JP4791534B2 - 超小型電気機械デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の一実施態様によれば、本発明による超小型電気機械デバイスの製造方法は、
(1)基板ウェーハの前面に少なくとも1つの空胴を形成するステップであって、個々の空胴が頂部表面を有する少なくとも1つの側壁を有するステップと、
(2)中間ばね層の頂面又は頂部プレート層の底面のいずれかに、所望の高さの少なくとも1つのコネクタを形成するステップと、
(3)頂部プレートの底面と中間ばね層の頂面が対向し、かつ、中間ばね層の底面と基板の前面が対向するよう、基板ウェーハと中間ばね層と頂部プレート層を結合するステップと
を含むことができる。
図3.1乃至図3.9は、ウェーハボンディング技術を使用した製造方法の一実施例を示した図である。以下、この製造方法のステップについて説明する。この実施例の場合、中間ばね層は、膜層と呼ぶことができる。
ウェーハから材料を直接除去することによって空胴を形成する代わりに、犠牲技術を使用して、基板ウェーハ上のいずれか一方又は両方の空胴及び中間ばね層の上方の空胴(変換空間を構成している空胴)を形成することができる。また、犠牲技術を使用して、後で除去される犠牲層上に形成される暫定空胴を充填することによってコネクタを形成することも可能である。
(1)前面及び裏面を有する基板ウェーハを提供するステップと、
(2)基板ウェーハの前面に第1の犠牲層を付着させるステップと、
(3)第1の暫定空胴を形成するために第1の犠牲層をパターン化するステップと、
(4)第1の暫定空胴を充填し、かつ、第1の犠牲層の頂部表面を覆う膜層をさらに形成するために、第1の犠牲層上に第1の薄膜材料を付着させるステップであって、任意選択で膜層が下方の第1の犠牲層にアクセスするための少なくとも1つの孔を有するステップと、
(5)膜層の頂部に第2の犠牲層を付着させるステップと、
(6)第2の暫定空胴を形成するために第2の犠牲層をパターン化するステップと、
(7)少なくとも第2の暫定空胴を充填するために第2の薄膜材料を付着させるステップと、
(8)基板ウェーハの頂部に第1の空胴を形成し、かつ、膜層の頂部に第2の空胴を形成するために、第1の犠牲層及び第2の犠牲層を除去するステップと、
(9)頂部プレート層と側壁の頂部表面との間の第2の空胴から変換空間を構成するために、膜層上に頂部プレートを置くステップと
が含まれている。
上述した本発明による製造方法の2つのタイプの実施形態を組み合わせることも可能である。例えば、基板上に空胴を形成するステップは、犠牲技術を使用して達成することができ、一方、コネクタを形成するステップ及び他のステップは、熱酸化膜成長技術及びウェーハボンディング技術を使用して達成することができる。それとは逆に、犠牲技術を使用して後者のステップを達成し、一方、直接材料除去技術及びウェーハボンディング技術を使用して前者のステップを達成することも可能である。
変換器などの超小型電気機械デバイスがそれらの機能を実行するためには、電気接続が必要である。例えば、変換器の可動表面(本明細書の中で示されている頂部プレートなど)は、外部とインタフェースするために、場合によっては固定パッド(例えば、ワイヤボンディングパッド)に電気接続しなければならない。cMUT内のエレメント間の頂部電極は、とりわけ二次元アレイのいくつかの変換器設計では、場合によっては電気的に一体に相互接続しなければならない。接続構造には多くの設計が可能であるが、可動部品に接続される接続は、通常、柔軟(すなわち迎合的)で、かつ、デバイスの性能に対するそれらの影響が最小になるよう、十分な導電性を有していなければならない。
第1のタイプの構成では、デバイス(例えば、cMUT)を適当なマスク設計を使用して製造するために使用される同じステップで接続又は相互接続される。
cMUTエレメント間のトレンチは、アプリケーションによって密閉しなければならない。例えば、密閉構造により、トレンチ内への媒体又は湿気のリーク防止を促進することができる。設計を密閉構造にすることにより、エレメント間の結合を最小化することができる。また、密閉構造は、エレメント間の電気接続を提供することも可能である。トレンチは、デバイスを製造している間、又はデバイスの製造が完了した後に密閉することができる。
上記プロセスで使用される付着、塗布又は塗装方法の他に、ウェーハボンディング法を使用して所望の材料の膜に変えることも可能である。
上述したcMUTなどの超小型電気機械デバイスには、場合によっては、ボンディングワイヤ又はプローブを介して外部に相互接続する必要がある。そのためには、場合によっては電気インタフェースパッド(例えば、ワイヤボンディングパッド又はプロービングパッド)が必要である。インタフェースパッドは、通常、何らかの望ましくない寄生パラメータ(例えば、寄生キャパシタンス又は寄生インダクタンス)をもたらす。変換器の性能を改善するためには、これらの寄生パラメータを最小化しなければならない。
超小型電気機械デバイスの基本エレメントに対する追加機能が想定されており、以下で説明する方法を使用して製造することができる。
Claims (62)
- エネルギーを変換するための可動機械部品を有する超小型電気機械デバイスの製造方法であって、
基板ウェーハと中間ばね層と頂部プレート層を提供するステップと、
前記基板ウェーハの前面又は前記中間ばね層の底面のいずれかに少なくとも1つの空胴を形成するステップであって、個々の空胴が少なくとも1つの側壁を有するステップと、
前記中間ばね層の頂面又は前記頂部プレート層の底面のいずれかに所望の高さの少なくとも1つのコネクタを形成するステップと、
前記頂部プレート層上に変換部材を形成又は実現するステップと、
前記頂部プレート層の底面と前記中間ばね層の頂面が対向し、かつ、前記中間ばね層の底面と前記基板ウェーハの前面が対向するよう、前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップとを有し、
