JP4834604B2 - 基板の角度変換装置及び基板の処理装置 - Google Patents

基板の角度変換装置及び基板の処理装置 Download PDF

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Description

この発明は基板を所定の角度で傾斜させて処理する場合に、基板を水平な状態から傾斜させたり、傾斜した状態から水平にするための基板の角度変換装置及びこの角度変換装置が用いられた基板の処理装置に関する。
液晶表示装置に用いられるガラス製の基板には回路パターンが形成される。基板に回路パターンを形成するにはリソグラフィープロセスが採用される。リソグラフィープロセスは周知のように上記基板にレジストを塗布し、このレジストに回路パターンが形成されたマスクを介して光を照射する。
つぎに、レジストの光が照射されない部分或いは光が照射された部分を除去し、基板のレジストが除去された部分をエッチングし、エッチング後にレジストを除去するなどの一連の工程を複数回繰り返すことで、上記基板に回路パターンを形成する。
このようなリソグラフィープロセスにおいては、上記基板に現像液、エッチング液或いはエッチング後にレジストを除去する剥離液などの処理液によって基板を処理する工程、さらにリンス液によって洗浄する工程などがあり、洗浄後には基板に付着残留したリンス液を除去する乾燥工程が必要となる。
従来、基板に対して上述した一連の処理を行う場合、上記基板は軸線を水平にして配置された搬送ローラによって水平な状態でそれぞれの処理チャンバに順次搬送し、そこで処理液によって処理し、処理後に圧縮気体を噴射して乾燥処理するようにしている。
ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。そのため、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなるため、各処理チャンバでの処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。
さらに、基板が大型化すると、その基板を搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸が長尺化する。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなるから、それらのことによって搬送軸の撓みが増大する。そのため、基板は搬送軸が撓むことによっても撓みが生じ、均一な処理が行えなくなるということがある。
そこで、最近では基板を所定の角度で傾斜させて搬送することで、基板の板面に供給された処理液を円滑に流れるようにしている。それによって、基板とともに処理チャンバから持ち出される処理液の量を少なくしたり、基板の板面全体を均一に処理できるようにするということが行なわれている。
処理チャンバで基板を傾斜させて搬送しながら処理する場合、水平な状態で搬送されてきた基板を所定の傾斜角度に傾斜させて処理チャンバに供給する。そして、基板が処理チャンバで処理されたならば、傾斜状態から水平に戻して次工程に受け渡すようにすることになる。
このような従来技術は特許文献1に示されている。すなわち、特許文献1では処理チャンバの搬入側と搬出側とに、それぞれ搬入コンベア及び搬出コンベアが設けられている。各コンベアは基板の搬送方向と直交する幅方向の中途部が架台に設けられた支持部材に支軸によって回動可能に支持されている。
上記架台には上記コンベアの幅方向一端部に対向する位置に駆動シリンダが軸線を垂直にして設けられている。駆動シリンダの駆動軸の先端部にはローラが設けられている。上記駆動シリンダが作動してその駆動軸が突出方向に駆動されれば、ローラを介して上記コンベアの幅方向一端部が押し上げられる。
それによって、コンベアは幅方向中心部を支点として幅方向一端部が他端部よりも高くなる方向に傾動するようになっている。コンベアの傾動角度は、処理チャンバ内を搬送される基板の傾斜角度と同じになるよう設定されている。
特開2005−343639号公報
