JP4797036B2 - リソグラフィ投影装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、リソグラフィ・システムに関し、特に、リソグラフィ・パターン形成機器のための安全機構に関する。

本明細書で使用する「パターン形成機器」という用語は、基板の標的部分に作成すべきパターンに対応して、入射する放射ビームにパターン形成された断面を付与するために使用可能な任意の構造又は領域を指すものと広義に解釈するべきであり、「光弁」という用語もこのような文脈で用いることができる。パターン形成機器の上に「表示された」パターンは、例えば、基板又はその層に最終的に転写されるパターンとは実質的に異なり得ることを理解されたい（例えば、微細構成のプリ・バイアシング（事前偏向）、光学的近位補正した微細構成、位相及び／若しくは偏光変動技法、並びに／又は多重露光技法が用いられる場合）。

一般に、このようなパターンは、集積回路又は他のデバイス（下記参照）など、標的部分中に作成されているデバイス中の特定の機能層に対応することになる。パターン形成機器は、反射型及び／又は透過型であり得る。パターン形成機器の例には以下のものが含まれる。

マスク：マスクの概念はリソグラフィではよく知られており、そのマスクには、バイナリ型、交番位相シフト型、及び減衰位相シフト型のようなマスクの種類ばかりでなく様々なハイブリッド型のマスクの種類も含まれる。このようなマスクを放射ビーム中に配置すると、マスク上のパターンにしたがって、マスクに当たる放射を選択的に透過するか（透過型マスクの場合）、又は反射する（反射型マスクの場合）。マスクの場合は、その支持構造は一般にマスク・テーブルであるが、それによって、入射する放射ビーム中の望ましい位置にマスクを確実に保持可能であるし、又は、それが望ましい場合は、マスクをビームに対して確実に移動することも可能である。

プログラマブル・ミラー・アレイ：このような装置の一例は、粘弾性制御層及び反射表面を有するマトリックス駆動表面である。このような装置の背景にある基本原理は、（例えば）反射表面の駆動領域が、入射光を回折光として反射するのに対して、非駆動領域が入射光を非回折光として反射するというものである。適切なフィルタを使用すると、前記非回折光を反射ビームから濾光して、回折光のみを後に残すことが可能である。このような方式で、マトリックス駆動表面の駆動パターンにしたがってビームがパターン形成される。プログラマブル・ミラー・アレイの代替実施例は、微小ミラーのマトリックス配置を使用して適切な局在電界を印加するか又は圧電駆動手段を用いることによって、これらのミラーをそれぞれ個々に軸回りに傾斜させる。この場合も、これらのミラーはマトリックス駆動が可能であり、駆動されたミラーは、駆動されていないミラーとは異なる方向に、入射する放射ビームを反射する。このような方式で、マトリックス駆動ミラーの駆動パターンにしたがって反射ビームがパターン形成される。必要なマトリックス駆動は適切な電子的手段を使用して実行可能である。以上に説明したいずれの場合も、パターン形成機器は、１つ又は複数のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。ここで言及したミラー・アレイのさらなる情報は、例えば、米国特許第５，２９６，８９１号明細書及び同第５，５２３，１９３号明細書、並びにＰＣＴ特許出願国際公開第９８／３８５９７号パンフレット及び同第９８／３３０９６号パンフレットに見いだすことができるが、これらは参照として本明細書に援用する。プログラマブル・ミラー・アレイの場合には、前記支持構造は、例えば、固定式の又は、必要に応じて、可動式の架台若しくはテーブルとして実施可能である。

プログラマブルＬＣＤアレイ：このような構造の一例が、参照として本明細書に援用する米国特許第５，２２９，８７２号明細書に挙げられている。上記のように、この場合も、支持構造は、例えば、固定式の又は、必要に応じて、可動式の架台若しくはテーブルとして実施可能である。

簡略化のために、以下の本明細書は何箇所かで特定的にマスク及びマスク・テーブルを含む例に向けられているが、そのような場合に論じられている一般原理は、以上に記載したパターン形成機器のより広い文脈で理解されるべきである。

リソグラフィ装置を使用して望ましいパターンを表面（例えば、基板の標的部分）の上に施すことができる。リソグラフィ投影装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用可能である。このような場合に、パターン形成機器は、ＩＣの個々の層に対応して回路パターンを作成することが可能であり、このパターンを放射感応性材料（例えば、レジスト）の層を塗布した基板（例えば、シリコン・ウェーハ又は他の半導体材料）上の標的部分（例えば、１つ又は複数のダイ、及び／又はその（それらの）一部を備える）上に描画することができる。

一般に、単一のウェーハが、投影システムによって連続照射される（例えば、一度に１つずつ）隣接標的部分の全マトリックス又は回路網を含むことになる。マスク・テーブル上のマスクによってパターン形成を行う現行装置の中では、２種類の異なる機械を区別することが可能である。リソグラフィ投影装置の一方の種類は、マスク・パターン全体を標的部分上に一度に露光することによってそれぞれの標的部分を照射するが、このような装置を一般にウェーハ・ステッパと呼ぶ。

別法による装置（一般にステップ・アンド・スキャン装置と呼ぶ）は、所与の基準方向（「走査方向」）に投影ビーム下のマスク・パターンを漸進的に走査することによって、それぞれの標的部分を照射し、他方ではこの基準方向に対して平行に又は逆平行に基板テーブルを同期走査する。投影システムは一般に、倍率Ｍ（一般に１よりも小さい）を有するので、基板テーブルが走査される速度Ｖは、マスク・テーブルが走査される速度の倍率Ｍ倍となる。走査型の装置における投影ビームは、走査方向にスリット幅を有するスリットの形態を取り得る。ここで説明したリソグラフィ装置に関するさらなる情報を、例えば、参照として本明細書に援用する米国特許第６，０４６，７９２号明細書に見いだすことができる。

リソグラフィ投影装置を使用する製造工程では、少なくとも一部に放射感応性材料（例えば、レジスト）の層が塗布されている基板上にパターン（例えば、マスク中の）を描画する。この描画手順の前に、基板は下塗り、レジストの塗布、及びソフト・ベークなどの様々な手順を経ることができる。露光後に、この基板は露光後焼付け（ＰＥＢ）、現像、ハード・ベーク、及び／又は描画された微細構成の計測／検査などの他の手順を経ることができる。

このような一連の手順を基本として使用し、デバイスの個別層（例えば、集積回路）をパターン形成することができる。例えば、これらの転写手順によって基板上にパターン形成されたレジスト層が得られる。その後に、蒸着、エッチング、イオン注入（ドーピング）、金属被覆、酸化、化学機械的研磨等々のような１つ又は複数のパターン処理が実施可能であるが、これらのすべては、個別層の作成、修正、又は仕上げ目的に実施可能である。幾つかの層が必要であれば、これらの手順全体、又はそれらの変形手順をそれぞれの新たな層に対して反復することができる。

最終的に、デバイスのアレイが基板（ウェーハ）上に得られる。次いで、これらのデバイスを、ダイシング又はソーイングなどの技法によって相互に切り離し、次ぎに個々のデバイスをキャリヤ上に実装し、ピンへの接続などを行うことができる。このような過程に関する詳細な情報は、例えば、Ｐｅｔｅｒ ｖａｎ Ｚａｎｔ著「Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ Ｐｒａｃｔｉｃａｌ Ｇｕｉｄｅ ｔｏ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ」、ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏ．社刊、第３版、１９９７年、ＩＳＢＮ ０−０７−０６７２５０−４から入手可能である。

簡略化のために、以降では投影システムを「レンズ」と呼ぶ場合があるが、この用語は、例えば、屈折光学系、反射光学系、及び反射屈折光学系を含めて、様々な種類の投影システムを包含するものと広義に解釈されたい。放射システムも、放射の投影ビームを誘導、造形、又は制御するために、設計上の任意の種類にしたがって動作する構成要素を含み得るが、このような構成要素も以下では集合的に又は単独に「レンズ」と呼ぶことができる。さらには、リソグラフィ装置は、２つ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有する種類もあり得る。このような「多連ステージ」装置では、追加的なテーブルを並行して使用できるし、又は準備工程を１つ又は複数のテーブル上で実施し、他方で１つ又は複数の他のテーブルを露光用に使用することもできる。例えば、２連ステージ型リソグラフィ装置は、参照として本明細書に援用する米国特許第５，９６９，４４１号明細書及び国際公開第９８／４０７９１号パンフレットに説明されている。

知られているリソグラフィ装置では、パターン形成機器を支持構造によって支持する。この支持構造に、パターン形成機器を支持構造に対して固定するように構成されている連結具を設ける。

パターン形成機器は、支持構造の上で又は支持構造の下で支持可能である。どちらの場合も、連結具が故障することがあれば、できる限りパターン形成機器が支持構造に対して移動するのを防止することが望ましい。パターン形成機器の平面内でパターン形成機器が連結具に対して移動すると、パターン形成機器及び／又は支持構造の連結具若しくは他の部分に引っかき傷又は他の損傷をもたらす恐れがある。粒子が発生する恐れもあり、それはリソグラフィ装置の内部環境を汚染したり、又はこの装置に損傷を引き起こしたりする可能性がある。パターン形成機器が支持構造からリソグラフィ装置内に落下するようなことがあれば、パターン形成機器及びリソグラフィ装置の重要機械部分に対して実質的に損傷を与える可能性が非常に高い。

本発明の原理は、本明細書に具体化しかつ明白に説明するように、パターン形成機器を支持構造に対して取り付ける連結具の故障による損傷に対してより適切に確保されている、パターン形成機器の安全機構を備えたリソグラフィ装置を提供する。一実施例では、本装置は、放射のビームを供給するための照射システムと、放射のビームの断面内にパターンを付与する役割を果たすパターン形成機器を支持するための支持構造と、複数の標的部分を有する基板を保持するための基板保持具と、パターン形成したビームを基板の標的部分上に投影するための投影システムと、パターン形成機器を支持構造に対して固定するための連結具と、連結具が故障することがあれば、パターン形成機器の無制御な変位を抑制するように構成された安全機構と、を備える。

明解にするために、ここでデカルト座標系を画定して本発明を理解するために必要な様々な方向及び平面を説明する。パターン形成機器の平面は、ｘ−ｙ平面として画定され、かつその平面に垂直な方向がｚ方向として画定されている。一般に、パターン形成機器の平面（ｘ−ｙ平面）は実質的に水平であり、したがってｚ方向（パターン形成機器の平面に直交する）は実質的に垂直であり、よって重力の方向となる。しかし、ｘ−ｙ平面及びｚ方向を含むデカルト座標系は、パターン形成機器の配向に応じて重力の方向に対して異なる配向も有し得る。

本発明によるリソグラフィ投影装置では、支持構造とパターン形成機器の間の取付けが破壊されるとき、安全機構が、パターン形成機器を物理的に保持することによって、連結具の故障によるパターン形成機器の無制御な移動を抑制する。

一般に、リソグラフィの一連の動作は、投影システムが動作している投影段階を含む。投影段階時に、ウェーハなどの基板が露光される。投影段階時に、支持構造がパターン形成機器を支持する。

リソグラフィ装置の一連の動作は交換段階も含む。交換段階時に、パターン形成機器が交換される。交換段階では、位置決め構造が、パターン形成機器のための支持構造に対してパターン形成機器を位置決めする。位置決めシステムは、パターン形成機器を搬送するレチクル搬送台を備える。位置決めは、例えば、測定及び制御によって又は機械的な結合によって、様々な方法で実行可能である。パターン形成機器の支持構造に対してパターン形成機器を位置決めした後で、パターン形成機器の支持構造は、パターン形成機器をレチクル搬送台から受け取る。連結具がパターン形成機器を支持構造に対して固定し、かつレチクル搬送台は支持構造から遠ざかる。

投影段階時での連結部の故障の結果が最も大事になる恐れがあるので、安全機構は、少なくとも投影段階時に連結具が故障することがあれば、パターン形成機器を保持するようになされていることが好ましい。

有利な一実施例では、安全機構は、１つ又は複数のｘ止め具と１つ又は複数のｙ止め具を備える。これらのｘ止め具とｙ止め具は共に、連結具が故障することがあれば、パターン形成機器の平面内においてパターン形成機器が支持構造に対して実質的に移動するのをいずれも抑制する。安全機構は１つ又は複数のｚ止め具をさらに備え、連結具が故障することがあれば、パターン形成機器が、パターン形成機器の平面から外れる方向に、支持構造に対して実質的に変位するのを抑制する。前記ｘ止め具の１つ又は複数の止め具、前記ｙ止め具の１つ又は複数の止め具、及び／又は前記ｚ止め具の１つ又は複数の止め具は、パターン形成機器を支持構造に配置するために、かつパターン形成機器を支持構造から取り外すために必要な交換段階時に、パターン形成機器の移動を可能にするように可動式である。好ましくは、これらの可動式止め具は、必要ならば、位置決めシステムの移動も可能にする。