前記コネクタが前記中間ばね層から突出して、前記頂部プレート層と前記中間ばね層の間に変換空間を構成し、前記コネクタが、前記側壁から水平方向に十分な長さだけ間隔を隔てて、前記側壁に固定された片持ち梁を構成し、前記片持ち梁の作用端が前記コネクタに固定され、前記片持ち梁及び前記空胴が前記コネクタの垂直方向の変位を可能にし、それにより前記頂部プレート層が実質的に垂直方向にピストン様の運動で移動し、延いては前記変換空間が変化して前記変換部材が作動することを特徴とする超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記空胴が少なくとも2つの側壁によって構成され、前記コネクタが前記2つの側壁の間に位置し、かつ前記2つの側壁の各々から水平方向に十分な長さだけ間隔を隔てて、ヘッドツーヘッドで接続された2つの片持ち梁を有するブリッジを構成することを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記少なくとも1つの空胴を形成するステップが、
前記基板ウェーハの前面に第1の空胴及び第2の空胴を形成するステップであって、前記第1の空胴及び前記第2の空胴が前記側壁の互いに反対側の2つの面に位置して前記側壁を共有するステップを含み、
前記少なくとも1つのコネクタを形成するステップが、
同じ所望の高さの第1のコネクタ及び第2のコネクタを形成するステップであって、前記第1のコネクタ及び前記第2のコネクタが前記側壁の互いに反対側の面に位置し、それぞれ前記側壁から水平方向に十分な長さだけ間隔を隔てて、バックツーバックで前記側壁に接続された2つの片持ち梁を構成するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、前記第1の空胴を覆うために前記基板ウェーハの頂部に前記中間ばね層を配置するステップを含み、
前記コネクタを形成するステップが、前記中間ばね層が前記基板ウェーハに結合された後に、前記中間ばね層の頂面に前記コネクタを形成するステップを含み、
前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、前記コネクタがその上に形成された前記中間ばね層が前記基板ウェーハに結合された後に、前記コネクタ上に前記頂部プレート層を配置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記コネクタを形成するステップが、前記頂部プレート層の底面に前記コネクタを形成するステップを含み、前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
前記コネクタ上に前記中間ばね層を配置するステップと、
前記第1の空胴を覆うために前記基板ウェーハの頂部に前記頂部プレート層及び前記中間ばね層を配置するステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記変換部材を形成又は実現するステップが、前記頂部プレート層上に金属層を付着させるステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記超小型電気機械デバイスがキャパシタンス超小型機械加工超音波変換器(cMUT)であり、前記頂部プレート層上に前記変換部材を形成又は実現するステップが、前記頂部プレート層上に頂部電極を形成又は実現するステップを含み、前記中間ばね層又は前記基板ウェーハ中又は上に底部電極を形成又は実現するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記頂部電極を形成又は実現するステップが、前記頂部プレート層に導電性材料を使用することによって達成されることを特徴とする請求項7に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記底部電極を形成又は実現するステップが、前記基板ウェーハに導電性材料を使用することによって達成されることを特徴とする請求項7に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記中間ばね層が薄い弾性膜であり、前記頂部プレート層が前記中間ばね層より著しく剛直であることを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
薄い層を担った支持層を有するSOIウェーハを前記基板ウェーハの前面に結合するステップと、
前記基板ウェーハの頂部の前記薄い層を前記中間ばね層として残して、化学的方法又は機械的方法によって前記支持層を除去するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記コネクタが前記頂部プレート層の底面に形成され、前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
薄い層を担った支持層を有するSOIウェーハを、前記コネクタがその上に形成された前記頂部プレート層の底面に結合するステップと、
前記頂部プレート層の底面の前記薄い層を前記中間ばね層として残して、化学的方法又は機械的方法によって前記支持層を除去するステップとをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
支持層及び前記頂部プレート層を有するSOIウェーハを前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合するステップと、
前記頂部プレート層を前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合された状態で残して、化学的方法又は機械的方法によって前記支持層を除去するステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記SOIウェーハを前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合するステップの前に、前記頂部プレート層の底面に絶縁層を形成するステップであって、前記支持層を除去する際に、前記頂部プレート層と前記絶縁層の両方が前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合された状態を維持するステップをさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
プライムウェーハを前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合するステップと、
