JP4759842B2 - 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可変成形型描画装置用の図形データに関し、特に、可変成形型描画装置用の描画データにおける、微小図形データ生成の図形分割を検証する検証ツールに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体素子（チップ）の高密度化は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。
このため、ウエハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するための、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチクルについても、ますますその精度が求められるようになってきた。
更に、最近では、コスト低減を目指したチップ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルールまで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行っている。
仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとすると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビットコストは１６Ｍの約１／４になる。
ウエハサイズの大サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されることとなる。
０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２０００年には０．１５μｍから０. １３μｍ設計ルールへの切り換えが行われている。
【０００３】
このような中、レチクル等のフォトマスク作製のためのパターン描画においては、その加工精度はますます厳しく求められ、矩形や４５°の斜線を有する三角形に成形されたビームを用い、パターン部のみを照射して描画を行うベクター型ＥＢ描画装置は、描画速度の面でラスター型に比べ有利で、レチクルの作製においても用いられるようになってきた。
０．１８μｍ以下の設計ルールでは、ラスター型は実用レベルではない。
尚、このようなベクター型の電子ビーム描画装置（以下、ＥＢ描画装置と言う）を、ここでは、可変成形ビーム型あるいは単に可変成形型の、またはバリアブルシエイプドビーム型のＥＢ描画装置とも言う。
そして、描画の際には、使用する可変成形ビーム型ＥＢ描画装置用の描画データを用いて描画を行っている。
可変成形型のＥＢ描画装置の場合、描画データとしては、通常、予め作成された図形データ（設計データ、多機種の描画データ）を変換して描画データとしているが、通常は、前記予め作成された図形データ必要に応じてポリゴンデータ化し、これを所定のアルゴリズムで図形分割（フラクチャとも言う）したものが用いられる。
分割図形としては、台形表示（矩形や平行四辺形、正方形、三角形を台形で表現する）図形や、台形、矩形平行四辺形、正方形をそれぞれ別に表示する方式によるもの等がある。
尚、可変成形型のＥＢ描画装置の描画においては、ＥＢ描画装置用の図形データの各図形（台形）は、描画の際に、更に分割され、ＥＢ描画装置の描画動作のハードを直接制御するデータに変換されて、描画に寄与される。
【０００４】
このような、可変成形型のＥＢ描画装置においては、ＥＢ描画装置用の図形データの図形である微小な分割図形（以下図形パターンとも言う）は、描画精度の悪化の原因になるため、従来は、このような微小図形パターンの数をいかに少なくするか、ということに尽力されてきた。
しかしながら、最近では、ＯＰＣ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔ）補正等の導入により、微細な図形パターンの発生が避けられなくなっている。
精度面等から、微小な分割図形を発生させる分割の方が適している場合もあり、必ずしも、従来の、微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価している方法が、実際に高精度なマスクを作成するための図形分割を行なっているとは言えない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、ますますフォトマスクの高精度が求められる中、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データにおいては、精度面等から、微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価するのではなく、微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールが求められていた。
本発明は、これに対応するもので、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールを提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールは、可変成形型描画装置用の描画データの検証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生を含む図形分割（フラクチャとも言う）に対し、精度面、機能面等から、その図形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこれらを指定するルール指定手段と、描画用データに対し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部抽出処理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出された微小図形データがある微小図形発生箇所について、前記ルール指定手段にて指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形データ部抽出処理部より、描画用データから抽出された各微小図形発生箇所について、ルール指定手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割の良否を判断するものであり、前記図形分割の良否を判断するルールが、（ａ）ＣＤ（ＣｒｉｔｉｃａｌＤｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向の幅を分割しないホール図形データないしゲート図形データで、その図形コーナ部に、微小図形データの微小図形がある図形分割、（ｂ）ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形データで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微小図形データの微小図形がある図形分割、（ｃ）平行な異なる直線部を結ぶ斜め部をその途中に有するゲート図形データで、その斜め部に微小図形データの微小図形があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、幅全体に跨り分割されていない図形分割、のいずれの図形分割も、良い図形分割とするものであることを特徴とするものである。
