８から第２巻きロール５８に走行する方向を順方向といい、第２巻きロール５８から第２巻きロール１８に走行する方向を逆方向という。

ガス精製循環装置７０は、塗工室１２、成膜室１４及び連結室１６が不活性ガス雰囲気中のときに、この不活性ガス雰囲気を維持するための装置であって、塗工室１２、成膜室１４及び連結室１６の内部を低湿度、低酸素状態で維持する。また、正孔注入層、発光層の塗布乾燥時に出た蒸発ガスを除去する。

（３）成膜装置４８、５０、５２の構成
次に、成膜装置４８、５０、５２の構造について説明する。

成膜装置４８は、スパッタ装置であり、冷却ロール４６を陰極側にし、成膜装置４８をプラス側（例えば、＋１５０〜２００Ｖ）にして、ターゲットに向かってイオンを発射し、冷却ロール４６上を搬送しているフィルム基材２に成膜を行う。

成膜装置５２も成膜装置４８と同様にスパッタ装置である。

成膜装置５０は、真空蒸着装置であり、空間５１中に材料を加熱して気化させ、フィルム基材２上に材料を真空蒸着させる。

（４）塗工装置１００
次に、毛細管型の塗工装置１００について説明する。

（４−１）塗工装置１００の構成
図３は、塗工装置１００の構成図である。

バックアップロール２４の下方には、フィルム基材２の下面に塗工液を塗工するための塗工ノズル１１４が配されている。この塗工ノズル１１４は、上部がくちばし状に尖った形状をなし、左右方向に沿って毛管状隙間１１６が設けられ、この毛管状隙間１１６の上端部が塗工液の吐出口１１８となっている。また、毛管状隙間１１６の下端部には、供給された塗工液を左右方向に均等に配分する空間である液溜め部１１９が設けられている。

塗工ノズル１１４は、その下方に配されたエアシリンダまたはモータよりなる上下動装置１２０によって上下動可能となっている（図３における点線の状態から実線の状態）。

塗工ノズル１１４の外部には、塗工液を供給するための塗工タンク１２２が設けられている。すなわち、塗工ノズル１１４の壁に固定された支持部１２４には垂直方向にネジ棒１２６が回転自在に配され、このネジ棒１２６にラック１２８が設けられている。このラック１２８に前記した塗工タンク１２２が取り付けられている。ネジ棒１２６は減速機付きのモータ１３０によって回動自在であり、モータ１３０を回動させるとネジ棒１２６は回転し、それと共にラック１２８、すなわち、塗工タンク１２２が塗工ノズル１１４に対し上下動する。また、支持部１２４は塗工ノズル１１４に固定されているため、塗工ノズル１１４が上下動装置１２０によって上下動するとそれと共に塗工タンク１２２も上下動する。

塗工タンク１２２は、塗工液が貯留されており、その上部が開口し、大気に開放された状態となっている。

塗工タンク１２２の底面から、塗工ノズル１１４の側面に向かって塗工液を供給するための供給パイプ１３４が設けられている。この供給パイプ１３４から供給された塗工液は液溜め部１１９に至る。

支持部１２４の上部から非接触式（例えば、光学式）の液面センサ１３２が突出している。この液面センサ１３２は、塗工タンク１２２に溜まっている塗工液の液面高さを検出する。

塗工タンク１２２に塗工液を供給するための補充タンク１３６が設けられている。この補充タンク１３６から塗工タンク１２２の上部に向かって補充パイプ１３８が延びている。補充パイプ１３８には、不図示のフィルターと電磁弁１３９が設けられている。また、補充タンク１３６は密閉式であり、コンプレッサなどの圧送装置１４０から送られてくるイナートガス（例えば、不活性ガス、窒素ガス（Ｎ_２））により塗工液を補充パイプ１３８へ供給する。そして、電磁弁１３９を操作することにより、一定量の塗工液を塗工タンク１２２に供給する。ここで、不活性ガスを送るのは防爆のためであるが、防爆を目的としない場合は、空気などのその他の気体でもよい。