所望の厚さを備えた前記プライムウェーハを前記頂部プレート層として残して、化学的方法又は機械的方法を使用して前記プライムウェーハを薄くするステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記頂部プレート層を前記中間ばね層と前記基板ウェーハに結合した後に、前記頂部プレート層を所望の形状又は構成にパターン化するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記頂部プレート層をパターン化するステップが、前記頂部プレート層に所望のレベルの中空度を生成するために、前記頂部プレート層に複数の孔を形成するステップを含むことを特徴とする請求項16に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハ上に少なくとも1つの空胴を形成するステップが、前記基板ウェーハ上に複数の空胴を形成するステップを含み、前記少なくとも1つのコネクタを形成するステップが、複数のコネクタを形成するステップを含み、前記複数のコネクタが前記中間ばね層全体にわたって異なる位置に配置されることを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハを前記中間ばね層と前記頂部プレート層に結合する前に、
前記基板ウェーハの頂部に絶縁層を導入するステップと、
前記絶縁層上に導電層を導入するステップと、
互いに電気的に絶縁された複数のセクションを形成するために前記導電層をパターン化するステップであって、個々のセクションが別々の超小型電気機械エレメントに反応し、個々のエレメントが少なくとも1つの片持ち梁を有するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 複数の超小型電気機械エレメントを互いに分離するために、少なくとも前記頂部プレート層を貫通する分離トレンチを形成するステップであって、個々のエレメントが少なくとも1つの片持ち梁を有するステップをさらに含むことを特徴とする請求項18に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 個々のエレメントが接続アンカに電気接続されることを特徴とする請求項20に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記接続アンカが分離され、前記片持ち梁及び前記頂部プレート層の動きによって影響されないことを特徴とする請求項21に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記複数のエレメントが互いに最小の分離間隔でアレイに配置され、個々のエレメントが、隣接する少なくとも2つのエレメントによって共有される隅又は縁に配置されたエレメント間接続アンカに電気接続されることを特徴とする請求項20に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記分離トレンチを形成するステップの前に、前記頂部プレート層の頂部に導電層を導入するステップであって、次に形成される分離トレンチが前記導電層を貫通して前記空胴に到達するステップと、
充填材を使用して前記空胴を充填するステップと、
前記トレンチの両側の2つのエレメントを電気接続するために、前記トレンチの上に金属層を付着させるステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記充填材が、後で除去することができる犠牲材料であることを特徴とする請求項24に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記充填材が所望の特性を有する材料であり、前記空胴に残留することを特徴とする請求項24に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記分離トレンチを密閉するために、前記分離トレンチ上にカバー層を導入するステップをさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 相互接続された隣接するエレメントを一体処理することができるよう、隣接するエレメントを相互接続するために、前記カバー層上に金属層を付着させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項27に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記分離トレンチを充填するために、前記頂部プレート層の頂部から犠牲材料を形成する追加ステップと、
前記分離トレンチを密閉するために、前記頂部プレート層の頂部に第1の密閉層を付着させる追加ステップであって、前記密閉層が前記犠牲材料にアクセスするためのビアを有する追加ステップと、
前記犠牲材料を除去する追加ステップと、
前記ビアを密閉するために第2の密閉層を付着させる追加ステップと
を含むことを特徴とする請求項20に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記第1の密閉層が、相互接続された隣接するエレメントを一体処理することができるよう、隣接するエレメントを相互接続するための金属層であることを特徴とする請求項29に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記追加ステップが、前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合した後に実行されることを特徴とする請求項29に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハ上に少なくとも1つの空胴を形成する前記ステップが、前記基板ウェーハ上に複数の空胴を形成するステップを含み、
前記少なくとも1つのコネクタを形成するステップが、前記頂部プレート層の底面に複数のコネクタを形成するステップであって、前記複数のコネクタが、前記頂部プレート層が結合されて中間ばね層になる際に、前記中間ばね層の全体にわたって異なる位置に配置されるステップを含み、
前記基板ウェーハと前記中間ばね層と前記頂部プレート層を結合するステップが、