上記コンベアを水平な状態から傾斜させたり、傾斜した状態から水平に戻す場合、このコンベア上に載置された基板に衝撃を与えると、基板は薄いガラス製であるため、欠けや割れが生じるということがある。
コンベアを水平な状態から傾斜させたり、傾斜した状態から水平に戻すなどして回動駆動する場合、タクトタイムの短縮を図るためには上記コンベアの駆動速度を速くすることが望ましい。
しかしながら、コンベアの駆動速度を速くすると、所定の傾斜角度でコンベアの駆動を停止させたとき、コンベアが受ける衝撃が大きくなるから、その衝撃によってコンベア上の基板が損傷するということがある。
特許文献1では、コンベアの駆動を駆動シリンダで行なうようにしている。駆動シリンダの駆動軸は突出方向及び没入方向に対して一定速度で駆動される。そのため、タクトタイムの短縮を図るために駆動速度を速くすると、所定の傾斜角度でコンベアの駆動を停止させるときの衝撃が大きくなり、逆に駆動を停止させるときの衝撃を小さくするために駆動速度を遅くすると、タクトタイムが長くなり、生産性の低下を招くということになる。
この発明は、基板が載置される基板支持体を所定の角度で傾斜させるとき、駆動範囲の終端部分では駆動速度を十分に遅くすることで、基板を損傷させることなく、タクトタイムを短縮することができるようにした基板の角度変換装置、及びその角度変換装置が用いられた基板の処理装置を提供することにある。
この発明は、基板を所定の傾斜角度から水平状態或いはその逆に変換する基板の角度変換装置であって、
上面に上記基板が載置される基板支持体と、
この基板支持体の下面に上端を連結して設けられたアームと、
このアームを中途部を支点として回動可能に支持した支軸と、
上記アームを介して上記基板支持体を上記支軸を支点として所定の傾斜角度から水平状態或いはその逆に回動させる駆動機構を具備し、
上記駆動機構は、
上記支軸の軸線と平行に配置された第1のガイド体と、
この第1のガイド体に沿って移動可能に設けられた第1の可動体と、
上記第1のガイド体と直交する角度で配置された第2のガイド体と、
この第2のガイド体に移動可能に設けられた第2の可動体と、
上記第1の可動体を上記第1のガイド体に沿って駆動する駆動手段と、
上記第1の可動体に一端が枢着され他端が上記第2の可動体に枢着されていて、上記駆動手段によって上記第1の可動体が上記第1のガイド体に沿う方向に駆動されたときに上記第1の可動体に枢着された一端を支点として回動しながら他端で上記第2の可動体を上記第2のガイド体に沿って駆動する第1のリンクと、
上記第2の可動体に一端が枢着され他端が上記アームの下端に枢着されていて、上記第1のリンクによって上記第2の可動体が上記第2のガイド体に沿って駆動されたときに、上記第2の可動体とともに上記第2のガイド体に沿って移動しながら上記他端に連結された上記アームを介して上記基板支持体を上記支軸を支点として回動させる第2のリンクと
を具備したことを特徴とする基板の角度変換装置にある。
同一直線上に位置する複数の第1の可動体が連結部材によって連結されていて、この連結部材が1つの上記駆動源によって上記第1のガイド体に沿って駆動される構成であることが好ましい。
この発明は、基板を傾斜させて搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
傾斜して搬送される上記基板を処理液によって処理する処理チャンバと、
この処理チャンバの上記基板が搬入される搬入側及び搬出側に設けられ水平な状態で搬送されてくる基板を受けて所定の角度で傾斜させて上記処理チャンバに供給するとともに、上記処理チャンバ内で処理液によって処理された基板を所定の角度で傾斜した状態から水平な状態に戻す角度変換装置を具備し、
上記角度変換装置は請求項1に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置にある。
この発明によれば、第1のリンクの第1の可動体に連結された一端は、駆動源によって第1のガイド体に沿って等速度運動する。第1のリンクの第2の可動体に連結された他端は、一端を支点とする回動運動の回動角度が大きくなるにつれて第2のガイド体に沿う直線運動の速度が遅くなる。第2のガイド体には第2のリンクの一端が連結され、この第2のリンクの他端は基板支持体を回動させるアームに連結されている。