この塗工装置１００を制御するためにマイクロコンピュータよりなる制御部１４２が設けられている。この制御部１４２には、バックアップロール２４を走行させるモータ１３１、上下動装置１２０、塗工タンク１２２を上下動させるモータ１３０、液面センサ１３２、電磁弁１３９，圧送装置１４０が接続されている。

制御部１４２は、液面センサ１３２によって塗工液の液面高さを検出して、その検出したデータに基づいてモータ１３０を駆動させて塗工タンク１２２を上下動させ、そして、塗工タンク１２２内の液面高さを下記で説明する所定の設定値になるようにフィードバック制御する。

また、塗工によって塗工液が少なくなり、液面センサ１３２によって検出した液面高さが基準値より低くなった場合には、制御部１４２は、圧送装置１４０を作動させてイナートガスによって圧力をかけ、補充タンク１３６から補充パイプ１３８を介して塗工液を送り、電磁弁１３９を操作することにより所定量補充して、常に塗工タンク１２２内部には、基準値以上の塗工液を貯留させる。これによって、従来のように廃棄される塗工液を最小限にすることができる。

（４−２）塗工方法
上記構成の塗工装置１００を用いて、フィルム基材２の下面に塗工液を塗工する塗工方法について図４（１）から（４）に基づいて順番に説明していく。

（４−２−１）第１工程（図４（１）参照）
初期状態では、バックアップロール２４によってフィルム基材２が搬送され、塗工ノズル１１４はその下方に待機した状態となっている。

（４−２−２）第２工程（図４（２）参照）
塗工ノズル１１４を上下動装置１２０によって上昇させ、吐出口１１８を塗工開始位置におけるフィルム基材２の下面の近傍に停止させる。

この場合に、塗工ノズル１１４と共に塗工タンク１２２も上昇してくるが、その上昇分だけでなくモータ１３０を用いて塗工タンク１２２に収納されている塗工液の液面高さを、塗工ノズル１１４の毛管状隙間１１６における上端部の位置（すなわち、吐出口）の位置になるように設定する。この設定には、図３に示すように、毛管状隙間１１６の液高さが、ｈ１だけ塗工タンク１２２に収納された液高さよりも高くなることを考慮する。このｈ１の高低差がある理由は、毛管状隙間１１６では毛細管現象によって塗工ノズル１１４の上端まで塗工液が上昇するからである。以下、この塗工タンク１２２内の液面高さを待機高さ設定値という。

（４−２−３）第３工程（図４（３）参照）
液面センサ１３２で検知しながら塗工タンク１２２をモータ１３０によって塗工ノズル１１４に対して上昇させ、塗工タンク１２２内の液面高さを待機高さ設定値よりも上昇させて、吐出口１１８から塗工液がフィルム基材２の下面に接液させる。以下、この塗工タンク１２２内の液面高さを接液高さ設定値という。

これによって、接液を早く確実に行うことができる。

なお、より確実に接液をさせるために、上下動装置１２０によって、塗工ノズル１１４の高さをやや上昇させてもよい。

（４−２−４）第４工程（図４（４）参照）
塗工液がフィルム基材２の下面に接液した状態のままで塗工タンク１２２の高さをモータ１３０によって微調整して、目的の塗工厚さになるように塗工タンク１２２内の液面高さを設定する（以下、この高さを塗工高さ設定値という）。そして、この塗工高さ設定値を液面センサ１３２で検知しながらフィードバック制御により維持しつつ、フィルム基材２の下面に塗工液を塗工しながら、バックアップロール２４を回転させてフィルム基材２を搬送する。これによって、フィルム基材２の下面に塗工液が塗工される。

（４−２−５）第５工程（図４（２）参照）
フィルム基材２の塗工終了位置まで塗工が終了すると、液面センサ１３２で検知しながら塗工タンク１２２の高さをモータ１３０によって下降させ、塗工タンク１２２内の液面高さを離液高さ設定値まで下げて、吐出口１１８から塗工液を吸引するようにして、フィルム基材２の下面から塗工液を離液させる。この離液高さ設定値は、接液高さ設定値と塗工高さ設定値より低い値であり、待機高さ設定値と同じ高さでもよい。