第1のSOIウェーハを前記頂部プレート層の底面に結合するステップであって、前記第1のSOIウェーハが、前記中間ばね層を支持する第1の支持層を有するステップと、
前記頂部プレート層に結合された前記中間ばね層を残して、前記第1のSOIウェーハ中の前記支持層を除去するステップと、
前記空胴が形成された前記基板ウェーハを、前記頂部プレート層とは反対側の前記中間ばね層に結合するステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハを結合するステップの前に、複数の超小型電気機械エレメントを互いに分離するために、前記中間ばね層を貫通し、かつ前記頂部プレートの少なくとも一部を貫通する分離トレンチを形成するステップであって、個々のエレメントが、1つの片持ち梁を形成するための少なくとも1つのコネクタを有するステップをさらに含むことを特徴とする請求項32に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記頂部プレート層が、第2の支持層と絶縁体層と前記頂部プレート層を有する第2のSOIウェーハの一部として提供され、
前記第1のSOIウェーハを前記第2のSOIウェーハに担われた前記頂部プレート層の底面に結合するステップの後に、前記第2のSOIウェーハ中の前記第2の支持層を除去するステップと、
前記分離トレンチを形成するステップの後に、前記絶縁体層を部分的に除去し、かつ前記分離トレンチの末端部分上に前記絶縁体層の一部を残すステップであって、それにより前記末端部分から前記トレンチが密閉されるステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項33に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハが導電性ウェーハであり、前記基板ウェーハを前記頂部プレート層に結合する前に実行される、相互接続パッドの下方の絶縁体の厚さを分厚くすることによって前記相互接続パッドの寄生キャパシタンスを小さくするための、
前記基板ウェーハ上に絶縁空胴を形成するステップであって、前記絶縁空胴が所望の総合厚さを有し、かつ製造中の前記超小型電気機械デバイスの近傍の超小型電気機械エレメントのための相互接続パッドの形成に適した位置に配置されるステップと、
前記パターン化された空胴の前記総合厚さと同じ厚さを有する埋設絶縁体を形成するために、前記絶縁空胴に誘電材料を充填するステップと、
前記埋設絶縁体の頂部に電気相互接続パッドを形成するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハが導電性ウェーハであり、前記基板ウェーハを前記頂部プレート層に結合する前に実行される、相互接続パッドの下方の絶縁体の厚さを分厚くすることによって前記相互接続パッドの寄生キャパシタンスを小さくするための、
パターン化された空胴を前記基板ウェーハ上に形成するステップであって、前記パターン化された空胴が、基板の非除去母材の固体線が書き込まれた狭い通路を備え、また、前記パターン化された空胴が所望の総合厚さを有し、かつ製造中の前記超小型電気機械デバイスの近傍の超小型電気機械エレメントのための相互接続パッドの形成に適した位置に配置されるステップと、
前記パターン化された空胴の前記総合厚さと同じ厚さを有する埋設絶縁体を形成するために、前記パターン化された空胴内の非除去母材の前記固体線を酸化させるステップと、
前記埋設絶縁体の頂部に電気相互接続パッドを形成するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記基板ウェーハが導電性ウェーハであり、前記基板ウェーハを前記頂部プレート層に結合した後に実行される、相互接続パッドの下方の絶縁体の厚さを分厚くすることによって前記相互接続パッドの寄生キャパシタンスを小さくするための、
パターン化された空胴を前記頂部プレート層上に形成するステップであって、前記パターン化された空胴が、前記頂部プレート層の非除去母材の固体線が書き込まれた狭い通路を備え、また、前記パターン化された空胴が所望の総合厚さを有し、かつ製造中の前記超小型電気機械デバイスの近傍の超小型電気機械エレメントのための相互接続パッドの形成に適した位置に配置されるステップと、
前記パターン化された空胴の前記総合厚さと同じ厚さを有する埋設絶縁体を形成するために、前記パターン化された空胴内の非除去母材の前記固体線を酸化させるステップと、
前記埋設絶縁体の頂部に電気相互接続パッドを形成するステップと
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記空胴内にポストを形成するステップであって、前記ポストが前記側壁より短く、かつ前記中間ばね層が前記空胴上に置かれた後、所望の距離だけ前記中間ばね層から間隔を隔てるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記空胴、前記側壁及び前記ポストが化学的方法又は機械的方法を使用して同時に形成されることを特徴とする請求項38に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記コネクタが、前記ポストの真上の位置に形成されることを特徴とする請求項38に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハの前面に前記第1の空胴を形成するステップが、前記基板ウェーハから母材を除去することによって第1の空胴を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハの前面に前記少なくとも1つの空胴を形成するステップが、
前記基板ウェーハの前面に犠牲層を付着させるステップと、
第1の暫定空胴を形成するために前記第1の犠牲層をパターン化するステップと、
前記第1の暫定空胴を充填するために前記第1の犠牲層上に薄膜材料を付着させるステップと、