そのため、基板支持体は第1のアームの回動角度が大きくなるにつれて回動速度が遅くなるから、比較的短い時間で所定の回動範囲を駆動し、しかも回動範囲の終端部分では駆動速度が十分に遅くなるから、基板に衝撃を与えることがない。
以下、この発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
図1は基板Wの処理装置1の概略的構成を示す。この処理装置1は図1に矢印方向に搬送される基板Wを処理液によって処理する処理チャンバ2を有する。この処理チャンバ2の搬入側には基板Wを水平に搬送する搬入水平コンベア3及びこの搬入水平コンベア3によって水平搬送された基板Wを所定の角度に傾斜させる第1の角度変換装置4が配設されている。
上記処理チャンバ2で処理された基板Wは第2の角度変換装置5によって所定の角度で傾斜した状態から水平な状態に角度変換され、搬出水平コンベア6によって次工程に搬送されるようになっている。
図2は上記処理チャンバ2の縦断面図である。この処理チャンバ2は基板Wの搬送方向に沿う一端面に鎖線で示す搬入口7が形成され、他端面に搬出口(図示せず)が形成されている。処理チャンバ2内には基板Wの搬送方向と交差する幅方向の両端部にそれぞれ受け部材8が設けられている。これら受け部材8には上記基板Wを搬送方向と交差する方向である、幅方向に対して所定の角度、この実施の形態では10度の角度で傾斜して搬送する傾斜搬送部9が設けられている。
上記傾斜搬送部9は上記受け部材8に幅方向の両端部が支持されるフレーム11を有する。このフレーム11の幅方向一端部は上記受け部材8に直接支持され、幅方向他端部は角度調整部材10を介して支持されている。それによって、上記フレーム11は上記幅方向に対して所定の角度である、10度で傾斜している。なお、フレーム11の傾斜角度は10度の範囲内に限定されず、それ以下であっても、それ以上であっても差し支えない。
上記フレーム11には、フレーム11の幅方向に軸線を沿わせた複数の搬送軸12(1本のみ図示)が幅方向と交差する基板Wの搬送方向に沿って所定間隔で回動可能に設けられている。搬送軸12には基板Wの下面を支持する複数の搬送ローラ13が所定間隔で設けられている。したがって、搬送ローラ13に下面が支持された基板Wはフレーム11と同じ角度で傾斜して搬送される。
上記フレーム11の傾斜方向の上端側に位置する幅方向一側の外面には、伝達軸14が軸線を基板Wの搬送方向に沿わせて回動可能に架設されている。この伝達軸14の中途部には従動歯車15が設けられている。この従動歯車15には駆動歯車16が噛合している。この駆動歯車16は処理チャンバ2の外部に設けられた駆動源17の出力軸18に嵌着されている。
詳細は図示しないが、上記搬送軸12の上記伝達軸14側に位置する一端部には第1のかさ歯車が設けられている。第1のかさ歯車は上記搬送軸12に設けられた第2のかさ歯車が噛合している。したがって、上記駆動源17が作動して上記駆動歯車16及び従動歯車15を介して上記伝達軸14が回動されれば、上記第1、第2のかさ歯車を介して上記搬送軸12が回動駆動される。それによって、搬送ローラ13に支持された基板Wが搬送されるようになっている。
なお、フレーム11内には、搬送軸12の傾斜方向両端部に対応する位置に基板Wの傾斜方向である、搬送方向と交差する幅方向の両端を支持するラジアルローラ19が設けられている。
処理チャンバ2内を搬送される基板Wの上方には、基板Wの幅方向に沿う複数のシャワーパイプ21(1つのみ図示)が基板Wの搬送方向に対して所定間隔で配置されている。各シャワーパイプ21には複数のノズル22が所定間隔で設けられている。上記シャワーパイプ21はヘッダパイプ23に連通管24を介して接続されている。このヘッダパイプ23はエッチング液などの処理液の供給源(図示しない)に連通している。それによって、処理チャンバ2内を搬送される基板Wの上面には上記ノズル22から処理液が噴射されるようになっている。
