JP4852048B2 - アミノ基含有珪素化合物の連続的製造方法 - Google Patents
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- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
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Description
本発明は、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランの、相当する（トリオルガニルシリルオルガニル）ハロゲニドおよびＮ−オルガニル−またはＮ，Ｎ−ジオルガニルアミンからの、連続的製造方法に関する。
技術水準から、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを製造するための種々の方法が知られている。従来開示された方法から、（ハロゲンオルガニル）シランと、相当するアミンとの反応が、プロセス技術および経済的観点に関して、断然有利であることが明らかである。
これに関して、（クロロアルキル）シランの特に高い利用可能性は有利であり、この場合、これは、アルキルシランの光塩素化または相当するハロゲン置換オレフィンのＳｉ−Ｈ含有化合物でのヒドロシリル化によって得られ、かつ、たとえば、多くのオルガノ官能性シラン合成のための中間生成物としての使用が見出されているものである。さらに、これらの方法により、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを得るために、多くの、良好に使用可能な第１級アミンおよび第２級アミンを使用することが可能であり、これは、方法の極めて広い使用範囲を可能にし、その結果、存在する技術的製造プラントにおけるコスト削減的な生成物の変更が可能となる。
GB 686,068 Aでは、（アミノ）−、（Ｎ−オルガニルアミノ）−、および（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノメチル）−または（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノエチル）トリオルガニルシランが知られている。さらに、GB 686,068 Aは、前記（アミノオルガニル）−、（Ｎ−オルガニルアミンオルガニル）および（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランの製造するための、相当する（クロロメチル）−または（ブロモメチル）トリオルガノシランとアンモニア、第１級アミンまたは第２級アミンとを、少なくとも５０℃の温度で反応させるための方法が記載されている。これに関して、通常、（クロロメチル）トリオルガノシランまたは（ブロモメチル）トリオルガノシランを、フラスコまたはオートクレーブ中に、使用されるアミン化合物の沸点に依存して、装入し、かつ１００℃を上回る、好ましくは１１０〜１３０℃の温度で加熱する。より高い沸点を有するアミンの場合（たとえば、シクロヘキシルアミン）には、混合順序を逆にし、かつ（クロロメチル）−または（ブロモメチル）トリオルガノシランを、加熱したアミンに添加する。反応時間は、反応するアミン化合物に依存して２〜８時間である。
（アミノメチル）シラン誘導体は、 DE 1812564 Alに記載された方法にしたがって、（クロロメチル）シラン誘導体または（ブロモメチル）シラン誘導体とアンモニアまたは第１級アミンとの反応によって製造する。反応は、８０または１００℃の温度で、３または２時間で実施し、その際、アミンは、すでに反応開始時において、１：３．２〜６のモル過剰量で、完全に装入する。
GB 686068 AおよびDE 1812564 Al中に記載された方法は、好ましくは、数時間の長い反応時間を示す。にもかかわらず、達成可能な収率は少なく、これは特に、長い反応時間およびそれに伴う高い副生成物の形成の結果である（これに関しては、以下参照）。この生成物は、さらに要求される純度を達成するものではなく、かつ、使用前にコストのかかる精製を必要とする。たとえば、記載の方法によって得られた生成物は、多量のイオン性塩化物または臭化物を含有する。これらは、精製することなしでは、たとえば、金属表面に塗布されるシーラント中での工業的使用が、特に、強い腐食形成の促進により制限される。
これに関連して、塩素または臭素含有不純物として、特に合成の際に使用されたアミンのヒドロクロリドまたはヒドロブロミドであるか、あるいは、目的化合物のヒドロクロリドまたはヒドロブロミドを生じる。
これに関連して、（アミノメチル）シランとこれらのヒドロクロリドまたはヒドロブロミドとの混合物は、たとえば製造中で、さらには目的化合物の蒸留精製のために、高い温度を必要とし、ＳｉＣ−結合の分断による、目的化合物の望ましくない発熱性の分解と同時に、相当するメチル化アミンの形成を招きうることが観察された。このようにして形成されたＮ−メチルアミンは、方法の過程において、望ましくない影響を与える。このような影響は、アミン化合物の塩基性に相関することが明らかとなり、これは分解反応が、相当する（アミノメチル）シランの塩基性の減少に支持されているというものである。これに基づいて、さらに安全性の観点から、ここで記載された（アミノメチル）シランの低いハロゲン化物含量が求められる。