前記第1の空胴を形成するために前記第1の犠牲層を除去するステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記少なくとも1つの空胴を形成するステップが、前記中間ばね層の底面に少なくとも1つの空胴を形成するステップを含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記中間ばね層がシリコンウェーハであり、前記少なくとも1つの空胴及び前記少なくとも1つの側壁の両方が前記中間ばね層から形成されることを特徴とする請求項43に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記中間ばね層が、第1の厚さの第1の領域、第2の厚さの第2の領域及び第3の厚さの第3の領域を備えるよう、前記中間ばね層上にパターンを形成するステップであって、前記第2の領域が前記第1の領域と前記第3の領域の間に位置し、前記第2の厚さが前記第1の厚さ又は前記第3の厚さより実質的に薄く、前記基板及び前記頂部プレート層に結合されると、前記第1の領域が前記側壁の少なくとも一部を形成し、前記第2の領域及び前記第3の領域が前記空胴を覆い、前記コネクタが前記第3の領域に存在するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記中間ばね層上にパターンを形成するステップが、
パターン化された酸化膜層又は窒化膜層を前記中間ばね層上に形成するステップであって、前記酸化膜層又は窒化膜層が前記第2の領域を除く前記中間ばね層の前記第1の領域及び前記第3の領域を覆うステップと、
第1の酸化層を形成するために前記中間ばね層の前記第2の領域を酸化させるステップと、
前記第3の領域上の前記酸化膜層又は窒化膜層及び前記第2の領域の前記第1の酸化層を除去するステップと、
第2の酸化層を形成するために前記中間ばね層の前記第2の領域及び前記第3の領域を酸化させるステップと、
前記第1の領域上の前記酸化膜層又は窒化膜層及び前記第2の領域及び前記第3の領域の前記第2の酸化層を除去するステップと
を含むことを特徴とする請求項45に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - エネルギーを変換するための可動機械部品を有する、キャパシタンス超小型機械加工超音波変換器(cMUT)などの超小型電気機械デバイスの製造方法であって、
前面及び裏面を有する基板ウェーハを提供するステップと、
前記基板ウェーハの前面に第1の犠牲層を付着させるステップと、
第1の暫定空胴を形成するために前記第1の犠牲層をパターン化するステップと、
前記第1の暫定空胴を充填し、かつ、前記第1の犠牲層の頂部表面を覆う膜層をさらに形成するために、前記第1の犠牲層上に第1の薄膜材料を付着させるステップと、
前記基板ウェーハの頂部に第1の空胴を形成するために前記第1の犠牲層を除去するステップであって、前記第1の空胴が頂部表面を有する少なくとも1つの側壁によって構成され、前記側壁が前記第1の暫定空胴内に付着した前記第1の薄膜材料によって構築されるステップと、
前記膜層の頂面又は頂部プレート層の底面のいずれかに、所望の高さの少なくとも1つのコネクタを形成するステップと、
前記頂部プレート層と前記膜層の間に変換空間を構成するために、前記コネクタ上に前記頂部プレート層を配置するステップであって、前記コネクタが前記膜層から突出し、前記第1の空胴の前記側壁から水平方向に十分な長さだけ間隔を隔てて、前記側壁に固定された、前記コネクタの垂直方向の変位を可能にする片持ち梁を構成し、前記コネクタの垂直方向の変位によって前記頂部プレート層が実質的に垂直方向にピストン様の運動で移動し、延いては前記変換空間が変化するステップと
を含むことを特徴とする超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記少なくとも1つのコネクタを形成するステップが、
前記膜層の頂部に第2の犠牲層を付着させるステップと、
第2の暫定空胴を形成するために前記第2の犠牲層をパターン化するステップと、
少なくとも前記第2の暫定空胴を充填するために第2の薄膜材料を付着させるステップと、
前記膜層の頂部に第2の空胴を形成するために前記第2の犠牲層を除去するステップであって、前記第2の空胴が前記膜層の頂部の少なくともコネクタによって構成され、前記コネクタが前記第2の暫定空胴内に付着した前記第2の薄膜材料によって構築されるステップと
を含むことを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記第1の犠牲層を除去する前記ステップ及び前記第2の犠牲層を除去する前記ステップが同時に実行されることを特徴とする請求項48に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記第2の犠牲層上に第2の薄膜材料を付着させる前記ステップが、前記第2の犠牲層の頂部に絶縁層を付着させるステップを含むことを特徴とする請求項48に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 第2の薄膜材料を付着させる前記ステップが、前記第2の犠牲層上に第2の薄膜層を付着させるステップであって、前記第2の薄膜層が、下方の前記第2の犠牲層にアクセスするための少なくとも1つの孔を有するステップをさらに含むことを特徴とする請求項48に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記第2の薄膜を付着させる前記ステップが、多孔性薄膜を付着させるステップを含むことを特徴とする請求項51に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記少なくとも1つの孔が、前記第2の薄膜が付着された後、前記第2の薄膜をエッチングすることによって形成されることを特徴とする請求項51に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記第2の薄膜層が絶縁層であることを特徴とする請求項51に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記第2の薄膜層の頂部に薄膜金属層を付着させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項51に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記超小型電気機械デバイスが超小型機械加工超音波変換器(MUT)であり、