これによって、目的の位置で、塗工を終了することができ、膜厚の不安定領域の幅を狭くすることができる。

なお、この場合に更に離液を促進するために、塗工ノズル１１４を少しだけ下げてもよい。

上記のようにして、塗工タンク１２２内の液面高さを制御することによって、塗り始めと塗り終わりにおける膜厚の不安定な領域を狭くし、確実に塗工を行うことができる。

（４−３）退避構成
この塗工装置１００における塗工ノズル１１４全体が、塗工タンク１２２と共に塗工室１２から上下動装置１２０によって退避することができる。即ち、バックアップロール２４以外の塗工装置１００の部分が上下動装置１２０によって下方に移動し、塗工室１２の外部にある退避室６２に収納される。そして、この退避室６２と塗工室１２内部とは隔壁６４によって遮蔽される。

（５）有機ＥＬシート１の製造方法
次に、有機ＥＬシート１の製造方法について説明する。

なお、フィルム基材２上にバリア層３とＩＴＯ４が積層された製造中シートを使用するものとする。この製造中シートとは、フィルム基材２上に材料を塗布中、または、成膜中のものをいう。

まず、上記の製造中シートを第１巻きロール１８に巻回する。そして、案内ロール２０から順番にこの製造中シートを搬送路に沿って通し、第２巻きロール５８でその始端を巻き取る。これによって製造中シートが、第１巻きロール１８と第２巻きロール５８とを間を連結する。

次に、塗工室１２、連結室１６、成膜室１４をポンプ６０で不活性ガス雰囲気中の大気圧下にする。

次に、製造中シートを所定の走行速度で順方向に搬送させ、バックアップロール２４を通過するときに塗工装置１００によって水溶性よりなる正孔注入層５の材料を塗工する。そして、塗工した部分が６０℃〜８０℃に加熱された加熱ロールを通過するときにこの材料が乾燥し塗工が完了する。塗工が完了した製造中シートは連結室１６を経て成膜室１４に搬入され、１０℃〜３０℃に冷却された水冷式の冷却ロール４６を経て第２巻きロール５８に巻回される。

次に、全ての塗工が終了すると第２巻きロール５８に巻回されている製造中シートを第１巻きロール１８に逆方向で巻き戻す。この場合に最後まで塗工しないで第１巻きロール１８と第２巻きロール５８との間で連結状態を維持する。

次に、上記と同様にして、正孔注入層５が塗工された製造中シートを順方向に走行させて、有機溶媒よりなる有機ＥＬ発光層６の材料を塗工装置１００によって塗工する。

次に、正孔注入層５と有機ＥＬ発光層６が塗工された製造中シートを第２巻きロール５８に巻回する。但し、第１巻きロール１８と第２巻きロール５８との間で連結状態を維持する。

次に、塗工装置１００を退避室６２に退避させる。

次に、陰極７と封止膜８を成膜するために、塗工室１２、成膜室１４、連結室１６を不活性ガス雰囲気中からポンプ６０によって真空雰囲気中にする。

次に、第２巻きロール５８に巻かれている製造中シートを巻き出して逆方向に走行させ、成膜装置４８〜５２の中で２つの成膜装置を用いて陰極７と封止膜８を連続して成膜する。例えば、成膜装置５０で陰極７を真空蒸着し、成膜装置４８で封止膜８をスパッタリングする。

次に、これら成膜された製造中シートを連結室１６、塗工室１２を経て第１巻きロール１８で巻き取ることにより有機ＥＬシート１が完成する。

（６）効果
本実施形態の製造装置１０であると、フィルム基材２を空気中に一度も搬出しないため、空気中の湿度と酸素の影響で有機膜がダメージを受けることがない。

連結状態で、第１巻きロール１８と第２巻きロール５８との間で互いに巻き出し巻き取りを行うだけで連続して有機ＥＬシート１を生産できる。

塗工装置１００による毛細管現象を利用した塗工によって、高価な発光材料を無駄なく大面積に薄く均一に塗布することができる。

真空雰囲気中で成膜するときには塗工装置１００は退避室６２に退避しているため、塗工液の真空中での蒸発を防ぐと共に、塗工液である有機溶媒が乾燥して塗工ノズル１１４に有機膜がこびり付き洗浄が不可能になることがない。また、これら有機溶媒が蒸発して真空度が下がることがない。

（７）変更例
本発明は上記各実施形態に限らず、その主旨を逸脱しない限り種々に変更することができる。

（７−１）変更例１
上記実施形態では、フィルム基材２に予めバリア層３とＩＴＯ４とが積層されたものを用いたが、これに限らず、バリア層３とＩＴＯ４とを成膜装置４８、５０、５２を用いて成膜してもよい。

（７−２）変更例２
上記実施形態では、陰極７と封止膜８を連続して成膜したが、これに限らず１回ずつ成膜してもよい。

即ち、成膜装置４８で陰極７を成膜した後に第１巻きロール１８に巻き取る。そして再び第１巻きロール１８から製造中シートを順方向に巻き出し、成膜装置５２で封止膜８を成膜して、第２巻きロール５８で巻き取る。

（７−３）変更例３
上記実施形態では１つの成膜室１４で異なる成膜を行ったが、図５に示すように成膜室１４を２つ設け、連結室１６で互いを連結して、それぞれで成膜を行ってもよい。

（７−４）変更例４
上記実施形態では連結室１６で塗工室１２と成膜室１４を連結したが、これに代えて１つのチャンバー内部に区画壁６４を設け、塗工室１２と成膜室１４を設けてもよい。

（７−５）変更例５
本発明は、上記実施形態の以外の有機ＥＬシートとしては、例えば下記の構造のものも上記実施形態の製造装置１０で製造できる。

発光層と陰極の間に電子注入層を入れた有機ＥＬシート。

陰極が多層になっている有機ＥＬシート。

封止膜が多層になっている有機ＥＬシート。

封止膜を塗布工程と真空成膜工程の多層膜で製造する有機ＥＬシート。

フィルム基材上のバリア膜、陰極、発光層、正孔注入層、陽極、封止膜と構造が逆の有機ＥＬシート。

バリア性向上のため、フィルム基材２が金属箔となった有機ＥＬシート。

光取り出し方向がフィルム側ではなく、陰極側（透明な陰極にする）になった有機ＥＬシート。

封止膜の代わりにバリア付フィルムを張り合わせた有機ＥＬシート。

（７−６）変更例６
上記有機ＥＬシート以外に下記のシート状物も製造できる。

封止膜及びバリア膜を有機物と無機物の多層膜で行う場合である。有機物を塗布工程で行い、無機物を真空成膜で行う。

この場合でも。上記実施形態の製造装置１０により、有機物と無機物を塗布工程と真空成膜工程を順次繰り返すことができる。

（７−７）変更例７
上記有機ＥＬシート以外に下記のシート状物も製造できる。

反射防止膜等の光学フィルム製品にも適用できる。例えば、これら製品は、多層膜になっていることもあり、塗布工程と真空成膜工程により積層されている場合、上記実施形態の製造装置１０により製造することができる。

真空成膜工程と塗布工程を順次繰り返すこともできる。

（７−８）変更例８
上記有機ＥＬシート以外に下記のシート状物も製造できる。

フィルム基材等を用いたフレキシブル太陽電池も製造できる。例えば、塗布工程と真空成膜工程により積層する場合、上記実施形態の製造装置１０により製造することができる。

（７−９）変更例９
塗工装置１００としては、特開２００１−３２１７０９に示すオーバーフロー式のタンクを用いた毛細管型の塗工装置でもよい。

また、リップコーター、ダイコーター、特願２００６−２３９２４８に示すようなバキューム型の塗工装置、グラビアコーター、インクジェットコーターでもよい。

（７−１０）変更例１０
成膜装置４８〜５２が、イオンプレーティング、ＣＶＤ装置でもよい。

本発明の一実施形態を示す有機ＥＬシート製造装置の縦断面図である。有機ＥＬシートの縦断面図である。塗工装置の説明図である。塗工ノズルによって塗工液を塗工する場合の説明図である。変更例４の塗工装置の説明図である。変更例５の製造装置の説明図である。

符号の説明

１有機ＥＬシート
２フィルム基材
１０製造装置
１２塗工室
１４成膜室
１６連結室
１８第１巻きロール
２４バックアップロール
４８成膜装置
５０成膜装置
５２成膜装置
５８第２巻きロール
６０ポンプ
６２退避室
１００塗工装置

Claims

シート状のフィルム基材上に高分子型有機ＥＬを形成する複数の材料を塗工及び成膜して高分子型有機ＥＬシートを製造する有機ＥＬシート製造装置において、
塗工室と、
前記塗工室と連結された成膜室と、
前記塗工室内部に設けられた前記フィルム基材を巻き取る第１巻きロールと、
前記塗工室内部に設けられた塗工装置と、
前記成膜室内部に設けられた前記フィルム基材を巻き取る第２巻きロールと、
前記成膜室内部に設けられた成膜装置と、
前記塗工室と前記成膜室とを大気圧、または、真空雰囲気にする内圧調整装置と、
前記フィルム基材上に成膜するときに、前記塗工装置を前記塗工室から退避させる退避装置と、
を有し、
前記フィルム基材を前記第１巻きロールと前記第２巻きロールとの間を連結した状態で維持し、
前記フィルム基材上に前記材料を塗工するときは、前記内圧調整装置によって前記塗工室と前記成膜室とを大気圧にした後に、前記第１巻きロールから前記フィルム基材を巻き出して前記塗工装置によって前記材料を塗工し、前記成膜室に搬入して前記第２巻きロールで巻き取り、
前記フィルム基材上に成膜するときは、前記退避装置が前記塗工装置を前記塗工室から退避させ、前記内圧調整装置によって前記塗工室と前記成膜室とを真空雰囲気中にした後に、前記第２巻きロールから前記フィルム基材を巻き出して前記成膜装置によって前記材料を成膜して、前記塗工室に搬入して前記第１巻きロールで巻き取る
ことを特徴とする有機ＥＬシート製造装置。
前記フィルム基材上に前記成膜した材料とは異なる材料を続けて成膜するときは、前記内圧調整装置によって前記塗工室と前記成膜室とを真空雰囲気中にした後に、前記第１巻きロールから前記フィルム基材を巻き出して前記成膜室に搬入し、前記成膜装置によって前記異なる材料を成膜して前記第２巻きロールで巻き取る
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。
前記成膜室内部の搬送路上に２つの成膜装置が順番に配され、前記フィルム基材上に続けて２種類の材料を成膜できる
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。
前記塗工室には、前記材料が塗工された前記フィルム基材を搬送させつつ乾燥させる加熱ロールを有する
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。
前記成膜室には、前記成膜時に前記フィルム基材を搬送させつつ冷却する冷却ロールを有する
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。
前記成膜装置が、スパッタ装置、または、真空蒸着装置である
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。
前記塗工装置は、
前記フィルム基材を前後方向に搬送するバックアップロールと、
前記バックアップロールの下方に配され、かつ、毛管状隙間を備え、その上端部が塗工液の吐出口となった左右方向に延びる塗工ノズルと、
大気開放された状熊で塗工液を貯留すると共に、前記塗工ノズルに連通されて塗工液を前記塗工ノズルに供給可能な塗工液供給手段と、
を備え、
前記塗工液供給手段より前記塗工ノズルに供給されている塗工液を、前記塗工ノズルの吐出口から前記フィルム基材の下面へ毛細管現象により塗工する
ことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬシート製造装置。