本実施例では、パターン形成機器は、少なくとも３つの並進自由度で、したがって、可能性として全部で６つの自由度で保持される。

ｘ方向、ｙ方向、及びｚ方向の少なくとも３つの止め具を有し、連結具が故障すると、パターン形成機器は、その移動がそのすべての自由度で制限されるように相対的に位置決めされていることが有利である。このようにして、連結具が故障することがあれば、パターン形成機器が装置内の知られた空間に限定され、連結具の故障後にパターン形成機器を容易に回収することができる。

安全機構によってパターン形成機器が変形を受けるのを回避するために、止め具は、リソグラフィ投影装置の通常動作時にパターン形成機器と物理的に接触していないことが好ましい。このようにして、パターン形成機器に対する疲労負荷が回避され、したがって投影画像がより正確になる。また、止め具とパターン形成機器の間に間隔を設けることによって、パターン形成機器が過剰に拘束されるのを回避する。それぞれの止め具とパターン形成機器の間の１〜３ｍｍの間隔（その通常位置にあるとき）が適切に機能することが分かっている。

ｘ止め具及びｙ止め具は、支持構造に装着されていることが好ましい。これが有利であるのは、このようにすると、パターン形成機器が投影システムに対して移動するとき、これらの止め具がパターン形成機器と一緒に移動し、したがって支持構造がパターン形成機器を移動するとき、止め具とパターン形成機器の間の最適距離が維持されるからである。

１つ又は複数のｘ止め具と１つ又は複数のｙ止め具が、ｘ−ｙ平面内でのパターン形成機器の移動を防止する１つ又は複数のｘ−ｙ止め具に一体化されることが想定されている。これは、例えば、パターン形成機器に装着されている１つ又は複数のブラケット中の穴を貫通して突出するピンによって実現可能である。

有利な一実施例では、安全機構が安全モードと停止モードを有し、安全モードにある安全機構は、少なくとも投影段階時に、連結具の故障によって引き起こされる、パターン形成機器の支持構造に対する無制御な変位による損傷からリソグラフィ装置とパターン形成機器を保護する。このような有利な実施例では、安全手段は、交換段階において、位置決めシステムによって実行される位置決め移動によって動作するようになされている。

本実施例は、投影システムの休止時間が増加することなく、パターン形成機器を支持構造に対して固定する連結具の故障に対して、パターン形成機器が確保されているリソグラフィ装置を提供するので特に有利である。

好ましくは、安全機構が可撓性要素と保持要素を備え、可撓性要素は支持構造又は投影システムに装着され、かつ保持要素は可撓性要素に装着されている。

安全機構は、少なくとも３つの可撓性要素を備え、それぞれの要素に保持要素がそれぞれに備わっていることが好ましい。

好ましい一実施例では、可撓性要素が板ばねであり、それに保持要素が装着されている。安全モードでは、板ばねが、支持構造又は投影システムから離れるようにｚ方向（パターン形成機器の平面に実質的に直交する）に延びる。本実施例は安価で信頼性のある設計を提供する。

別法による一実施例では、可撓性要素が、ばね装着ピンであり、それは実質的にｘ−ｙ平面（すなわち、パターン形成機器の平面）内に位置決めされ、かつその長手軸に沿ってこのｘ−ｙ平面内で移動可能である。このようなピンには、位置決め手段、好ましくはレチクル搬送台に係合するようになされている傾斜面が設けてあることが好ましい。レチクル搬送台が支持構造に向かってｚ方向に移動すると、この搬送台はピンをその停止モードに押し退け、したがってパターン形成機器が通過可能になる。レチクル搬送台がピンを釈放するとき、これらのピンは再びその安全モードをとる。この別法による実施例では、保持要素は可撓性要素の一体部分であり得る。

他の別法による一実施例では、保持要素が専用のアクチュエータによって駆動される。

１つ若しくは複数のｘ止め具、及び／又は１つ若しくは複数のｙ止め具が可動式であることが必要なとき、それらを上述の可動式ｚ止め具の設計にしたがって設計されることが想定されている。

好ましい一実施例では、位置決めシステムがレチクル搬送台を備える。このレチクル搬送台は、パターン形成機器を支持構造に配置する過程で、パターン形成機器を支持構造に運ぶ。レチクル搬送台はまた、パターン形成機器を支持構造から取り外す過程で、パターン形成機器を支持構造から運び去る。この好ましい実施例では、レチクル搬送台には、可撓性要素に係合し、よって安全機構を動作させる係合手段が設けられている。

本発明の別の一態様によれば、放射感応材料の層によって少なくとも一部が被覆された、標的部分を有する基板を提供する工程と、放射システムを使用して放射の投影ビームを供給する工程と、投影ビームの断面内にパターンを付与し、よってパターン形成したビームを作成するために、支持構造によって支持されているパターン形成機器を使用する工程と、パターン形成した放射ビームを放射感応材料層の標的部分上に投影する工程と、位置決めしたパターン形成機器を連結具を使用して支持構造に取り付ける工程と、連結具が故障することがあれば、パターン形成機器を保持するようになされている安全機構を設ける工程と、を含むデバイス製造方法が提供される。

本明細書では、集積回路の製造において本発明によるリソグラフィ装置を使用することに特定的に言及する場合があるが、このような装置には他の可能な多くの応用例があり得ることを明確に理解されたい。例えば、この装置は、集積光学系、磁気ドメイン記憶装置用の誘導及び検出パターン、液晶ディスプレイ・パネル、薄膜磁気ヘッド等々の製造に使用することができる。このような別法による応用例の文脈では、本明細書の「レチクル」、「ウェーハ」、又は「ダイ」という用語の使用はいずれも、より一般的な「マスク」、「基板」、又は「標的部分」という用語にそれぞれに置き換えられるものと見なすべきであることが当業者には理解されよう。

本明細書では、「放射」及び「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの波長を有する）及び極紫外線（ＥＵＶ）放射（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）ばかりでなく、イオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームも含めて電磁放射のすべての種類を包含する。

ここで、添付の概略図面を参照して、例示としてのみ本発明の実施例を説明する。

図では、対応する参照符号は対応する部分を指す。

図１Ａ、１Ｂは、本発明の特定の一実施例によるリソグラフィ投影装置を模式的に示す図である。この装置は以下のものを備える。

放射システムＥＸ、ＩＬ：これは放射（例えば、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、又は１５７ｎｍの波長で動作するエキシマ・レーザによって、又は１３．６ｎｍで動作するレーザ発光プラズマによって発生するような紫外線放射）の投影ビームＰＢを供給するように構成されている。この特定の場合には、放射システムは放射源ＬＡも備える。

第１物体テーブルＭＴ（マスク・テーブル、マスク保持具）：これはマスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するためのマスク保持器を備え、かつ要素ＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１位置決め機構ＰＭに連結されている。

第２物体テーブルＷＴ（基板テーブル、基板保持具）：これは基板Ｗ（例えば、レジストを塗布したシリコン・ウェーハ）を保持するための基板保持具を備え、かつ要素ＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２位置決め機構ＰＷと、レンズＰＬに対して基板及び／又は基板テーブルの位置を正確に示すための測定構造ＩＦ（例えば、干渉計）に連結されている。

投影システム（「レンズ」）ＰＬ：（例えば、水晶及び／又はフッ化カルシウムのレンズ・システム若しくはこのような材料から作製されたレンズ要素を含む反射屈折系、又はミラー・システム）これは基板Ｗの標的部分Ｃ（例えば、１個又は複数のダイを含む）の上にマスクＭＡの照射された部分を描画するように構成されている。

ここで図示するように、本装置は透過型である（すなわち、透過型マスクを有する）。しかし、この装置は一般には、例えば、反射型でもよい（反射型マスクを有する）。別法として、本装置は、上で言及した種類のプログラマブル・ミラー・アレイなど、別種のパターン形成機構を使用することもできる。

放射源ＬＡ（例えば、水銀ランプ、エキシマ・レーザ、電子銃、レーザ発生プラズマ源、若しくは放電プラズマ源、又はストレイジ・リング若しくはシンクロトロン中の電子ビームの経路の周りに設けたアンジュレータ）が、放射ビームを発生する。このビームは、照射システム（照射器）ＩＬ中に、図１Ａに示すように直接に、又は調節構造若しくは領域を横切った後で送出される。例えば、ビーム送出システムＢＤが適切な誘導ミラー及び／又はビーム拡大器を含むことができる。図１Ｂに示すように、照明器ＩＬは、投影ビームによって、例えば、基板に送出される放射エネルギーの角分布に影響を与え得る、ビーム中の強度分布の外半径範囲及び／又は内半径範囲（一般にそれぞれをσ外半径及びσ内半径と呼ぶ）を設定する調整構造若しくは領域ＡＭを備えることができる。さらに、本装置は一般に、積分器ＩＮ及び集光器ＣＯなどの他の様々な構成要素を備えることができる。このようにしてマスクＭＡに当たるビームＰＢは、その断面中に望ましい均一性と強度分布を有する。

図１に関して、放射源ＬＡがリソグラフィ投影装置の筐体内部に位置する場合（放射源ＬＡが、例えば水銀ランプである場合にしばしばそうであるように）があること、しかしこの放射源がリソグラフィ投影装置から遠隔にあって、放射源が発生する放射ビームをこの装置に導き入れる場合もある（例えば、適切な誘導ミラーの補助によって）ことに留意されたい。後者のシナリオは、放射源ＬＡがエキシマ・レーザである場合にしばしばそうである。本発明及び特許請求の範囲は、これらの両方のシナリオを包含する。

次いでビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴの上に保持されているマスクＭＡと交差する。このマスクＭＡを横切った後で（別法として、マスクによって選択的に反射された後で）、ビームＰＢはレンズＰＬを通過するが、このレンズはビームＰＢを基板Ｗの標的部分Ｃ上に合焦する。第２位置決め構造（及び干渉測定手段ＩＦ）の補助によって、例えば、ビームＰＢの経路中に異なる標的部分Ｃを位置決めするために、基板テーブルＷＴを正確に移動することができる。

同様に、第１位置決め構造を使用して、例えば、マスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に取り出した後に又は走査時に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、物体テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、長行程モジュール（大まかな位置決め）及び短行程モジュール（微細な位置決め）の補助によって実現することになる（図１で明示的に図示せず）。しかし、ウェーハ・ステッパの場合は（ステップ・アンド・スキャン装置とは異なり）、マスク・テーブルＭＴを短行程アクチュエータに連結するだけでもよいし又は固定してもよい。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク位置合せ標識Ｍ１、Ｍ２及び基板位置合せ標識Ｐ１、Ｐ２を用いて位置合せ可能である。

図示の装置は以下のような様々な異なる方式で使用可能である。
ステップ方式：マスク・テーブルＭＴを基本的に静止状態に保ち、マスク画像全体を１回で（すなわち、単一「閃光」）標的部分Ｃの上に投影する。次いで、基板テーブルＷＴをｘ及び／又はｙ方向に移動して、異なる標的部分ＣをビームＰＢによって照射することができる。

スキャン方式：所与の標的部分Ｃを単一「閃光」で露光しないことを除いて本質的には同じシナリオが該当する。マスク・テーブルＭＴは、静止するのではなく、速度ｖで所与の方向（いわゆる「走査方向」、例えば、ｙ方向）に移動可能であり、投影ビームＰＢにマスク画像全体にわたって走査させ、並行して基板テーブルＷＴを速度Ｖ＝Ｍｖで同じ方向に又は逆方向に同時に移動する。前式でＭはレンズＰＬの倍率である（典型的には、Ｍ＝１／４又は１／５である）。このようにして、解像度を損なわずに、相対的に大きな標的部分Ｃを露光することができる。

他の方式：マスク・テーブルＭＴを本質的に静止状態に保ってプログラム可能なパターン形成構造を保持し、かつ投影ビームに付与されたパターンを標的部分Ｃ上に投影する間、基板テーブルＷＴが移動すなわち走査される。この方式では、一般にパルス放射源を使用し、プログラム可能なパターン形成構造は、基板テーブルＷＴのそれぞれの移動後に又は走査時の連続的な放射パルスの合間に、必要に応じて更新される。このような動作方式は、上で言及した種類のプログラマブル・ミラー・アレイなどの、プログラム可能なパターン形成構造を利用するマスクレス・リソグラフィに直ちに応用可能である。

以上に説明した使用方式に関する組合せ及び／若しくは変形、又は全く異なる使用方式を用いることも可能である

図２Ａ、２Ｂは、本発明によるリソグラフィ投影装置の該当部分を示す模式的な概観図である。ｘ、ｙ、及びｚ方向を含む基準座標系を図２Ａ、２Ｂに示す。明らかなように、ｘ−ｙ平面はパターン形成機器（この場合は、マスク又はレチクル１）の平面内にあり、ｚはその平面に直交する方向である。

図２Ａ、２Ｂ及び３Ａ〜３Ｃの実施例では、使用されているパターン形成機器はレチクル１である。このレチクル１は透過型又は反射型であり得る。図３Ａ、３Ｂ、３Ｃの実施例では、ブラケット２がレチクル１の周縁上の少なくとも３箇所に設けてある。しかし、レチクル１の表面上に又はブラケット以外の、フレームのような境界面上に設けられる専用の取扱い区域のような、機械部分がレチクルに接触することが可能な他の方策をとることも想定されている。

支持構造２５がレチクル１を支持するために設けられている。レチクル１は、連結具２１によって支持構造２５に取り付けられるか又は固定される。この連結具２１は、例えば、静電クランプ又は真空クランプであり得る。レチクル１を、例えば、ブラケット２に係合する機械式連結具によって支持構造に固定してもよい。このような機械式連結具は、レチクル１を支持構造２５に固定するために力を使用してもよいし、又は連結具が係合するレチクル１の一部の形状と相補的な形状を有する要素を使用してもよい。図示の実施例では、レチクル１が支持構造２５の下方で支持されている。しかし、レチクル１を支持構造２５の上に、例えば、支持構造中の凹部の内側で支持することも可能である。

図２Ａ、２Ｂ、及び図３Ａ、３Ｂ、３Ｃの実施例では、当該リソグラフィ装置の動作周期が、パターン形成したビームを基板の標的部分上に投影する投影段階を有する。投影段階時には、レチクル１は連結具によって支持構造２５に固定されている。リソグラフィ装置の動作周期はまた、レチクル１を交換し、かつ位置決めシステムがレチクル１を支持構造２５に対して位置決めする交換段階を有する。また交換段階時に、レチクル１を位置決めした後に位置決めシステムの少なくとも一部（レチクル搬送台など）を引っ込める。

この位置決めシステムは、交換段階時にレチクル１を支持構造２５に対して移動しかつ位置決めするレチクル搬送台１０を備える。

図２Ａ、２Ｂの実施例では、安全機構が４つのｘ方向の止め構造、すなわち、ｘ止め具５５と、４つのｙ方向の止め構造、すなわち、ｙ止め具５６を備える。これらのｘ止め具５５とｙ止め具５６は共に、連結具２１の故障によるレチクル１のｘ−ｙ平面内における無制御な変位をいずれも抑制する。止め具の異なる数の使用が可能であることが理解されよう。

支持構造２５のｘ−ｙ平面内でのいずれの移動時であっても、連結具が故障することがあれば、レチクル１は、重力の方向に動くばかりでなく、重力の方向に対するｘ−ｙ平面の配向に関係なくｘ−ｙ平面内で変位することが分かっている。このようなｘ−ｙ平面内での変位は、レチクルの移動時の、ｘ−ｙ平面内でのレチクル１の速度及び／加速度（重力を含む）によるものである。

連結具２１の故障によるレチクル１のｘ−ｙ平面内での無制御な変位は、支持構造２５に対するレチクル１の移動によってレチクル１と支持構造２５の間に滑りを引き起こすので抑制する必要がある。これは、レチクル１及び／又は支持構造２５の上の引っかき傷につながり得る。連結具２１の上の引っかき傷は特に不都合である。またリソグラフィ装置の内部環境を汚染する粒子が発生する恐れもある。

静電クランプは、レチクル１を支持構造２５に固定又は取り付けるための連結具２１として使用するには適切な選択肢である。しかし、このようなクランプは引っかき傷及び粒子には特に敏感である。真空クランプを連結具２１として使用するとき、引っかき傷及び粒子は、必要な真空圧に達する上で問題を引き起こす恐れがある。このようなクランプはまた、固定面の平坦性の不具合に敏感である。このような不具合は連結具２１の故障によって起こり得る。

図２Ａ、２Ｂの実施例では、安全機構はまた、３つのｚ方向の止め構造、すなわち、ｚ止め具５７を備え、少なくとも投影段階時に、レチクル１の平面から離れる方向にレチクル１が支持構造に対して無制御に変位するのを防止する。これらのｚ止め具５７は、交換段階時に、レチクル１を支持構造に装着又は脱着できるように可動式である。

重力方向への無制御な変位は、レチクル１がリソグラフィ装置の内部に落下することになるので望ましくないことが理解されよう。これはレチクル１及び高い確率でリソグラフィ装置の部品も損傷することになる。

レチクル１を交換するとき（例えば、第１のレチクルを支持構造２５から取り外し、それを第２のレチクルと交換する）、それぞれのレチクルは支持構造２５に対して移動される。すべての止め具が支持構造２５に対して固定されていれば、それらはレチクル１を交換するときに邪魔になる。したがって、止め具の幾つかは、交換段階時に、それぞれのレチクルの経路から退けることができるように可動式である。当然のことであるが、これらの可動式止め具は、交換段階時にレチクルを搬送するレチクル搬送台１０（又は位置決めシステムの他の部分）の進路からも退けられるように構成されている。これらの可動式止め具は、位置決めシステムによっても又は専用のアクチュエータによっても動作可能である。

本実施例では、レチクル１を支持構造２５に配置する過程で、レチクル１をｚ方向に支持構造２５まで運ぶように、かつレチクル１を支持構造から取り外すとき、同様にレチクル１をｚ方向に取り出すように、ｚ止め具５７は可動式である。しかし、レチクル１を異なる方向に支持構造に配置しかつ／又はそこから取り外すことも想定されている。その場合には、他の止め具が可動式でなければならない。

すべての止め具が共にレチクル１の通常位置の周りの空間を画定し、この画定された空間が通常動作時にレチクル１が占有する空間よりもほんの少しだけ大きいことが好ましい。このようにして、レチクル１は、連結具の故障後に、レチクル１の交換と同じ方法で回収可能になる。この目的のために、止め具とレチクル１の間の１〜３ｍｍの間隔（レチクル１がその通常位置を占有するとき）が適切であることが分かっている。

一般に、リソグラフィ投影装置の通常動作時に止め具がレチクル１と物理的に接触していない場合が有利である。これは、安全機構によるレチクル１の変形を回避するためである。このようにして、レチクル１に対する疲労負荷が回避され、したがって投影された画像がより正確になる。同様に、止め具とレチクル１の間に間隔を設けることによって、レチクル１の過剰な拘束を回避する。この目的のためには、同じようにそれぞれの止め具とレチクルの間の１〜３ｍｍの間隔が適切であることが分かっている。

図３Ａ、３Ｂ、３Ｃの実施例では、要素５８が、レチクル１に取り付けられているブラケット２の中の穴４を貫通して突出する。これらの要素５８は、少なくとも投影段階時に、連結具２１の故障によるレチクル１のｘ−ｙ平面内の無制御な動きを共に防止するので、組み合わされたｘ止め具とｙ止め具の役割を果たす。

また図３Ａ、３Ｂ、３Ｃには、ｚ止め具の有利な実施例も示されている。この実施例では、レチクル搬送台１０のような位置決めシステムの一部が、安全機構を安全モードから停止モードに切換え、さらに再び安全モードに戻す。

安全モードでは、安全機構は、それが位置決めシステムと係合していないときにとる位置にある。この安全モードは、安全機構が連結具の故障に対してレチクル１及びリソグラフィ装置に安全措置を講じているモード、並びにレチクル１が支持構造２５に又はその近くに存在していない、安全機構の休止モードである。停止モードは、レチクル１が安全機構を通過できるモードである。レチクル１が支持構造２５に装着されている過程又はそれから脱着されている過程にあるときに安全機構がこの位置にある。

図示の実施例では、安全機構はレチクル搬送台１０の移動によって作動されるが、レチクル搬送台１０は、レチクル１を投影システムに対して位置決めするために、レチクルを支持構造２５に装着するために、又はレチクル１を支持構造２５から脱着するために、いずれにしてもこのような移動を実行しなければならない。これらの移動には、連結具２１によってレチクル１を支持構造に取り付けた後にレチクル搬送台１０を引っ込めることも含まれる。

このようにして、安全機構の作動及び作動停止には、投影システムの追加的な休止時間を少しも必要としない。それは専用アクチュエータ及び安全機構の存在に関連する制御システムの必要性も排除する。したがって、連結具の故障が原因でレチクル１が支持構造２１から釈放されることによる機械的な損傷に対する追加的な安全措置は、リソグラフィ装置によって実現可能な処理能力の低下をもたらすことがない。

本実施例における安全機構は、３つの可撓性要素５１を備え、それぞれに保持要素５２が設けられている。図示の実施例では、この可撓性要素５１が板ばねである。レチクル搬送台１０は、交換段階においてレチクル１を支持構造２５に対して位置決めする位置決めシステムの一部であるが、この搬送台には係合手段５３が追加的に設けてある。これらの係合手段のそれぞれは可撓性要素又は保持要素に係合するように構成されている。

交換段階においてレチクル搬送台１０が支持構造２５に向かう移動時に、レチクル搬送台１０は、可撓性要素５１に係合し、それを曲げて押し退けるか又は別様にそれをレチクル１の経路から押し退ける。このようにして、保持要素５２は、レチクルの位置決め時にレチクル１が辿る経路から押し退けられる。レチクル搬送台１０の引込み時に、レチクル搬送台１０は板ばねを釈放する。したがって、保持要素５２を有する可撓性要素５１はその安全モードに復帰するが、そのモードでは保持要素５２はレチクル１の下方に位置する。

次の交換段階時に、レチクル１を支持構造２５から脱着しなければならないときは、レチクル搬送台１０が再びレチクル１に向かって移動する。レチクル搬送台１０がレチクル１に接近する間に、この搬送台が可撓性要素５１を曲げて押し退け、よって保持要素５２を外側に（すなわち、レチクル１の下方領域の外に）退かす。そのときには保持要素５２がもはやレチクル１の下にはないので、レチクル１がレチクル搬送台１０によって支持構造２５から脱着される間、レチクル１はｚ方向に要素５２を通過することができる。

安全機構の動作は、図３Ａ、３Ｂ、及び３Ｃによって最も適切に例示されている。図３Ａでは、安全機構はその安全モードにある。可撓性要素５１には力が加わっていない。図３Ｂの状況では、レチクル搬送台１０が支持構造２５に接近する。係合手段５３は可撓性要素５１に係合しかつそれを外側に押しやり、レチクル１のそれぞれのブラケット２が保持要素５２を通過できるようにする。安全機構は今やその停止モードにある。図３Ｃに示すように、レチクル搬送台１０を引っ込めるとき、安全機構が再びその安全モードをとる。保持要素５２は今やそれぞれのブラケット２の下方にある。連結具２１が故障するようなことがあれば、保持要素５２が共にレチクル１をｚ方向に支持することによって、レチクル１が装置の中に落下するのを防止する。

レチクル１を支持構造２５から脱着するためには、この手順を逆の進行で反復する。

図４は、図３Ａ、３Ｂ、３Ｃにしたがう有利な実施例の別法による一実施例を示す。この別法による実施例では、可撓性要素は、ばねを装着したピン６０であり、それは実質的にｘ−ｙ平面（すなわち、パターン形成機器の平面）内に位置決めされ、かつその長手軸に沿ってこのｘ−ｙ平面内を移動することができる。

ピン６０には、位置決め手段、好ましくはレチクル搬送台１０が係合するように構成されている傾斜面６１が設けてある。レチクル搬送台１０が投影システムに向かってｚ方向に移動すると、この搬送台はピン６０を矢印Ｆの方向にそれらの停止モードに押しやり、したがってパターン形成機器が通過することができる。レチクル搬送台がピン６０を釈放するとき、これらのピンは再びその安全モードをとる。この別法による実施例では、保持要素は可撓性要素の一体部分であり得る。

以上に本発明の特定の実施例を説明してきたが、本発明は説明とは別様に実施可能であることが理解されよう。以上に説明した実施例は、ソフトウェア、ファームウェア、及び図に例示した独立要素にあるハードウェアの異なる実施例でも実施可能である。

したがって、本明細書は本発明を限定しようとするものではない。本発明の構成、動作、及び挙動は、本明細書に供されている程度の内容が所与であれば、これらの実施例の変更及び変形形態が可能であるという理解の下に説明してきた。よって以上の詳細な説明は、いずれにしても本発明の限定を意図又は目的とするものではなく、本発明は添付の特許請求の範囲によって画定される。

本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置を示す模式図である。 本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置を示す模式図である。 本発明によるリソグラフィ装置の有利な一実施例における、リソグラフィ投影装置の関連部分を示す模式的な概観図である。 本発明によるリソグラフィ装置の有利な一実施例における、リソグラフィ投影装置の関連部分を示す模式的な概観図である。 本発明のリソグラフィ装置の有利な一実施例における安全システムの動作を示す模式的な概観図である。 本発明のリソグラフィ装置の有利な一実施例における安全システムの動作を示す模式的な概観図である。 本発明のリソグラフィ装置の有利な一実施例における安全システムの動作を示す模式的な概観図である。 図３Ａ〜３Ｃによる実施例の代替実施例を示す図である。

符号の説明

ＡＭ 調整手段
Ｃ 標的部分
ＣＯ 集光器
ＥＸ 放射システム
ＩＦ 干渉計
ＩＬ 照射システム（照射器）
ＩＮ 積分器
ＬＡ 放射源
Ｍ１、Ｍ２ マスク位置合せ標識
ＭＡ マスク（レチクル）
ＭＴ マスク・テーブル
Ｐ１、Ｐ２ 基板位置合せ標識
ＰＢ 投影ビーム
ＰＭ 第１位置決め機構
ＰＬ 投影システム（レンズ）
ＰＷ 第２位置決め機構
Ｗ 基板
ＷＴ 基板テーブル
１ マスク又はレチクル
２ ブラケット
４ ブラケットの穴
１０ レチクル搬送台
２１ 連結具
２５ 支持構造
５１ 可撓性要素
５２ 保持要素
５３ 係合手段
５５ ｘ止め具
５６ ｙ止め具
５７ ｚ止め具
５８ 突出要素
６０ ばね装着ピン
６１ ピンの傾斜面

Claims (29)

1. 放射ビームを供給するための放射システムと、
   所望のパターンにしたがって前記放射ビームをパターン形成するパターニング手段を支持するための支持構造と、
   標的部分を有する基板を保持するための基板テーブルと、
   前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分上に投影するための投影システムと、
   前記パターニング手段を前記支持構造に対して位置付けるための位置決めシステムであって、前記パターニング手段が位置決めされた後、少なくとも一部が引っ込められる位置決めシステムと、
   前記パターニング手段を前記支持構造に対して固定するための連結具と、
   前記連結具が故障することがあれば前記パターニング手段の変位を抑制するように構成された安全機構であって、前記位置決めシステムによって動作可能な少なくとも１つの可動式止め具を含む安全機構と、
   を備える、リソグラフィ投影装置。
2. 請求項１に記載の装置において、
   前記パターン形成したビームが前記基板の標的部分上に投影されている間、前記パターニング手段が前記連結具によって前記支持構造に固定されている投影段階と、
   前記パターニング手段が交換され、前記位置決めシステムが該パターニング手段を前記支持構造に対して位置決めし、かつ前記位置決めシステムの少なくとも一部が、前記パターニング手段が位置決めされた後に引っ込められる交換段階と、を含むリソグラフィ動作周期をさらに含み、
   前記安全機構は、少なくとも前記投影段階時に、前記連結具が故障することがあれば、前記パターニング手段の変位を抑制するように構成されている、リソグラフィ投影装置。
3. 請求項２に記載の装置において、
   前記安全機構が、
   前記パターニング手段を前記支持構造に対して該パターニング手段のｘｙ平面内における変位を抑制するように構成されている、少なくとも１つのｘ指向止め構造及び少なくとも１つのｙ指向止め構造と、
   前記パターニング手段を前記支持構造に対して該パターニング手段のｘｙ平面から離れる方向における変位を抑制するように構成されている、少なくとも１つのｚ指向止め構造とを備え、
   前記少なくとも１つの可動式止め具は、前記ｘ指向止め構造、ｙ指向止め構造、ｚ指向止め構造のうちの少なくとも１つの止め構造であり、前記交換段階時に前記パターニング手段を移動可能にするように可動式である、リソグラフィ投影装置。
4. 前記安全機構が、少なくとも３つのｘ指向止め構造、少なくとも３つのｙ指向止め構造、及び少なくとも３つのｚ指向止め構造を備える、請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
5. 前記パターニング手段が、前記支持構造に対してその通常位置を占めるとき、前記ｘ指向止め構造、前記ｙ指向止め構造、及び前記ｚ指向止め構造と、該パターニング手段との間の間隔が１〜３ｍｍである、請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
6. 前記ｘ指向止め構造及び前記ｙ指向止め構造が前記支持構造に装着されている、請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
7. 前記安全機構が、少なくとも１つの一体になったｘｙ指向止め構造を備える、請求項３に記載のリソグラフィ投影装置。
8. 請求項２に記載の装置において、
   前記交換段階において、前記位置決めシステムが、前記パターニング手段を位置決めした後に該位置決めシステムの少なくとも一部を引っ込めることを含めて、前記パターニング手段を前記支持構造に対して位置決めするために必要な位置決め移動を実行するように構成され、
   前記安全機構に安全モードと停止モードが備わり、該安全機構は、前記安全モードにおいて、連結具が故障することがあれば、前記パターニング手段の変位を抑制するように構成され、さらに
   交換段階において、前記安全機構が、前記位置決めシステムの１回又は複数回の位置決め移動によって動作するように構成されている、リソグラフィ投影装置。
9. 前記安全機構が可撓性要素と保持要素を備え、該可撓性要素は前記支持構造と前記投影システムの少なくとも１つに装着され、さらに前記保持要素は前記可撓性要素に装着されている、請求項８に記載のリソグラフィ投影装置。
10. 前記可撓性要素が板ばねである、請求項９に記載のリソグラフィ投影装置。
11. 前記可撓性要素がばね装着ピンである、請求項９に記載のリソグラフィ投影装置。
12. 前記位置決めシステムが、前記安全機構を動作させるように構成されているレチクル搬送台を備える、請求項８に記載のリソグラフィ投影装置。
13. 前記安全機構を動作させる前記位置決めシステムの一部が、該安全機構に係合するようになされた境界面を備える、請求項８に記載のリソグラフィ投影装置。
14. 前記安全機構が３つの可撓性要素を備え、それぞれに保持要素が設けられている、請求項９に記載のリソグラフィ投影装置。
15. 複数の標的部分を有する基板を準備する工程と、
    照射システムを使用して放射ビームを供給する工程と、
    前記放射ビームの断面にパターンを付与する、支持構造によって支持されているパターニング手段を使用する工程と、
    連結具を使用して前記位置決めされたパターニング手段を支持構造に固定する工程と、
    前記連結具が故障することがあれば、前記パターニング手段の変位を抑制するように構成されている安全機構を設ける工程と、
    投影システムによって、前記パターン形成された放射ビームを前記基板の標的部分の少なくとも１つの上に投影する工程と、を含み、
    前記安全機構は、少なくとも１つの可動式止め具を含み、
    前記可動式止め具は、前記パターニング手段を前記支持構造に対して位置付けるための位置決めシステムであって前記パターニング手段が位置決めされた後少なくとも一部が引っ込められる位置決めシステムによって動作可能である、デバイス製造方法。
16. 請求項１５に記載の方法において、
    前記パターン形成したビームが前記基板の標的部分上に投影されている間、前記パターニング手段が前記連結具によって前記支持構造に固定されている投影段階と、
    前記パターニング手段が交換され、前記位置決めシステムが該パターニング手段を前記支持構造に対して位置決めし、かつ前記位置決めシステムの少なくとも一部が、前記パターニング手段が位置決めされた後に引っ込められる交換段階と、を含むリソグラフィ動作周期を提供する工程をさらに含み、
    前記安全機構は、少なくとも前記投影段階時に、前記連結具が故障することがあれば、前記パターニング手段の変位を抑制するように構成されている、デバイス製造方法。
17. 請求項１６に記載の方法であって、
    前記パターニング手段を前記支持構造に対して該パターニング手段のｘｙ平面内に閉じ込めるように構成されている、少なくとも１つのｘ指向止め構造及び少なくとも１つのｙ指向止め構造を有する前記安全機構を設ける工程と、
    前記パターニング手段を前記支持構造に対して該パターニング手段のｘｙから離れる方向における変位を抑制するように構成されている、少なくとも１つのｚ指向止め構造を有する前記安全機構を設ける工程とをさらに含み、
    前記少なくとも１つの可動式止め具は、前記ｘ指向止め構造、ｙ指向止め構造、ｚ指向止め構造のうちの少なくとも１つの止め構造であり、前記交換段階時に前記パターニング手段を移動可能にするように可動式である、デバイス製造方法。
18. 前記安全機構が、少なくとも３つのｘ指向止め構造、少なくとも３つのｙ指向止め構造、及び少なくとも３つのｚ指向止め構造を備える、請求項１７に記載のデバイス製造方法。
19. 前記パターニング手段が、前記支持構造に対してその通常位置を占めるとき、前記ｘ指向止め構造、前記ｙ指向止め構造、及び前記ｚ指向止め構造と、該パターニング手段との間の間隔が１〜３ｍｍである、請求項１７に記載のデバイス製造方法。
20. 前記ｘ指向止め構造及び前記ｙ指向止め構造が前記支持構造に装着されている、請求項１７に記載のデバイス製造方法。
21. 前記安全機構が、少なくとも１つの一体になったｘｙ指向止め構造を備える、請求項１７に記載のデバイス製造方法。
22. 請求項１６に記載の方法であって、
    前記交換段階において、前記パターニング手段を位置決めした後に前記位置決めシステムの少なくとも一部を引っ込めることを含めて、該パターニング手段を前記支持構造に対して位置決めするために必要な位置決め移動を前記位置決め機構によって実行する工程と、
    前記安全機構に安全モードと停止モードを備える工程であって、該安全機構は、前記安全モードにおいて、連結具が故障することがあれば、前記パターニング手段の変位を抑制するように構成される、安全モードと停止モードを備える工程と、
    前記交換段階において、前記位置決めシステムの１回又は複数回の位置決め移動によって前記安全機構を動作させる工程とをさらに含む、デバイス製造方法。
23. 前記安全機構が可撓性要素と保持要素を備え、該可撓性要素は前記支持構造と前記投影システムの少なくとも１つに装着され、さらに前記保持要素は前記可撓性要素に装着されている、請求項２２に記載のデバイス製造方法。
24. 前記可撓性要素が板ばねである、請求項２３に記載のデバイス製造方法。
25. 前記可撓性要素がばね装着ピンである、請求項２３に記載のデバイス製造方法。
26. 前記位置決めシステムが、前記安全機構を動作させるように構成されているレチクル搬送台を備える、請求項２２に記載のデバイス製造方法。
27. 前記安全機構を動作させる前記位置決めシステムの一部が、該安全機構に係合するようになされた境界面を備える、請求項２２に記載のデバイス製造方法。
28. 前記安全機構が３つの可撓性要素を備え、それぞれに保持要素が設けられている、請求項２３に記載のデバイス製造方法。
29. 放射ビームを供給する手段と、
    前記放射ビームの断面にパターンを形成する手段と、
    前記パターン形成手段を支持する手段と、
    複数の標的部分を有する基板を保持する手段と、
    前記パターン形成されたビームを前記基板の標的部分上に投影する手段と、
    前記パターン形成手段を前記支持手段に対して位置付けるための位置決め手段であって、前記パターン形成手段が位置決めされた後、少なくとも一部が引っ込められる位置決め手段と、
    前記パターン形成手段を前記支持手段に対して固定する手段と、
    前記固定手段が故障することがあれば前記パターン形成手段の変位を抑制する手段であって、前記位置決め手段によって動作可能な少なくとも１つの可動式止め手段を含む変位抑制手段と、
    を備える、リソグラフィ装置。

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