技術水準から、アルコキシシラン中のハロゲン化物含量を還元するための方法が知られており、たとえば、これらの方法は、アルカリ金属−またはアルカリ土類金属−アルコラート−塩の添加による、溶解されたハロゲン化物の沈澱に基づくものであるが、（たとえば、 EP 0702017 Al, DE 69306288 T2, DE 19513976 Al）、簡単かつ効果的なハロゲン化物含量の減少のためには、化学量論量を上回る塩を必要とし、それというのも、化学量論量によっては、望ましい完全なハロゲン化物の除去を達成することができないためである。しかしながら、これまで分析されたすべての（アミノメチル）シランは、このような条件下、たとえば遊離アルコールと強酸との存在下で、分解反応に対する好ましくない傾向を有する。二者択一的な方法は、アルコキシ−シラン中の塩化物含量の減少を、DE 19941283 Alにおいて記載されたように、アンモニアの添加によって可能にすることであるが、（アミノアルキル）アルコキシシランの使用可能性については、明らかに除外されている。
さらに、（アミノメチル）シランの前記分解は、ヒドロクロリドまたはアルコールおよび塩基の存在下では開始されないが、特に、専らアルコールの存在下で、相当するメチルアミンの望ましくない形成を十分導きうることが観察されている。このようにして形成されたＮ−メチル化アミン−誘導体は、反応においてなおも存在する、メチル化されていないアミンと、（ハロゲンメチル）シランとの反応について競合し、かつ、最終的には（Ｎ−メチルアミノメチル）シランの形成を導き、この場合、これは、蒸留によっては、目的化合物からもはや除去することはできないものである。したがって、これらの望ましくない副反応を減少させるために、反応混合物中で、アルコール不含であることが考慮される。アルコキシ基の珪素原子上に少なくとも１種のオルガニル基が存在する場合には、専ら低い含水量のアミンを、方法において使用することが可能であり、それというのも、さもなければ、シランとアミン中に存在する水との前反応によって、アルコールが放出されうるためである。
さらに、DE 1812564に記載された、シランとアミンとの完全に前混合された溶液の加熱は、双方の成分の発熱反応に基づき安全技術的理由から、大工業的反応のために考慮されている。
DE 10353063から、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを製造するための改善された方法が知られており、その際、出発材料シランを装入し、かつ加熱し、引き続いて相当するアミンを連続的に添加する。
さらに、目的化合物中のハロゲン化物含量は、非極性溶剤を粗混合物に添加し、かつ生じる塩を除去することにより、減少させることができる。
低い含水量のアミンを使用することにより、合成中のアルコールの放出およびそれによる前記副生成物の形成を防止する。
驚くべきことに、必要である場合には、アンモニアとの塩交換によって、方法中に形成されたアミン−または（アミノメチル）シラン−ヒドロハロゲニドを混合物から除去することが可能であり、さらに、Ｎ−メチル化副生成物の形成を回避することができる。
当業者が、DE 19941283 A1の教示からは、明らかに逆のことが引き出されるにもかかわらず、粗生成物または単離された最終生成物中へのアンモニアの導入によって、好ましくは、塩化物不含の（アミノメチル）シランを得ることができるのは、驚異的である。
しかしながら、DE 10353063に記載された改善された方法は、バッチ操作で実施され、依然として、特に空時収量の増加および達成可能な生成物の質のさらなる最適化の可能性を生じる。
したがって本発明の課題は、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを製造するための他の方法を提供することであり、この場合、この方法は、技術水準で知られる問題を解決し、特に生成物を、短い反応時間で、高い収率と同時に高い純度で得ることを可能にするものである。
この課題は、驚くべきことに、出発材料シランおよび相当する低い含水量のアミンを、連続的に操作される反応器中で、短い滞留時間で反応させることによって解決される。
本発明は、一般式（１）