そして、上記において、微小図形発生箇所における図形分割が、ルール指定手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割が否と判断された場合、その部分に微細図形を発生させないように再度図形分割をする図形分割修正部を備えていることを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】
本発明の可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールは、このような構成にすることにより、変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの提供を可能としている。
即ち、微小図形データ部抽出処理部を備えていることにより、所定幅以下である微小図形データを抽出するできるものとし、ルール指定手段、判定部とを備えていることにより、微小図形データ部抽出処理部より、抽出された各微小図形発生箇所について、その図形分割の良否を判断できるものとしている。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールの実施の形態例を、図に基づいて説明する。
図１は本発明の可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールの実施の形態の１例とその処理フローを関連付けて示した図で、図２〜図４はルール指定装置による、図形分割の良否を判断するルールを説明するための図である。
尚、図２（ａ）はポリゴン図形１１０を示し、図２（ｂ）、図２（ｃ）は、それぞれ、図２（ａ）のポリゴン図形１１０を図形分割した状態を示した図であり、図３（ａ）、図３（ｂ）は図形分割されたアシストバー図形の状態を示し、図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）は図形分割されたゲート図形の状態を示した図である。
また、図２中のＡ１−Ａ２、図３中のＢ１−Ｂ２、図４中のＣ１−Ｃ２はＣＤ方向を示している。
図１〜図４中、１１０はルール指定手段、１２０は微小図形データ部抽出処理部、１３０は判定部、１４０は修正部、２１０はポリゴン図形、２２１〜２２７は（分割された後の）図形、２３１〜２３９は（分割された後の）図形、３１１、３１２は（分割された後の）図形、３２１〜３２３は（分割された後の）図形、４１１〜４１３は（分割された後の）図形、４２０Ａ、４２０Ｃは直線部、４２０Ｂは斜め部、４２１〜４２５は（分割された後の）図形、４３０Ａ、４３０Ｃは直線部、４３０Ｂは斜め部、４３１〜４３５は（分割された後の）図形である
【０００９】
図１に基づいて、本例を説明する。
本例は、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの検証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生を含む図形分割に対し、精度面、機能面から、その図形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、描画用データから抽出された各微小図形発生箇所について、決められたルールにしたがい、その図形分割の良否を判定するものであり、判定に先たち、所定幅以下の微小図形データの発生を含む図形分割に対し、その図形分割の良否を判断するルールを指定するルール指定手段１１０と、描画用データに対し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部抽出処理部１２０と、微小図形データ抽出部処理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小図形発生箇所について、前記ルール指定手段１１０にて指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定する判定部１３０とを備えている。
【００１０】
図形分割の良否を判断するルールとしては、例えば、図２（ａ）に示すように、コーナー部に出っ張り（角部ともいう）２１５を配設したホール図形あるいはゲート図形である、図形分割前のポリゴンデータ１１０に対し、ＥＢ描画装置に合せ、所定のアルゴリズムにしたがい分割を行った結果が、図２（ｃ）に示すように、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割しないで、且つ、元の図形のコーナー部に相当する箇所に所定幅以下の微小図形を発生させる図形分割は、良しとする第１のルールが挙げられる。
別のアルゴリズムにしたがい、図２（ｂ）のように、微小図形を発生させないが、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と比べた場合、図２（ｃ）に示す図形分割は、精度的に優れた描画を行なうことができる。
また、図３（ｂ）に示すように、ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形データで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微小図形データの微小図形がある図形分割は、良しとする第２のルールが挙げられる。
別のアルゴリズムにしたがい、図３（ａ）のように、微小図形を発生させないが、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と比べた場合、図３（ｂ）に示す図形分割は、精度的に優れた描画を行なうことができる。
この場合、アシストバーの機能面からも微小図形３２２、３２３のあるこのような図形分割は好ましい。
また、図４（ｂ）、図４（ｃ）に示すように、平行な異なる直線部（直線部４２０Ａと直線部４２０Ｃ、あるいは直線部４３０Ａと直線部４３０Ｃ））を結ぶ斜め部（４２０Ｂあるいは４３０Ｂ）をその途中に有するゲート図形データで、その斜め部に微小図形データの微小図形（４２５あるいは４３５）があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、即ちＣ１−Ｃ２方向、幅全体に跨り分割されていない図形分割は、良しとする第３のルールを挙げることができる。
別のアルゴリズムにしたがい、図４（ａ）のように、微小図形を発生させないが、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と比べた場合、図４（ｂ）、図４（ｃ）に示す図形分割は、精度的に優れた描画を行なうことができる。
【００１１】
微小図形データ部抽出処理部１２０は、通常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ Ｃｈｅｃｋ）処理と同様に、図形データの幅チェックを行ない、所定幅以下の微小図形を抽出するものである。
【００１２】
判定部１３０は、微小図形データ抽出部処理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小図形発生箇所について、ルール指定手段１１０にて指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定するもので、簡単には、各微小図形発生箇所を含む図形が、ホール図形、ゲート図形、アシストバー図形であるか否かを判断し、且つ、そのどの部分に所定幅以下の微細図形が発生しているかにより、指定されたルール（例えば、先に述べた、第１のルール〜第３のルール）のいずれか１つより、その図形分割が良しと判断できるか否かを判定するものである。
【００１３】
修正部１４０は、判定部にて、指定されたルール（例えば、第１のルール〜第３のルール）のいずれか１つにも当てはまらない図形分割と判断された、所定幅以下の微小図形を含む図形分割箇所について、例えば、ディスプレをみながら手修正する装置である。