上記処理チャンバ2の搬入側には上記第1の角度変換装置4が設けられ、搬出側には上記第2の角度変換装置5が設けられている。各角度変換装置4,5には図3と図4に示すコンベアユニット31が設けられている。コンベアユニット31は矩形枠状のフレーム36を有する。このフレーム36は上記処理チャンバ2内に設けられた傾斜搬送部9のフレーム11と同じ幅寸法に設定されていて、その枠内の幅方向両端部には支持板37が幅方向と直交する方向に沿って架設されている。
一対の支持板37には両端部が軸受38によって回動可能に支持された複数の搬送軸39が所定間隔で架設されている。各搬送軸39には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ41が設けられている。一方の支持板37から突出した各搬送軸39の一端部には第1のかさ歯車42が設けられている。
上記フレーム36の上記搬送軸39の一端部側には、搬送軸39の配置方向に沿って伝動軸43が回動可能に支持されている。この伝動軸43には上記第1のかさ歯車42に噛合する第2のかさ歯車44が設けられている。
上記伝動軸43の軸方向中途部には従動プーリ45が設けられている。上記フレーム36の外側面で、上記従動プーリ45に対応する部位には駆動源46が設けられている。この駆動源46の出力軸47には駆動プーリ48が設けられ、この駆動プーリ48と上記従動プーリ45とには図3に鎖線で示すチェーン49が張設されている。
したがって、上記駆動源46が作動すれば、駆動プーリ48と従動プーリ45に張設されたチェーン49を介して上記伝動軸43が回動駆動されるから、この伝動軸43に設けられた第2のかさ歯車44及びこの第2のかさ歯車44に噛合した第1のかさ歯車42を介して搬送軸39が所定方向に回動駆動される。それによって、各搬送軸39に設けられた搬送ローラ41によって支持された基板Wが所定方向に搬送されることになる。
図4に示すように、上記フレーム36の幅方向と直交する長手方向の両端部であって、上記搬送軸39の軸方向中央部に対応する部分にはそれぞれアーム55が上端を連結して垂設されている。
一対のアーム55の上端部寄りの中途部には支軸56が貫通している。支軸56はアーム55に固定されている。この支軸56の図4に示す両端部は架台57の上面に立設された一対の支持片58(1つだけ図示)に回動可能に支持されている。
なお、支軸56の両端部を支持片58に固定し、上記アーム55に対して上記支軸56を回転可能に貫通させてもよい。
一対のアーム55は上記架台57の上面に設けられた駆動機構61によって上記支軸56とともに回動駆動されるようになっている。図5と図6は第2の角度変換装置5に設けられた駆動機構61を示し、この駆動機構61は、図5に示すようにそれぞれのアーム55に対応する位置に同図に矢印Xで示す基板Wの搬送方向と平行、つまりコンベアユニット31の幅方向と直交する長手方向に平行に配置された直線状の一対の第1のガイド体62を有する。この第1のガイド体62には第1の可動体63が移動可能に係合して設けられている。
一対の第1の可動体63には帯板状の連結部材64の長手方向一端部と他端部とが連結されている。上記連結部材64の一側には駆動手段としての駆動シリンダ65が平行に配置されている。この駆動シリンダ65は上記架台57の上面に設けられた固定部材66に取付け固定されていて、そのロッド67は上記連結部材64の長手方向一端部の側面に連結具68によって連結固定されている。
上記第1の可動体63には第1のリンク71の一端が軸線を垂直にした第1のピン72によって枢着されている。上記第1のリンク71の他端は第2のガイド体73に移動可能に係合して設けられた第2の可動体74の上面の一端部に軸線を垂直にした第2のピン75によって枢着されている。上記第2のガイド体73は上記第1のガイド体62に対して直交する方向である、基板Wの搬送方向と直交する方向に平行に配置されている。
上記第2の可動体74の上面の他端部には支持片76が立設されている。この支持片76には第2のリンク77の一端が軸線を水平にした第3のピン78によって枢着されている。上記第2のリンク77の他端は上記アーム55の下端に軸線を水平にした第4のピン79によって枢着されている。
上記駆動シリンダ65が作動してそのロッド67が突出方向(前進方向)に駆動されると、そのロッド67とともに連結部材64が図5に矢印aで示す方向へ移動する。連結部材64の移動に一対の第1の可動体63が連動し、図5に示す第1のガイド体62の一端側から図6に示す他端に移動する。
第1の可動体63が矢印aで示すように第1のガイド体62の一端から他端に向かって移動すると、第1のリンク71は一端を第1の可動体63とともに移動させながら、その一端の第1のピン72を支点として矢印bで示す方向に回動する。
第1のリンク71が矢印bの方向に回動すると、その回動角度に応じて上記第1のリンク71の他端に第2のピン75を介して連結された第2の可動体74が第2のガイド体73に沿って矢印cで示す方向に移動する。
第2の可動体74が矢印cで示す方向に移動すると、この第2の可動体74の移動に一端が第3のピン78によって連結された第2のリンク77が連動する。第2のリンク77の他端はコンベアユニット31のフレーム36から垂設されたアーム55に第4のピン79によって連結されているから、一対のアーム55は上記第2のリンク77によって回動可能に支持された支軸56とともに矢印dで示す方向に回動することになる。
上記第2の角度変換装置5は、駆動シリンダ65が作動する前、つまりアーム55が図5に示すように回動する前の状態では、上記アーム55が垂設されたコンベアユニット31が所定の角度αで傾斜した状態にあり、アーム55が第2のリンク77によって回動させられることで、上記駆動シリンダ65のロッド67のストロークに応じて水平となる方向へ駆動される。この実施の形態では、上記ロッド67のストロークはコンベアユニット31が10度の角度で傾斜した状態から水平となるまで回動するように設定されている。
コンベアユニット31が水平に回動すると、このコンベアユニット31の駆動源46が作動して搬送軸39が回転駆動される。それによって、処理チャンバ2からコンベアユニット31に受け渡された基板Wは搬出水平コンベア6によって次工程に搬送される。
なお、上記第1の角度変換装置4の駆動機構61は、図5に示す第2の角度変換装置5の駆動機構61とほぼ同じ構成であるが、駆動シリンダ65が作動する前、つまりアーム55が回動する前の状態では上記コンベアユニット31が水平な状態にあり、上記駆動シリンダ65のロッド67が前進方向に駆動されてアーム55が回動することで、上記ロッド67のストロークに応じて傾斜する方向に駆動されるという点で異なっている。
つまり、第1の角度変換装置4のコンベアユニット31は、第1のリンク71が駆動シリンダ65によって一端を支点として回動する方向へ駆動されることで、第2のリンク77によってコンベアユニット31が水平な状態から10度の角度で傾斜する状態に駆動されるよう設定されている。
上記駆動シリンダ65のロッド67は等速度で前進方向に駆動され、その等速度運動に第1の可動体63が連動する。それに対して、第2の可動体74は一端を支点として回動する第1のリンク71の他端によって第2のガイド体73に沿って移動する。つまり、第1のリンク71の回動運動が第2の可動体74の直線運動に変換されて第2のリンク77に伝達される。
そのため、第1の可動体63が第1のガイド体62に沿って移動するにつれて図5にθで示す第1のガイド体62に対する第1のリンク71がなす角度が大きくなる。角度θが大きくなるにつれて第1の可動体63が第1のガイド体62に沿って駆動される速度に比べて第2の可動体74が第2のガイド体73に沿って駆動される速度が次第に低下することになる。
図7は縦軸に第2の可動体74の駆動速度を示し、横軸に第1のガイド体62と第1のリンク71とがなす角度θを示している。つまり、角度θが45度から、第1の可動体63が駆動されて次第に大きくなってゆくときの第2の可動体74の第2のガイド体73に沿う駆動速度の変化を算出したものである。
図7から分かるように、第1のリンク71が第1の可動体63に連結された一端を支点として回動して上記角度θが45度から次第に大きくなると、その角度θの増大につれて第2の可動体74の駆動速度が低下する。そして、角度θが90度になってコンベアユニット31の支軸56を支点とする旋回動作が停止するときには駆動速度は“0”となる。
