JP4764989B2 - レーザ加工方法 - Google Patents
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Description
1x エネルギー強度分布の中心
1v ビーム移動方向
2 エキスパンダ
3 マスク
3a 開口
3x 開口の中心
5 反射ミラー
6 集光レンズ
7 XYテーブル
8 基板
9 金属膜
Claims (4)
- 基板上に成膜された少なくとも1層の金属膜を含む積層膜に、繰り返しパルスレーザビームを照射して、前記積層膜を2以上の領域に分離するレーザ加工方法であって、
前記積層膜の表面に照射される前記レーザビームの加工スポットの形状を、マスクを用いて略矩形状に整形するステップであって、前記略矩形状は、前記レーザビームが前記積層膜を除去するエネルギーを有する範囲である加工可能最大径内に、前記略矩形状の四隅が収まる大きさである、ステップと、
前記レーザビームの加工スポットを、一定の方向に重ね合わせながら、前記積層膜に対して相対的に移動させるステップと、
前記レーザビームのエネルギー強度分布の中心を、前記略矩形状の加工スポットの中心に対して前記移動方向に偏心させるステップと
を含むレーザ加工方法。 - 前記マスクが、前記レーザビームの加工スポットを前記略矩形状に整形するための開口を有するとともに、この開口を構成する4つの辺を定める4つの遮光部材を有しており、これら4つの遮光部材の位置は個別に調整可能なものであって、前記レーザビームの相対的な移動に応じて前記偏心を制御するために、この4つの遮光部材の位置を調整するステップを含む請求項1に記載のレーザ加工方法。
- 前記レーザビームとして、波長が400〜650nmのレーザビームを使用する請求項1又は2に記載のレーザ加工方法。
- 前記レーザビームのレーザ発生源として、YAGレーザ、YVOレーザ、又はYLFレーザを使用する請求項1〜3のいずれかに記載のレーザ加工方法。
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