所定の修正アルゴリズムを設定すれば、勿論自動で、あるいは対話的に修正を行なう装置をこれに使用することもできる。
【００１４】
次いで、本例のツールの処理フローの１例を図１に基づいて説明する。
尚、図１中、Ｓ１１〜Ｓ２６は処理ステップを示す。
先ず、設計データ（Ｓ１１）、他の描画装置用のデータ（Ｓ１２）等のデータを用いる場合、これらを、描画するフォトマスク仕様に合せ、公知のデータ処理ツールにより、マスクデータ処理を行なう。（Ｓ１３）
フォトマスク仕様に合せ、通常、寸法補正（マスクバイアスとも言う）、反転処理等を行なう。
これより、ポリゴンデータを得る。（Ｓ１４）
次いで、ＥＢ描画装置に合せ、図形分割処理を行ない（Ｓ１５）、描画装置用の描画データを得る。（Ｓ１６）
図５は、同じサイズ形状の絵柄を、異なる図形データで表現したものであり、図５（ａ）は図形間に重なりを許す他の描画装置用の台形表示のデータの１例で、図５（ｂ）は図形間の重なりを除去した台形表示の図形データ、図５（ｃ）はポリゴンデータを表している。
図５（ａ）の他の描画装置用のデータは、例えば、図５（ｂ）のデータを経て図５（ｃ）のポリゴンデータに変換され、更に、目的の可変成形型ＥＢ描画機用に図形分割が行われる。
尚、設計データとしては、図５（ｃ）に示すポリゴンデータが一般的である。
【００１５】
次いで、マスクデータ処理を行ない得られたポリゴンデータに対し、微小図形データ部抽出処理部１２０により、通常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ Ｃｈｅｃｋ）処理と同様、図形データの幅チェックを行ない、所定幅以下の微小図形を抽出する。（Ｓ１７）
ここでは、所定幅以下の微小図形がＮ個抽出されたとし、所定幅以下の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝１〜Ｎで、Ｎは１以上の正の整数）とする。
【００１６】
一方、予め、ルール指定手段１１０に、図形分割の良否を判断するルールを入力しておく。（Ｓ１８）
ここでは、先に述べた第１のルール〜第３のルールを入力するものとする。
【００１７】
次いで、判定部１３０により、所定幅以下の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝１〜Ｎ）に対し、第１のルール〜第３のルールにしたがい、所定幅以下の各微小図形を含む箇所の図形分割の良否を判定する。（Ｓ２１）
所定幅以下の各微小図形データ毎に良否判定を行ない、判定の結果がＯＫでない場合には、その微小図形を含む箇所については、所定幅以下の微小図形が発生しないように、再度図形分割し直し修正を行なう。（Ｓ２４）
ｉ＝１からはじめ（Ｓ１９）、図形データをＤｉを抽出し（Ｓ２０）、判定を行ない（Ｓ２１）、ｉがＮでない場合漸次ｉ＝ｉ＋１とし（Ｓ２５）、判定を行ない、ｉ＝Ｎ（Ｓ２３）にて終了する。（Ｓ２６）
このようにして、所定のルールにのった所定幅以下の微小図形データを含む描画データを得ることができる。
【００１８】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの所定幅以下の微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの提供を可能とした。
これにより、より高精度なフォトマスクを作成することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールの実施の形態の１例とその処理フローを関連付けて示した図
【図２】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断するルールを説明するための図
【図３】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断するルールを説明するための図
【図４】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断するルールを説明するための図
【図５】図形データを説明するための図
【符号の説明】
１１０ ルール指定手段
１２０ 微小図形データ部抽出処理部
１３０ 判定部
１４０ 修正部
２１０ ポリゴン図形
２２１〜２２７ （分割された後の）図形
２３１〜２３９ （分割された後の）図形
３１１、３１２ （分割された後の）図形
３２１〜３２３ （分割された後の）図形
４１１〜４１３ （分割された後の）図形
４２０Ａ、４２０Ｃ 直線部
４２０Ｂ 斜め部
４２１〜４２５ （分割された後の）図形
４３０Ａ、４３０Ｃ 直線部
４３０Ｂ 斜め部
４３１〜４３５ （分割された後の）図形

Claims (2)

1. 可変成形型描画装置用の描画データの検証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生を含む図形分割に対し、精度面、機能面等から、その図形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこれらを指定するルール指定手段と、描画用データに対し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部抽出処理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出された微小図形データがある微小図形発生箇所について、前記ルール指定手段にて指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形データ部抽出処理部より、描画用データから抽出された各微小図形発生箇所について、ルール指定手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割の良否を判断するものであり、前記図形分割の良否を判断するルールが、（ａ）ＣＤ（ＣｒｉｔｉｃａｌＤｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向の幅を分割しないホール図形データないしゲート図形データで、その図形コーナ部に、微小図形データの微小図形がある図形分割、（ｂ）ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形データで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微小図形データの微小図形がある図形分割、（ｃ）平行な異なる直線部を結ぶ斜め部をその途中に有するゲート図形データで、その斜め部に微小図形データの微小図形があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、幅全体に跨り分割されていない図形分割、のいずれの図形分割も、良い図形分割とするものであることを特徴とする可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール。
2. 請求項１において、微小図形発生箇所における図形分割が、ルール指定手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割が否と判断された場合、その部分に微細図形を発生させないように再度図形分割をする図形分割修正部を備えていることを特徴とする可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール。

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