したがって、第1の角度変換装置4においてはコンベアユニット31が水平な状態から傾斜する方向へ駆動されるにつれてコンベアユニット31の駆動速度が低下し、傾斜角度が10度になる旋回動作の最後ではその駆動速度が “0”になる。
そのため、第1の角度変換装置4は搬入水平コンベア3から水平な状態で受け渡された基板Wを、処理チャンバ2内の傾斜搬送部9によって傾斜して搬送される角度と同じ傾斜角度になるよう、コンベアユニット31上に供給された基板Wを10度の角度で傾斜させるとき、その基板Wに衝撃を与えることなく静かに角度変換することができる。
第1の角度変換装置4によって所定の角度に傾斜させられた基板Wは処理チャンバ2内に送られて傾斜搬送部9で傾斜した状態で搬送されながら、シャワーパイプ21のノズル22から噴射される処理液によって処理される。そして、処理された基板Wは処理チャンバ2から搬出されて第2の傾斜変換装置5に受け渡される。
上記第2角度変換装置5では、コンベアユニット31が図5にαで示す10度の角度で傾斜した状態から図6に示すように水平になるよう駆動される。このときも、コンベアユニット31は旋回動作の最後ではその駆動速度が“0”になる。
そのため、第2の角度変換装置5のコンベアユニット31は、処理チャンバ2から所定の角度で傾斜した状態で搬出された基板Wを受けた後、この基板Wに衝撃を与えることなく静かに水平な状態に角度変換することができる。
このように、処理チャンバ2の搬入側に設けられた第1の角度変換装置4と、搬出側に設けられた第2の角度変換装置5とは、それぞれ駆動機構61によって基板Wの角度を変換するようにしている。
上記駆動機構61は、等速度運動する駆動シリンダ65のロッド67によって第1のリンク71が駆動され、この第1のリンク71に連動してコンベアユニット31の角度を変換する第2のリンク77を連動させるようにしている。そして、第2のリンク77による上記コンベアユニット31の旋回方向への駆動速度は、上記第1のリンク71が駆動されてその回動角度が45度から90度の近づくにつれて遅くなり、90度になると0となる。
そのため、コンベアユニット31が所定の角度に駆動されるとき、所定角度に近づくにつれて遅くなり、所定角度になるときには0になるから、コンベアユニット31上に載置された基板Wに衝撃を与えることなく、この基板Wを水平な状態から傾斜した状態或いはその逆に角度変換することができる。
しかも、コンベアユニット31は、駆動されるにつれて徐々に駆動速度が低下するから、駆動範囲の全体を低速度で駆動する場合に比べ、基板Wを所定の角度に変換するために要するタクトタイムを十分に短縮することができる。つまり、生産性を大きく低下させることなく、基板Wを角度変換することができる。
上記一実施の形態では駆動機構を作動させる駆動源として駆動シリンダを例に挙げて説明したが、駆動シリンダに代わりリニアモータやモータによって回転駆動されるねじ軸を用いるようにしてもよく、要は第1の可動体を等速度運動させる駆動源であればよい。
また、駆動機構はコンベアユニットのフレームから垂設されたアーム体の数に対応してそれぞれ一対の第1の可動体及び第2の可動体を有する構成として説明したが、各角度変換装置に複数のコンベアユニットが設けられている場合や1つのコンベアユニットが長尺なために3つ或いはそれ以上のアームが垂設されているような場合には、それに応じて第1の可動体及び第2の可動体の数を設定すればよい。
つまり、駆動機構の第1の可動体及び第2の可動体の数は2つに限定されず、1つ或いは3つ以上であってもよい。
この発明の基板の処理装置の概略的構成を示す模式図。 処理チャンバの縦断面図。 角度変換装置に設けられるコンベアユニットの一部破断した平面図。 コンベアユニットが揺動可能に取付けられた状態を説明するための角度変換装置の側面図。 コンベアユニットを回動駆動する第2の角度変換装置に設けられた駆動機構の概略的構成を示す斜視図。 上記駆動機構の第1のリンクと第2のリンクが駆動された状態を示す斜視図。 第1のリンクの角度と第2の可動体の駆動速度との関係を示すグラフ。
符号の説明
2…処理チャンバ、3…搬入水平コンベア、4…第1の角度変換装置、5…第2の角度変換装置、6…第2の角度変換装置、31…コンベアユニット(基板支持体)、55…アーム、56…支軸、61…駆動機構、62…第1のガイド体、63…第1の可動体、64…連結部材、65…駆動シリンダ(駆動手段)、71…第1のリンク、73…第2のガイド体、74…第2の可動体、77…第2のリンク。

Claims (3)

  1. 基板を所定の傾斜角度から水平状態或いはその逆に変換する基板の角度変換装置であって、
    上面に上記基板が載置される基板支持体と、
    この基板支持体の下面に上端を連結して設けられたアームと、
    このアームを中途部を支点として回動可能に支持した支軸と、
    上記アームを介して上記基板支持体を上記支軸を支点として所定の傾斜角度から水平状態或いはその逆に回動させる駆動機構を具備し、
    上記駆動機構は、
    上記支軸の軸線と平行に配置された第1のガイド体と、
    この第1のガイド体に沿って移動可能に設けられた第1の可動体と、
    上記第1のガイド体と直交する角度で配置された第2のガイド体と、
    この第2のガイド体に移動可能に設けられた第2の可動体と、
    上記第1の可動体を上記第1のガイド体に沿って駆動する駆動手段と、
    上記第1の可動体に一端が枢着され他端が上記第2の可動体に枢着されていて、上記駆動手段によって上記第1の可動体が上記第1のガイド体に沿う方向に駆動されたときに上記第1の可動体に枢着された一端を支点として回動しながら他端で上記第2の可動体を上記第2のガイド体に沿って駆動する第1のリンクと、
    上記第2の可動体に一端が枢着され他端が上記アームの下端に枢着されていて、上記第1のリンクによって上記第2の可動体が上記第2のガイド体に沿って駆動されたときに、上記第2の可動体とともに上記第2のガイド体に沿って移動しながら上記他端に連結された上記アームを介して上記基板支持体を上記支軸を支点として回動させる第2のリンクと
    を具備したことを特徴とする基板の角度変換装置。
  2. 同一直線上に位置する複数の第1の可動体が連結部材によって連結されていて、この連結部材が1つの上記駆動源によって上記第1のガイド体に沿って駆動される構成であることを特徴とする請求項1記載の基板の角度変換装置。
  3. 基板を傾斜させて搬送しながら処理液によって処理する基板の処理装置であって、
    傾斜して搬送される上記基板を処理液によって処理する処理チャンバと、
    この処理チャンバの上記基板が搬入される搬入側及び搬出側に設けられ水平な状態で搬送されてくる基板を受けて所定の角度で傾斜させて上記処理チャンバに供給するとともに、上記処理チャンバ内で処理液によって処理された基板を所定の角度で傾斜した状態から水平な状態に戻す角度変換装置を具備し、
    上記角度変換装置は請求項1に記載された構成であることを特徴とする基板の処理装置。
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JP4349783B2 (ja) * 2002-09-20 2009-10-21 吉野石膏株式会社 ボード反転装置及びボード反転方法
KR100596050B1 (ko) * 2002-10-31 2006-07-03 삼성코닝정밀유리 주식회사 유리기판의 이송시스템
DE112004001210T5 (de) * 2003-07-04 2006-06-08 Rorze Corp. Transportvorrichtung und Transportsteuerverfahren für eine dünne Platte
JP2005340399A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Hitachi Zosen Corp ガラス基板の作業台装置
JP4485853B2 (ja) * 2004-06-03 2010-06-23 芝浦メカトロニクス株式会社 基板の搬送装置及び搬送方法
JP2007109703A (ja) * 2005-10-11 2007-04-26 Japan Steel Works Ltd:The 基板ステージ装置

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