前記頂部プレート層と前記膜層と前記基板ウェーハのうちの少なくとも1つの上に超音波変換部材を形成するステップであって、前記変換部材が、前記頂部プレート層の垂直方向の移動すなわち前記変換空間の変化を介してエネルギー変換を実現するステップをさらに含むことを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記超音波変換部材を形成するステップが、
前記頂部プレート層中又は上に頂部電極を形成又は実現するステップと、
前記基板ウェーハ中又は上に底部電極を形成又は実現するステップと
を含むことを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。 - 前記膜層が、下方の前記第1の犠牲層にアクセスするための少なくとも1つの孔を有することを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記膜層の前記少なくとも1つの孔が、前記膜層が付着された後、前記膜層をエッチングすることによって形成されることを特徴とする請求項58に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記膜層の頂部に絶縁層を付着させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 前記基板ウェーハが導電性ウェーハ中に存在していることを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
- 付着した第1の薄膜材料上に、第1の厚さの第1の領域、第2の厚さの第2の領域及び第3の厚さの第3の領域を形成するステップであって、前記第2の領域が前記第1の領域と前記第3の領域の間に位置し、前記第2の厚さが前記第1の厚さ又は前記第3の厚さより実質的に薄く、前記第1の領域が前記第1の暫定空胴上に位置し、前記第2の領域及び前記第3の領域が前記第1の犠牲層上に位置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項47に記載の超小型電気機械デバイスの製造方法。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US68261905P | 2005-05-18 | 2005-05-18 | |
US60/682,619 | 2005-05-18 | ||
US69203805P | 2005-06-17 | 2005-06-17 | |
US60/692,038 | 2005-06-17 | ||
US70560605P | 2005-08-03 | 2005-08-03 | |
US60/705,606 | 2005-08-03 | ||
US74424206P | 2006-04-04 | 2006-04-04 | |
US60/744,242 | 2006-04-04 | ||
PCT/IB2006/051567 WO2006123299A2 (en) | 2005-05-18 | 2006-05-18 | Methods for fabricating micro-electro-mechanical devices |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009503918A JP2009503918A (ja) | 2009-01-29 |
JP4791534B2 true JP4791534B2 (ja) | 2011-10-12 |
Family
ID=37431650
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008511848A Expired - Fee Related JP4885211B2 (ja) | 2005-05-18 | 2006-05-18 | 微細電子機械変換器 |
JP2008511847A Expired - Fee Related JP4791534B2 (ja) | 2005-05-18 | 2006-05-18 | 超小型電気機械デバイスの製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008511848A Expired - Fee Related JP4885211B2 (ja) | 2005-05-18 | 2006-05-18 | 微細電子機械変換器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US8247945B2 (ja) |
EP (2) | EP1882127A2 (ja) |
JP (2) | JP4885211B2 (ja) |
CA (3) | CA2607887A1 (ja) |
WO (3) | WO2006123300A2 (ja) |
Families Citing this family (256)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4885211B2 (ja) | 2005-05-18 | 2012-02-29 | コロ テクノロジーズ インコーポレイテッド | 微細電子機械変換器 |
EP1883956A4 (en) | 2005-05-18 | 2011-03-23 | Kolo Technologies Inc | BY-THE-WAFER CONNECTION |
WO2006134580A2 (en) * | 2005-06-17 | 2006-12-21 | Kolo Technologies, Inc. | Micro-electro-mechanical transducer having an insulation extension |
US9687186B2 (en) | 2005-07-21 | 2017-06-27 | Steadymed Ltd. | Drug delivery device |
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JP5807226B2 (ja) * | 2011-06-27 | 2015-11-10 | 株式会社Ingen MSL | 振動素子及び振動素子の製造方法 |