［式中、Ｒは、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基またはアルコキシ基であり、この場合、これは、飽和または不飽和、分枝または非分枝の、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ１は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、この場合、これは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ２は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、この場合、これ、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ３、Ｒ４は、水素または１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、この場合、これは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味するが、但し、Ｒ３およびＲ４は同じかまたは異なっていてもよく、かつ場合によっては互いに結合して、その際、得られる環は、さらにヘテロ原子を含有していてもよく、
Ｘは、塩素、臭素またはヨウ素を意味し、
ｎは、１、２または３の数を意味する］の（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを、一般式（２）
の環式または非環式アミン、この場合、これは、０〜２００００ｐｐｍの含水量を有する、を、
一般式（３）
の（ハロゲンオルガニルシラン）と反応させることによって、製造する方法であり、
この場合、この反応は、以下の工程、
ａ）一般式（３）の（ハロゲンオルガニル）シランおよび一般式（２）のアミンを、連続的に操作される反応器中に、５０〜２５０℃の温度で、均一に添加し、
その際、使用された反応成分の反応器中の滞留時間は１〜１２０分であり、かつ、
一般式（２）のアミンを１〜１００倍の過剰量で使用し、
ｂ）かつ場合によっては、窒素含有化合物の付加的な添加を、（ハロゲンオルガニル）シランおよびアミンの添加と同時にかまたは時間的にずらしておこない、かつ、生じるアダクトを除去する、を含む。
Ｒ１は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、この場合、これは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ２は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、この場合、これ、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ３、Ｒ４は、水素または１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基であり、この場合、これは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味するが、但し、Ｒ３およびＲ４は同じかまたは異なっていてもよく、かつ場合によっては互いに結合して、その際、得られる環は、さらにヘテロ原子を含有していてもよく、
Ｘは、塩素、臭素またはヨウ素を意味し、
ｎは、１、２または３の数を意味する］の（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを、一般式（２）
一般式（３）
この場合、この反応は、以下の工程、
ａ）一般式（３）の（ハロゲンオルガニル）シランおよび一般式（２）のアミンを、連続的に操作される反応器中に、５０〜２５０℃の温度で、均一に添加し、
その際、使用された反応成分の反応器中の滞留時間は１〜１２０分であり、かつ、
一般式（２）のアミンを１〜１００倍の過剰量で使用し、
ｂ）かつ場合によっては、窒素含有化合物の付加的な添加を、（ハロゲンオルガニル）シランおよびアミンの添加と同時にかまたは時間的にずらしておこない、かつ、生じるアダクトを除去する、を含む。
発明の特徴は、反応を連続的に実施し、かつ、方法において、一般式（３）の（ハロゲンオルガニル）シランを、一般式（２）のアミンの１〜１００倍の過剰量に対して、５０〜２５０℃の温度で、連続的に操作される反応器中に、均一に添加し、その際、反応器中のシランの滞留時間が１〜１２０分であることである。場合によっては、窒素含有化合物を添加し、この場合、この窒素化合物は、塩交換下で主に形成されるヒドロハロゲニドおよび同時に得られる基礎となるアミンと一緒に、簡単に除去可能な液体または固体のアダクトを形成するものである。この窒素含有化合物の場合による添加は、（ハロゲンオルガニル）シランの添加と同時にかまたは時間的にずらしておこなう。
したがって、場合による工程ｂ）は、（ハロゲンオルガニル）シランおよびアミンの添加中または添加後の、窒素含有化合物の添加による形成されたハロゲン化物の塩交換、および添加完了後に、生じるアンモニウム塩の除去を含む。
場合による工程ｂ）による窒素含有化合物としては、原則として、ハロゲン化水素と接触して、簡単に除去可能な固体または液体のアダクトを形成する化合物が適している。特に好ましくは、アンモニアを窒素含有化合物として添加する。
窒素含有化合物、特にアンモニアの添加によって、形成されたヒドロハロゲニドの塩交換を達成し、かつこれによって相当するアダクト、特にアンモニウム塩を簡単に除去することができる。
バッチ操作と比較して、連続的反応工程は、バッチ工程に関して典型的な、不安定な生成物の組成を減少させることができるといった利点を有する。反応時間は、連続的な反応工程によって顕著に短縮され、この場合、これは、方法の利点を増加させる。同様に、反応時間の短縮によって、望ましくない副生成物の形成を、さらに顕著に減少させることができる。
本発明による方法は、一般には５０〜２５０℃の温度で実施する。経済的に好ましい反応時間（滞留時間）と、可能な限り少ない副生成物との妥協点を有する反応を達成するために、１００〜２２０℃の温度、特に１５０〜２００℃の温度は特に好ましい。顕著に少ない温度は、反応時間（滞留時間）を延長させ、高い温度は、顕著に多い副生成物形成を示す。
シラン成分に対して、アミンは、一般的に１〜１００、好ましくは２〜５０、特に好ましくは４〜２０、さらに好ましくは４〜１０のモル比で使用する。
本発明による方法によって、選択された温度、反応時間（連続的操作においては、より適切には、用語「滞留時間」と記載する）に依存して、より少ない時間（分）で達成することができる。滞留時間は、一般には１〜１２０分、好ましくは１〜６０分であってもよい。特に好ましくは、１０分より少ないかまたは１０分の滞留時間である。
本発明による方法の特に好ましい実施態様において、反応パラメータは、以下のように選択される：シラン−成分／アミンのモル比４〜２０、特に４〜１０；温度１５０℃〜２００℃、滞留時間１０分より少ないかまたは１０分。
得られた目的生成物と、定められたアミンヒドロクロリドとの混合物が、特に高い温度で、部分的に極めて発熱性の反応を示すことから、方法は、場合によっては、ハロゲン化水素捕捉剤の存在下で実施し、この場合、前記アミン−ヒドロクロリドは、相当するアミンに変換される。このような実施態様が好ましい。これに関して、好ましくは、ハロゲン化水素捕捉剤は、アンモニアならびに窒素含有化合物であり、この場合、窒素含有化合物は、ハロゲン化水素と接触して、簡単に除去可能な固体または液体アダクトを形成するものである。
方法を実施するためには、すべての技術水準に相当する連続的に操作される反応器、たとえば管状反応器、ループ型反応器、撹拌容器またはカスケード式反応器が適している。
生成物の要求に依存して、未反応の出発材料シランのわずかな量のみが許容される場合には、好ましくは、管状反応器を使用する。それというのも、出発材料シランの目的生成物での増加を招く、反応器中での反応媒体の逆混合の問題に関して、減少させることができるためである。これに関して、技術水準に相当するすべての、静的または動的に混合する管状反応器を使用可能であり、特に、この反応器は、内部構造物中に撹拌翼を備えており、撹拌回転軸に基づき操作することができるものである。この目的のために、好ましくはこのような管状反応器は、その長さに亘って個々の室を取り付けることにより分割され、この場合、これらは、それぞれ、少なくとも１個の、１個の中心回転軸上で運転される撹拌ユニットにより混合することができる。室の数は、２〜２００、好ましくは１０〜１００、および特に好ましくは２０〜８０である。
炭化水素基のための好ましい実施態様は、Ｒ１、Ｒ３およびＲ４が、それぞれ互いに独立して、アルキル基、たとえばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、１−ｎ−ブチル基、２−ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチル基、ヘキシル基、たとえばｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、たとえばｎ−ヘプチル基、オクチル基、たとえばｎ−オクチル基およびイソオクチル基、たとえば２，２，４−トリメチルペンチル基、ノニル基、たとえばｎ−ノニル基、デシル基、たとえばｎ−デシル基、ドデシル基、たとえばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、たとえばｎ−オクタデシル基、シクロアルキル基、たとえばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基、アルケニル基、たとえばビニル基、１−プロペニル基および２−プロペニル基、アリール基、たとえばフェニル基、ナフチル基、アントリル基およびフェナントリル基、アルカリール基、たとえばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフェニル基、およびアラルキル基、たとえばベンジル基、α−およびβ−フェニルエチル基、ならびに、ヘテロ原子、たとえばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐと結合した前記組合せ物である。
好ましくは、基Ｒ３またはＲ４の最大１種が水素である。
さらに、基Ｒ３およびＲ４は、直接にかまたはヘテロ原子によって結合されていてもよく、したがって、Ｎ−原子を構造的に含んで、環式構造の−ＮＲ３Ｒ４を生じる。
これに関する例は、モルホリノ−、ピペリジノ−またはピロリジノ−基であり、この場合、これは、さらに好ましい。さらに、基ＮＲ３Ｒ４は、好ましくはＮ，Ｎ−ビス（Ｎ’−、Ｎ’−ジメチルアミノプロピル）−基である。
好ましくは、Ｒ１はメチル−、エチル−、ｉｓｏ−およびｎ−プロピル、ｉｓｏ−およびｎ−ブチル−、ペンチル、ヘキシル−、ヘプチル−、オクチル−、ノニル−、デシル−、フェニル−、ベンジル−またはアリル−基である。
基Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、Ｒ１ならびに水素、シクロヘキシルまたはフェニル基から選択される。特に好ましい実施態様において、基Ｒ３はフェニル−またはシクロヘキシル基であり、かつ、基Ｒ４は水素である。
基Ｒは、Ｒ１またはＯＲ１の意味を有する。好ましくは、Ｒはメトキシ−、エトキシ−、ｉｓｏ−およびｎ−プロピル−、ブトキシ−、フェノキシ−、ベンジルオキシ−またはアリルオキシ−基である。
Ｒ２は、好ましくはメチレン−、エチレン−およびプロピレン−基、特に好ましくはメチレン−基である。
基Ｘは、塩素、臭素またはヨウ素の意味を有し、好ましくは塩素または臭素、特に好ましくは塩素の意味を有する。
ｎは０、１、２または３の値、好ましくは１、２または３の値を有する。
好ましくは、一般式（２）の使用されたアミンの含水量は０〜２００００ｐｐｍ、好ましくは０〜５０００ｐｐｍ、特に好ましくは０〜１０００ｐｐｍである。
本発明による方法を用いて、簡単な方法によって、（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシシランを、相当する（トリオルガニルシリルオルガニル）−ハロゲン化物およびＮ−オルガニル−またはＮ，Ｎ−ジオルガニルアミンから、定量的収率で得ることができる。この方法は、特に大工業的に簡単であり、危険性なく反応させることができる。
本発明による方法の直接的なプロセス生成物は、場合により付加的な工程において、さらに加工することができる。
好ましくは、先ず、窒素含有化合物、特にアンモニアの導入によって、形成されるアダクトを、場合によっては固体材料として除去する。
本発明の対象は、さらに１個または複数個の以下の工程を含む、他の方法である：
ｃ）直接的プロセス生成物中の過剰量のアミンを除去し、
ｄ）非極性溶剤を添加することで、なおも溶解しているアンモニウム化合物を沈澱させ、引き続いて生じるアンモニウム塩を除去し、
ｅ）生成物を蒸留する。
ｃ）直接的プロセス生成物中の過剰量のアミンを除去し、
ｄ）非極性溶剤を添加することで、なおも溶解しているアンモニウム化合物を沈澱させ、引き続いて生じるアンモニウム塩を除去し、
ｅ）生成物を蒸留する。
（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランおよび（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランの純度は、少なくとも８５％である。
これらの純度は、場合により後に実施する生成物の蒸留工程ｅ）により、９５％を上回って上昇させることができる。
生成物中の過剰量のアミンは、場合による付加的な工程ｃ）中で、特に減圧下で、除去することができる。
得られた粗−生成物は、さらに場合による工程ｄ）中で、なおも溶解しているアンモニウム化合物を沈澱させるために、非極性溶剤の添加によって混合して処理することができる。このようにして沈澱したアンモニウム塩は、引き続いて簡単に除去することができる。この方法において、イオン性ハロゲン化物、特に塩化物または臭化物の含量は、特に顕著に減少させることができ、かつ場合によっては実施される蒸留工程において、粗生成物は、蒸留工程中にアンモニウム化合物を連行することはない。
本発明による方法は、技術水準に対して、特に反応時間を、反応温度の反応パラメータの適した選択によって、驚くべきことに、分の範囲の反応速度で、顕著に、完全な反応変換率で、短縮することができるといった利点を有する。同時に、一般式（２）によるアミンの最適化された過剰量を添加することによって、副生成物の形成を顕著に減少させることができる。さらに、連続的に操作される方法は、技術水準に対して、生成物を一定の組成および質で得ることができるといった利点を有する。さらに、この方法は、操作安全性の点において、ここで挙げられた発熱反応を顕著に減少させることを示し、それというのも連続操作中の反応容量が、断続的に実施される方法に比べて、同量の目的生成物を得る場合に顕著に少なくてすむためである。
以下の例は、別記しない限りにおいては、すべての量および百分率は質量に対し、かつすべての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対圧）であった。
例
比較例１（本発明によらない例）
還流冷却器、ＫＰＧ撹拌機（Precision glass stirrer）、サーモメーターおよびガス導入管を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコ中で、２９８ｇの乾燥アニリンを、１３０℃の温度に加熱し、かつ６０分に亘って、撹拌しながら、１２４ｇの（クロロメチル）メチルジメトキシシランと一緒に混合した。添加完了後に、さらなる反応が観察されなくなるまで、アンモニアを混合物中に撹拌しながら同範囲の温度で通過させた（約６０分）。さらに、減圧下で、過剰量のアニリンを除去し、この懸濁液を３０℃で冷却し、その後に１５０ｍｌでイソヘキサンと一緒に混合した。引き続いて、形成された白色の沈殿物を、吸引濾過し、２回に亘ってイソヘキサンを用いて洗浄した。濾液および洗浄液を組み合わせて、かつ減圧下で溶剤から除去した。引き続いての分画蒸留は、１６０ｇ（収率９５％）の（Ｎ−フェニルアミノメチル）ジメトキシ（メチル）シランを、＜２０ｐｐｍの塩化物含量で生じた。
比較例１（本発明によらない例）
還流冷却器、ＫＰＧ撹拌機（Precision glass stirrer）、サーモメーターおよびガス導入管を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコ中で、２９８ｇの乾燥アニリンを、１３０℃の温度に加熱し、かつ６０分に亘って、撹拌しながら、１２４ｇの（クロロメチル）メチルジメトキシシランと一緒に混合した。添加完了後に、さらなる反応が観察されなくなるまで、アンモニアを混合物中に撹拌しながら同範囲の温度で通過させた（約６０分）。さらに、減圧下で、過剰量のアニリンを除去し、この懸濁液を３０℃で冷却し、その後に１５０ｍｌでイソヘキサンと一緒に混合した。引き続いて、形成された白色の沈殿物を、吸引濾過し、２回に亘ってイソヘキサンを用いて洗浄した。濾液および洗浄液を組み合わせて、かつ減圧下で溶剤から除去した。引き続いての分画蒸留は、１６０ｇ（収率９５％）の（Ｎ−フェニルアミノメチル）ジメトキシ（メチル）シランを、＜２０ｐｐｍの塩化物含量で生じた。
例２
管状反応器（3.60 m長さ, 0.05 m 内径）、この場合、これは、撹拌回転軸（約８００〜１２００回転／分）、全部で６０個の撹拌翼を、０．０１ｍの高さで、０．０６ｍ間隔で備えているもの、中に、４部の乾燥アニリン、１部の（クロロメチル）ジメトキシ（メチル）シランならびに１部のアンモニアを、１７０℃の温度で、均一に計量供給し、それにより、混合物の反応器中の平均滞留時間は１０分であった。このようにして得られた粗混合物を、例１と同様に後処理し、その際、同一の収率および生成物−純度で得られた。
管状反応器（3.60 m長さ, 0.05 m 内径）、この場合、これは、撹拌回転軸（約８００〜１２００回転／分）、全部で６０個の撹拌翼を、０．０１ｍの高さで、０．０６ｍ間隔で備えているもの、中に、４部の乾燥アニリン、１部の（クロロメチル）ジメトキシ（メチル）シランならびに１部のアンモニアを、１７０℃の温度で、均一に計量供給し、それにより、混合物の反応器中の平均滞留時間は１０分であった。このようにして得られた粗混合物を、例１と同様に後処理し、その際、同一の収率および生成物−純度で得られた。
例３
例２を反復したが、アニリン、（クロロメチル）ジメトキシ（メチル）シランおよびアンモニアを、１８５℃の温度で、反応器中の混合物の平均滞留時間が５分である程度に、均一に計量供給する点で異なった。このようにして得られた粗混合物を、例１と同様に後処理し、その際、同一の収率および生成物−純度で得られた。
例２を反復したが、アニリン、（クロロメチル）ジメトキシ（メチル）シランおよびアンモニアを、１８５℃の温度で、反応器中の混合物の平均滞留時間が５分である程度に、均一に計量供給する点で異なった。このようにして得られた粗混合物を、例１と同様に後処理し、その際、同一の収率および生成物−純度で得られた。
Claims (8)
- 一般式（１）
Ｒ１は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、この場合、これらは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ２は、１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、この場合、これらは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味し、
Ｒ３、Ｒ４は、水素または１〜１０個の炭素原子を有する炭化水素基、この場合、これらは、飽和または不飽和、分枝または非分枝、置換または非置換であってもよい、を意味するが、但し、Ｒ３およびＲ４は同じかまたは異なっていてもよく、最大でＲ ３ 、Ｒ ４ の１つが水素であり、かつ場合によっては互いに結合し、その際、得られる環はさらにヘテロ原子を含有していてもよく、
ｎは、１、２または３の数を意味する］の（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランまたは（Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを、一般式（２）
の環式または非環式アミン、この場合、これは、０〜２００００ｐｐｍの含水量を有する、と、
一般式（３）
ａ）一般式（３）の（ハロゲンオルガニル）シランおよび一般式（２）のアミンを、連続的に操作される反応器中に、５０〜２５０℃の温度で、均一に添加し、その際、使用された反応成分の反応器中の滞留時間は１〜１２０分であり、かつ一般式（２）のアミンを１〜１００倍の過剰量で使用し、
ｂ）かつ場合によっては、窒素含有化合物の付加的な添加を、（ハロゲンオルガニル）シランおよびアミンの添加と同時にかまたは時間的にずらしておこない、かつ生じるアダクトを除去する、
を含むことを特徴とする、一般式（１）の（Ｎ−オルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランまたは(Ｎ，Ｎ−ジオルガニルアミノオルガニル）トリオルガニルシランを製造する方法。 - 方法を、静的または動的に混合される管状反応器中で実施する、請求項１に記載の方法。
- 使用された一般式（２）のアミンの含水量が０〜１０００ｐｐｍである、請求項１または２に記載の方法。
- 基Ｒ３およびＲ４が互いに独立して、シクロヘキシル、フェニルおよび水素を含む群から選択されるか、あるいは、直接的にまたはヘテロ原子を介して結合して、構造的にＮ−原子を含む環式構造−ＮＲ３Ｒ４を生じる、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
- 環式構造−ＮＲ３Ｒ４が、モルホリノ、ピペリジノまたはピロリジノ基を意味する、請求項４に記載の方法。
- 場合による工程ｂ）により使用された窒素含有化合物がアンモニアである、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
- 方法が、１個またはそれ以上の以下の他の工程：
ｃ）直接的プロセス生成物中の過剰量のアミンを除去し、
ｄ）非極性溶剤を添加することで、なおも溶解しているアンモニウム化合物を沈澱させ、引き続いて生じるアンモニウム塩を除去し、
ｅ）生成物を蒸留する、
を含む、請求項１から６までのいずれか１項に記載の方法。 - 工程ａ）において、使用された反応成分の反応器中の滞留時間は１〜６０分である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB686068A (en) * | 1950-06-30 | 1953-01-14 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to organosilylamines |
| JPH04149183A (ja) * | 1990-10-15 | 1992-05-22 | Rikagaku Kenkyusho | 殺菌性シラン化合物とその製造方法、菌類による病気の抑制剤及び菌類による病気の抑制方法 |
| JPH06211878A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ３−［ｎ−（２−アミノエチル）］アミノプロピルアルコキシシランの連続的製造方法及びその製造装置 |
| JP2001340753A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-12-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 反応方法および反応装置 |
| JP2004518801A (ja) * | 2001-02-20 | 2004-06-24 | コンゾルテイウム フユール エレクトロケミツシエ インヅストリー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 高い硬化速度を有するイソシアネート不含の発泡性混合物 |
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| US5117024A (en) * | 1991-08-06 | 1992-05-26 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of primary aminoorganosilanes |
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| JPH04149183A (ja) * | 1990-10-15 | 1992-05-22 | Rikagaku Kenkyusho | 殺菌性シラン化合物とその製造方法、菌類による病気の抑制剤及び菌類による病気の抑制方法 |
| JPH06211878A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ３−［ｎ−（２−アミノエチル）］アミノプロピルアルコキシシランの連続的製造方法及びその製造装置 |
| JP2001340753A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-12-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 反応方法および反応装置 |
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