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KR102058489B1 (ko) | 2012-04-05 | 2019-12-23 | 페어차일드 세미컨덕터 코포레이션 | 멤스 장치 프론트 엔드 전하 증폭기 |
US9625272B2 (en) | 2012-04-12 | 2017-04-18 | Fairchild Semiconductor Corporation | MEMS quadrature cancellation and signal demodulation |
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KR20140033992A (ko) | 2012-09-11 | 2014-03-19 | 삼성전자주식회사 | 초음파 변환기 |
KR101909131B1 (ko) | 2012-09-11 | 2018-12-18 | 삼성전자주식회사 | 초음파 변환기 및 그 제조방법 |
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JP2015532536A (ja) | 2012-10-05 | 2015-11-09 | デイビッド ウェルフォード, | 光を増幅するためのシステムおよび方法 |
US11272845B2 (en) | 2012-10-05 | 2022-03-15 | Philips Image Guided Therapy Corporation | System and method for instant and automatic border detection |
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US9367965B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-06-14 | Volcano Corporation | Systems and methods for generating images of tissue |
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-
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- 2006-05-18 JP JP2008511848A patent/JP4885211B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-18 EP EP06744968A patent/EP1882127A2/en not_active Withdrawn
- 2006-05-18 US US11/914,597 patent/US8247945B2/en active Active
- 2006-05-18 EP EP06744967A patent/EP1881822A2/en not_active Withdrawn
- 2006-05-18 WO PCT/IB2006/051568 patent/WO2006123300A2/en active Application Filing
- 2006-05-18 CA CA002607887A patent/CA2607887A1/en not_active Abandoned
- 2006-05-18 WO PCT/IB2006/051567 patent/WO2006123299A2/en not_active Application Discontinuation
- 2006-05-18 CA CA002607916A patent/CA2607916A1/en not_active Abandoned
- 2006-05-18 US US11/914,594 patent/US8008105B2/en active Active
- 2006-05-18 US US11/914,608 patent/US8120229B2/en active Active
- 2006-05-18 CA CA002607918A patent/CA2607918A1/en not_active Abandoned
- 2006-05-18 JP JP2008511847A patent/JP4791534B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-18 WO PCT/IB2006/051569 patent/WO2006123301A2/en active Application Filing
-
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- 2012-08-07 US US13/568,697 patent/US8952595B2/en active Active
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US20080194053A1 (en) | 2008-08-14 |
CA2607916A1 (en) | 2006-11-23 |
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CA2607918A1 (en) | 2006-11-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090501 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110712 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110721 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140729 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4791534 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |