JP2002343702A - 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール - Google Patents
可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツールInfo
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- JP2002343702A JP2002343702A JP2001147342A JP2001147342A JP2002343702A JP 2002343702 A JP2002343702 A JP 2002343702A JP 2001147342 A JP2001147342 A JP 2001147342A JP 2001147342 A JP2001147342 A JP 2001147342A JP 2002343702 A JP2002343702 A JP 2002343702A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの微
小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検
証ツールを提供する。 【解決手段】 可変成形型描画装置用の描画データの検
証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生
を含む図形分割に対し、精度面、機能面等から、その図
形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこ
れらを指定するルール指定手段と、描画用データに対
し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅
以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部
抽出処理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出さ
れた微小図形データがある微小図形発生箇所について、
前記ルール指定手段にて指定されたルールにしたがい、
図形分割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形デ
ータ部抽出処理部より、描画用データから抽出された各
微小図形発生箇所について、ルール指定手段に指定され
たルールにしたがい、その図形分割の良否を判断するも
のである。
小な図形発生箇所における図形分割状態を評価できる検
証ツールを提供する。 【解決手段】 可変成形型描画装置用の描画データの検
証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生
を含む図形分割に対し、精度面、機能面等から、その図
形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこ
れらを指定するルール指定手段と、描画用データに対
し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅
以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部
抽出処理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出さ
れた微小図形データがある微小図形発生箇所について、
前記ルール指定手段にて指定されたルールにしたがい、
図形分割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形デ
ータ部抽出処理部より、描画用データから抽出された各
微小図形発生箇所について、ルール指定手段に指定され
たルールにしたがい、その図形分割の良否を判断するも
のである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、可変成形型描画装
置用の図形データに関し、特に、可変成形型描画装置用
の描画データにおける、微小図形データ生成の図形分割
を検証する検証ツールに関する。
置用の図形データに関し、特に、可変成形型描画装置用
の描画データにおける、微小図形データ生成の図形分割
を検証する検証ツールに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体素子（チップ）の高密度化
は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量
産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６
ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルール
まで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１
８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２００
０年には０．１５μｍから０.１３μｍ設計ルールへの
切り換えが行われている。
は激しく、０３５μｍ設計ルールの６４ＭＤＲＡＭの量
産もすでに始められ、０．２５μｍ設計ルールの２５６
ＭＤＲＡＭの時代へと移ろうとしている。このため、ウ
エハへの露光を行うためのマスタマスクを作成するため
の、あるいは、ウエハへ直接縮小投影するためのレチク
ルについても、ますますその精度が求められるようにな
ってきた。更に、最近では、コスト低減を目指したチッ
プ縮小が著しく、６４ＭＤＲＡＭを０．２５設計ルール
まで微細化して、あるいは、２５６ＭＤＲＡＭを０．１
８設計ルールまで微細化してチップ縮小化を行ってい
る。仮に、６４ＭＤＲＡＭを０．２μｍ設計ルールとす
ると、約１６ＭＤＲＡＭと同じチップ寸法となり、ビッ
トコストは１６Ｍの約１／４になる。ウエハサイズの大
サイズ化をせず、現装置でコスト低減が達成されること
となる。０．１８μｍ設計ルールは開発完了し、２００
０年には０．１５μｍから０.１３μｍ設計ルールへの
切り換えが行われている。
【０００３】このような中、レチクル等のフォトマスク
作製のためのパターン描画においては、その加工精度は
ますます厳しく求められ、矩形や４５°の斜線を有する
三角形に成形されたビームを用い、パターン部のみを照
射して描画を行うベクター型ＥＢ描画装置は、描画速度
の面でラスター型に比べ有利で、レチクルの作製におい
ても用いられるようになってきた。０．１８μｍ以下の
設計ルールでは、ラスター型は実用レベルではない。
尚、このようなベクター型の電子ビーム描画装置（以
下、ＥＢ描画装置と言う）を、ここでは、可変成形ビー
ム型あるいは単に可変成形型の、またはバリアブルシエ
イプドビーム型のＥＢ描画装置とも言う。そして、描画
の際には、使用する可変成形ビーム型ＥＢ描画装置用の
描画データを用いて描画を行っている。可変成形型のＥ
Ｂ描画装置の場合、描画データとしては、通常、予め作
成された図形データ（設計データ、多機種の描画デー
タ）を変換して描画データとしているが、通常は、前記
予め作成された図形データ必要に応じてポリゴンデータ
化し、これを所定のアルゴリズムで図形分割（フラクチ
ャとも言う）したものが用いられる。分割図形として
は、台形表示（矩形や平行四辺形、正方形、三角形を台
形で表現する）図形や、台形、矩形平行四辺形、正方形
をそれぞれ別に表示する方式によるもの等がある。尚、
可変成形型のＥＢ描画装置の描画においては、ＥＢ描画
装置用の図形データの各図形（台形）は、描画の際に、
更に分割され、ＥＢ描画装置の描画動作のハードを直接
制御するデータに変換されて、描画に寄与される。
作製のためのパターン描画においては、その加工精度は
ますます厳しく求められ、矩形や４５°の斜線を有する
三角形に成形されたビームを用い、パターン部のみを照
射して描画を行うベクター型ＥＢ描画装置は、描画速度
の面でラスター型に比べ有利で、レチクルの作製におい
ても用いられるようになってきた。０．１８μｍ以下の
設計ルールでは、ラスター型は実用レベルではない。
尚、このようなベクター型の電子ビーム描画装置（以
下、ＥＢ描画装置と言う）を、ここでは、可変成形ビー
ム型あるいは単に可変成形型の、またはバリアブルシエ
イプドビーム型のＥＢ描画装置とも言う。そして、描画
の際には、使用する可変成形ビーム型ＥＢ描画装置用の
描画データを用いて描画を行っている。可変成形型のＥ
Ｂ描画装置の場合、描画データとしては、通常、予め作
成された図形データ（設計データ、多機種の描画デー
タ）を変換して描画データとしているが、通常は、前記
予め作成された図形データ必要に応じてポリゴンデータ
化し、これを所定のアルゴリズムで図形分割（フラクチ
ャとも言う）したものが用いられる。分割図形として
は、台形表示（矩形や平行四辺形、正方形、三角形を台
形で表現する）図形や、台形、矩形平行四辺形、正方形
をそれぞれ別に表示する方式によるもの等がある。尚、
可変成形型のＥＢ描画装置の描画においては、ＥＢ描画
装置用の図形データの各図形（台形）は、描画の際に、
更に分割され、ＥＢ描画装置の描画動作のハードを直接
制御するデータに変換されて、描画に寄与される。
【０００４】このような、可変成形型のＥＢ描画装置に
おいては、ＥＢ描画装置用の図形データの図形である微
小な分割図形（以下図形パターンとも言う）は、描画精
度の悪化の原因になるため、従来は、このような微小図
形パターンの数をいかに少なくするか、ということに尽
力されてきた。しかしながら、最近では、ＯＰＣ（Ｏｐ
ｔｉｃａｌ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔ）補
正等の導入により、微細な図形パターンの発生が避けら
れなくなっている。精度面等から、微小な分割図形を発
生させる分割の方が適している場合もあり、必ずしも、
従来の、微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価
している方法が、実際に高精度なマスクを作成するため
の図形分割を行なっているとは言えない。
おいては、ＥＢ描画装置用の図形データの図形である微
小な分割図形（以下図形パターンとも言う）は、描画精
度の悪化の原因になるため、従来は、このような微小図
形パターンの数をいかに少なくするか、ということに尽
力されてきた。しかしながら、最近では、ＯＰＣ（Ｏｐ
ｔｉｃａｌ Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ Ｃｏｒｒｅｃｔ）補
正等の導入により、微細な図形パターンの発生が避けら
れなくなっている。精度面等から、微小な分割図形を発
生させる分割の方が適している場合もあり、必ずしも、
従来の、微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価
している方法が、実際に高精度なマスクを作成するため
の図形分割を行なっているとは言えない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ますま
すフォトマスクの高精度が求められる中、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置用の描画データにおいては、精度面等から、
微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価するので
はなく、微小な図形発生箇所における図形分割状態を評
価できる検証ツールが求められていた。本発明は、これ
に対応するもので、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画デ
ータの微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価
できる検証ツールを提供しようとするものである。
すフォトマスクの高精度が求められる中、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置用の描画データにおいては、精度面等から、
微小な図形の数だけで、図形分割の良否を評価するので
はなく、微小な図形発生箇所における図形分割状態を評
価できる検証ツールが求められていた。本発明は、これ
に対応するもので、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画デ
ータの微小な図形発生箇所における図形分割状態を評価
できる検証ツールを提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の可変成形型描画
装置用の描画図形データの検証ツールは、可変成形型描
画装置用の描画データの検証ツールであって、所定幅以
下の微小図形データの発生を含む図形分割（フラクチャ
とも言う）に対し、精度面、機能面等から、その図形分
割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこれら
を指定するルール指定手段と、描画用データに対し、各
図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅以下で
ある微小図形データを抽出する微小図形データ部抽出処
理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出された微
小図形データがある微小図形発生箇所について、前記ル
ール指定手段にて指定されたルールにしたがい、図形分
割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形データ部
抽出処理部より、描画用データから抽出された各微小図
形発生箇所について、ルール指定手段に指定されたルー
ルにしたがい、その図形分割の良否を判断するものであ
ることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、微小図形発生箇所における図形分割が、ルール指定
手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割が否
と判断された場合、その部分に微細図形を発生させない
ように再度図形分割をする図形分割修正部を備えている
ことを特徴とするものである。そしてまた、上記におい
て、図形分割の良否を判断するルールが、（ａ）ＣＤ
（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向の幅を
分割しないホール図形データないしゲート図形データ
で、その図形コーナ部に、微小図形データの微小図形が
ある図形分割、（ｂ）ＣＤ方向の幅を分割しないアシス
トバー図形データで、その図形のＣＤ方向と直交する方
向の端部に、微小図形データの微小図形がある図形分
割、（ｃ）平行な異なる直線部を結ぶ斜め部をその途中
に有するゲート図形データで、その斜め部に微小図形デ
ータの微小図形があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、幅
全体に跨り分割されていない図形分割、のいずれの図形
分割も、良い図形分割とするものであることを特徴とす
るものである。
装置用の描画図形データの検証ツールは、可変成形型描
画装置用の描画データの検証ツールであって、所定幅以
下の微小図形データの発生を含む図形分割（フラクチャ
とも言う）に対し、精度面、機能面等から、その図形分
割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこれら
を指定するルール指定手段と、描画用データに対し、各
図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅以下で
ある微小図形データを抽出する微小図形データ部抽出処
理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出された微
小図形データがある微小図形発生箇所について、前記ル
ール指定手段にて指定されたルールにしたがい、図形分
割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形データ部
抽出処理部より、描画用データから抽出された各微小図
形発生箇所について、ルール指定手段に指定されたルー
ルにしたがい、その図形分割の良否を判断するものであ
ることを特徴とするものである。そして、上記におい
て、微小図形発生箇所における図形分割が、ルール指定
手段に指定されたルールにしたがい、その図形分割が否
と判断された場合、その部分に微細図形を発生させない
ように再度図形分割をする図形分割修正部を備えている
ことを特徴とするものである。そしてまた、上記におい
て、図形分割の良否を判断するルールが、（ａ）ＣＤ
（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向の幅を
分割しないホール図形データないしゲート図形データ
で、その図形コーナ部に、微小図形データの微小図形が
ある図形分割、（ｂ）ＣＤ方向の幅を分割しないアシス
トバー図形データで、その図形のＣＤ方向と直交する方
向の端部に、微小図形データの微小図形がある図形分
割、（ｃ）平行な異なる直線部を結ぶ斜め部をその途中
に有するゲート図形データで、その斜め部に微小図形デ
ータの微小図形があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、幅
全体に跨り分割されていない図形分割、のいずれの図形
分割も、良い図形分割とするものであることを特徴とす
るものである。
【０００７】
【作用】本発明の可変成形型描画装置用の描画図形デー
タの検証ツールは、このような構成にすることにより、
変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの微小な図形発生
箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの提
供を可能としている。即ち、微小図形データ部抽出処理
部を備えていることにより、所定幅以下である微小図形
データを抽出するできるものとし、ルール指定手段、判
定部とを備えていることにより、微小図形データ部抽出
処理部より、抽出された各微小図形発生箇所について、
その図形分割の良否を判断できるものとしている。
タの検証ツールは、このような構成にすることにより、
変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの微小な図形発生
箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの提
供を可能としている。即ち、微小図形データ部抽出処理
部を備えていることにより、所定幅以下である微小図形
データを抽出するできるものとし、ルール指定手段、判
定部とを備えていることにより、微小図形データ部抽出
処理部より、抽出された各微小図形発生箇所について、
その図形分割の良否を判断できるものとしている。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の可変成形型描画装置用の
描画図形データの検証ツールの実施の形態例を、図に基
づいて説明する。図１は本発明の可変成形型描画装置用
の描画図形データの検証ツールの実施の形態の１例とそ
の処理フローを関連付けて示した図で、図２〜図４はル
ール指定装置による、図形分割の良否を判断するルール
を説明するための図である。尚、図２（ａ）はポリゴン
図形１１０を示し、図２（ｂ）、図２（ｃ）は、それぞ
れ、図２（ａ）のポリゴン図形１１０を図形分割した状
態を示した図であり、図３（ａ）、図３（ｂ）は図形分
割されたアシストバー図形の状態を示し、図４（ａ）、
図４（ｂ）、図４（ｃ）は図形分割されたゲート図形の
状態を示した図である。また、図２中のＡ１−Ａ２、図
３中のＢ１−Ｂ２、図４中のＣ１−Ｃ２はＣＤ方向を示
している。図１〜図４中、１１０はルール指定手段、１
２０は微小図形データ部抽出処理部、１３０は判定部、
１４０は修正部、２１０はポリゴン図形、２２１〜２２
７は（分割された後の）図形、２３１〜２３９は（分割
された後の）図形、３１１、３１２は（分割された後
の）図形、３２１〜３２３は（分割された後の）図形、
４１１〜４１３は（分割された後の）図形、４２０Ａ、
４２０Ｃは直線部、４２０Ｂは斜め部、４２１〜４２５
は（分割された後の）図形、４３０Ａ、４３０Ｃは直線
部、４３０Ｂは斜め部、４３１〜４３５は（分割された
後の）図形である
描画図形データの検証ツールの実施の形態例を、図に基
づいて説明する。図１は本発明の可変成形型描画装置用
の描画図形データの検証ツールの実施の形態の１例とそ
の処理フローを関連付けて示した図で、図２〜図４はル
ール指定装置による、図形分割の良否を判断するルール
を説明するための図である。尚、図２（ａ）はポリゴン
図形１１０を示し、図２（ｂ）、図２（ｃ）は、それぞ
れ、図２（ａ）のポリゴン図形１１０を図形分割した状
態を示した図であり、図３（ａ）、図３（ｂ）は図形分
割されたアシストバー図形の状態を示し、図４（ａ）、
図４（ｂ）、図４（ｃ）は図形分割されたゲート図形の
状態を示した図である。また、図２中のＡ１−Ａ２、図
３中のＢ１−Ｂ２、図４中のＣ１−Ｃ２はＣＤ方向を示
している。図１〜図４中、１１０はルール指定手段、１
２０は微小図形データ部抽出処理部、１３０は判定部、
１４０は修正部、２１０はポリゴン図形、２２１〜２２
７は（分割された後の）図形、２３１〜２３９は（分割
された後の）図形、３１１、３１２は（分割された後
の）図形、３２１〜３２３は（分割された後の）図形、
４１１〜４１３は（分割された後の）図形、４２０Ａ、
４２０Ｃは直線部、４２０Ｂは斜め部、４２１〜４２５
は（分割された後の）図形、４３０Ａ、４３０Ｃは直線
部、４３０Ｂは斜め部、４３１〜４３５は（分割された
後の）図形である
【０００９】図１に基づいて、本例を説明する。本例
は、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの検証ツー
ルであって、所定幅以下の微小図形データの発生を含む
図形分割に対し、精度面、機能面から、その図形分割の
良否を判断するルールを１つ以上決め、描画用データか
ら抽出された各微小図形発生箇所について、決められた
ルールにしたがい、その図形分割の良否を判定するもの
であり、判定に先たち、所定幅以下の微小図形データの
発生を含む図形分割に対し、その図形分割の良否を判断
するルールを指定するルール指定手段１１０と、描画用
データに対し、各図形データの図形の幅チェックを行な
い、所定幅以下である微小図形データを抽出する微小図
形データ部抽出処理部１２０と、微小図形データ抽出部
処理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小
図形発生箇所について、前記ルール指定手段１１０にて
指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定す
る判定部１３０とを備えている。
は、可変成形型ＥＢ描画装置用の描画データの検証ツー
ルであって、所定幅以下の微小図形データの発生を含む
図形分割に対し、精度面、機能面から、その図形分割の
良否を判断するルールを１つ以上決め、描画用データか
ら抽出された各微小図形発生箇所について、決められた
ルールにしたがい、その図形分割の良否を判定するもの
であり、判定に先たち、所定幅以下の微小図形データの
発生を含む図形分割に対し、その図形分割の良否を判断
するルールを指定するルール指定手段１１０と、描画用
データに対し、各図形データの図形の幅チェックを行な
い、所定幅以下である微小図形データを抽出する微小図
形データ部抽出処理部１２０と、微小図形データ抽出部
処理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小
図形発生箇所について、前記ルール指定手段１１０にて
指定されたルールにしたがい、図形分割の良否を判定す
る判定部１３０とを備えている。
【００１０】図形分割の良否を判断するルールとして
は、例えば、図２（ａ）に示すように、コーナー部に出
っ張り（角部ともいう）２１５を配設したホール図形あ
るいはゲート図形である、図形分割前のポリゴンデータ
１１０に対し、ＥＢ描画装置に合せ、所定のアルゴリズ
ムにしたがい分割を行った結果が、図２（ｃ）に示すよ
うに、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）
方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割しないで、且
つ、元の図形のコーナー部に相当する箇所に所定幅以下
の微小図形を発生させる図形分割は、良しとする第１の
ルールが挙げられる。別のアルゴリズムにしたがい、図
２（ｂ）のように、微小図形を発生させないが、ＣＤ
（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ち
Ａ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と比べ
た場合、図２（ｃ）に示す図形分割は、精度的に優れた
描画を行なうことができる。また、図３（ｂ）に示すよ
うに、ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形デー
タで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微
小図形データの微小図形がある図形分割は、良しとする
第２のルールが挙げられる。別のアルゴリズムにしたが
い、図３（ａ）のように、微小図形を発生させないが、
ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、
即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と
比べた場合、図３（ｂ）に示す図形分割は、精度的に優
れた描画を行なうことができる。この場合、アシストバ
ーの機能面からも微小図形３２２、３２３のあるこのよ
うな図形分割は好ましい。また、図４（ｂ）、図４
（ｃ）に示すように、平行な異なる直線部（直線部４２
０Ａと直線部４２０Ｃ、あるいは直線部４３０Ａと直線
部４３０Ｃ））を結ぶ斜め部（４２０Ｂあるいは４３０
Ｂ）をその途中に有するゲート図形データで、その斜め
部に微小図形データの微小図形（４２５あるいは４３
５）があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、即ちＣ１−Ｃ
２方向、幅全体に跨り分割されていない図形分割は、良
しとする第３のルールを挙げることができる。別のアル
ゴリズムにしたがい、図４（ａ）のように、微小図形を
発生させないが、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎ
ｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割し
ている図形分割と比べた場合、図４（ｂ）、図４（ｃ）
に示す図形分割は、精度的に優れた描画を行なうことが
できる。
は、例えば、図２（ａ）に示すように、コーナー部に出
っ張り（角部ともいう）２１５を配設したホール図形あ
るいはゲート図形である、図形分割前のポリゴンデータ
１１０に対し、ＥＢ描画装置に合せ、所定のアルゴリズ
ムにしたがい分割を行った結果が、図２（ｃ）に示すよ
うに、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）
方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割しないで、且
つ、元の図形のコーナー部に相当する箇所に所定幅以下
の微小図形を発生させる図形分割は、良しとする第１の
ルールが挙げられる。別のアルゴリズムにしたがい、図
２（ｂ）のように、微小図形を発生させないが、ＣＤ
（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、即ち
Ａ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と比べ
た場合、図２（ｃ）に示す図形分割は、精度的に優れた
描画を行なうことができる。また、図３（ｂ）に示すよ
うに、ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形デー
タで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微
小図形データの微小図形がある図形分割は、良しとする
第２のルールが挙げられる。別のアルゴリズムにしたが
い、図３（ａ）のように、微小図形を発生させないが、
ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向、
即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割している図形分割と
比べた場合、図３（ｂ）に示す図形分割は、精度的に優
れた描画を行なうことができる。この場合、アシストバ
ーの機能面からも微小図形３２２、３２３のあるこのよ
うな図形分割は好ましい。また、図４（ｂ）、図４
（ｃ）に示すように、平行な異なる直線部（直線部４２
０Ａと直線部４２０Ｃ、あるいは直線部４３０Ａと直線
部４３０Ｃ））を結ぶ斜め部（４２０Ｂあるいは４３０
Ｂ）をその途中に有するゲート図形データで、その斜め
部に微小図形データの微小図形（４２５あるいは４３
５）があり、且つ該微小図形がＣＤ方向、即ちＣ１−Ｃ
２方向、幅全体に跨り分割されていない図形分割は、良
しとする第３のルールを挙げることができる。別のアル
ゴリズムにしたがい、図４（ａ）のように、微小図形を
発生させないが、ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｅｍｅｎ
ｓｉｏｎ）方向、即ちＡ１−Ａ２方向の幅を図形分割し
ている図形分割と比べた場合、図４（ｂ）、図４（ｃ）
に示す図形分割は、精度的に優れた描画を行なうことが
できる。
【００１１】微小図形データ部抽出処理部１２０は、通
常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ Ｃｈｅｃｋ）処
理と同様に、図形データの幅チェックを行ない、所定幅
以下の微小図形を抽出するものである。
常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ Ｃｈｅｃｋ）処
理と同様に、図形データの幅チェックを行ない、所定幅
以下の微小図形を抽出するものである。
【００１２】判定部１３０は、微小図形データ抽出部処
理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小図
形発生箇所について、ルール指定手段１１０にて指定さ
れたルールにしたがい、図形分割の良否を判定するもの
で、簡単には、各微小図形発生箇所を含む図形が、ホー
ル図形、ゲート図形、アシストバー図形であるか否かを
判断し、且つ、そのどの部分に所定幅以下の微細図形が
発生しているかにより、指定されたルール（例えば、先
に述べた、第１のルール〜第３のルール）のいずれか１
つより、その図形分割が良しと判断できるか否かを判定
するものである。
理部１２０にて抽出された微小図形データがある微小図
形発生箇所について、ルール指定手段１１０にて指定さ
れたルールにしたがい、図形分割の良否を判定するもの
で、簡単には、各微小図形発生箇所を含む図形が、ホー
ル図形、ゲート図形、アシストバー図形であるか否かを
判断し、且つ、そのどの部分に所定幅以下の微細図形が
発生しているかにより、指定されたルール（例えば、先
に述べた、第１のルール〜第３のルール）のいずれか１
つより、その図形分割が良しと判断できるか否かを判定
するものである。
【００１３】修正部１４０は、判定部にて、指定された
ルール（例えば、第１のルール〜第３のルール）のいず
れか１つにも当てはまらない図形分割と判断された、所
定幅以下の微小図形を含む図形分割箇所について、例え
ば、ディスプレをみながら手修正する装置である。所定
の修正アルゴリズムを設定すれば、勿論自動で、あるい
は対話的に修正を行なう装置をこれに使用することもで
きる。
ルール（例えば、第１のルール〜第３のルール）のいず
れか１つにも当てはまらない図形分割と判断された、所
定幅以下の微小図形を含む図形分割箇所について、例え
ば、ディスプレをみながら手修正する装置である。所定
の修正アルゴリズムを設定すれば、勿論自動で、あるい
は対話的に修正を行なう装置をこれに使用することもで
きる。
【００１４】次いで、本例のツールの処理フローの１例
を図１に基づいて説明する。尚、図１中、Ｓ１１〜Ｓ２
６は処理ステップを示す。先ず、設計データ（Ｓ１
１）、他の描画装置用のデータ（Ｓ１２）等のデータを
用いる場合、これらを、描画するフォトマスク仕様に合
せ、公知のデータ処理ツールにより、マスクデータ処理
を行なう。（Ｓ１３） フォトマスク仕様に合せ、通常、寸法補正（マスクバイ
アスとも言う）、反転処理等を行なう。これより、ポリ
ゴンデータを得る。（Ｓ１４） 次いで、ＥＢ描画装置に合せ、図形分割処理を行ない
（Ｓ１５）、描画装置用の描画データを得る。（Ｓ１
６） 図５は、同じサイズ形状の絵柄を、異なる図形データで
表現したものであり、図５（ａ）は図形間に重なりを許
す他の描画装置用の台形表示のデータの１例で、図５
（ｂ）は図形間の重なりを除去した台形表示の図形デー
タ、図５（ｃ）はポリゴンデータを表している。図５
（ａ）の他の描画装置用のデータは、例えば、図５
（ｂ）のデータを経て図５（ｃ）のポリゴンデータに変
換され、更に、目的の可変成形型ＥＢ描画機用に図形分
割が行われる。尚、設計データとしては、図５（ｃ）に
示すポリゴンデータが一般的である。
を図１に基づいて説明する。尚、図１中、Ｓ１１〜Ｓ２
６は処理ステップを示す。先ず、設計データ（Ｓ１
１）、他の描画装置用のデータ（Ｓ１２）等のデータを
用いる場合、これらを、描画するフォトマスク仕様に合
せ、公知のデータ処理ツールにより、マスクデータ処理
を行なう。（Ｓ１３） フォトマスク仕様に合せ、通常、寸法補正（マスクバイ
アスとも言う）、反転処理等を行なう。これより、ポリ
ゴンデータを得る。（Ｓ１４） 次いで、ＥＢ描画装置に合せ、図形分割処理を行ない
（Ｓ１５）、描画装置用の描画データを得る。（Ｓ１
６） 図５は、同じサイズ形状の絵柄を、異なる図形データで
表現したものであり、図５（ａ）は図形間に重なりを許
す他の描画装置用の台形表示のデータの１例で、図５
（ｂ）は図形間の重なりを除去した台形表示の図形デー
タ、図５（ｃ）はポリゴンデータを表している。図５
（ａ）の他の描画装置用のデータは、例えば、図５
（ｂ）のデータを経て図５（ｃ）のポリゴンデータに変
換され、更に、目的の可変成形型ＥＢ描画機用に図形分
割が行われる。尚、設計データとしては、図５（ｃ）に
示すポリゴンデータが一般的である。
【００１５】次いで、マスクデータ処理を行ない得られ
たポリゴンデータに対し、微小図形データ部抽出処理部
１２０により、通常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ
Ｃｈｅｃｋ）処理と同様、図形データの幅チェックを
行ない、所定幅以下の微小図形を抽出する。（Ｓ１７） ここでは、所定幅以下の微小図形がＮ個抽出されたと
し、所定幅以下の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝
１〜Ｎで、Ｎは１以上の正の整数）とする。
たポリゴンデータに対し、微小図形データ部抽出処理部
１２０により、通常のＤＲＣ（Ｄｅｓｉｇｎ Ｒｕｌｅ
Ｃｈｅｃｋ）処理と同様、図形データの幅チェックを
行ない、所定幅以下の微小図形を抽出する。（Ｓ１７） ここでは、所定幅以下の微小図形がＮ個抽出されたと
し、所定幅以下の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝
１〜Ｎで、Ｎは１以上の正の整数）とする。
【００１６】一方、予め、ルール指定手段１１０に、図
形分割の良否を判断するルールを入力しておく。（Ｓ１
８） ここでは、先に述べた第１のルール〜第３のルールを入
力するものとする。
形分割の良否を判断するルールを入力しておく。（Ｓ１
８） ここでは、先に述べた第１のルール〜第３のルールを入
力するものとする。
【００１７】次いで、判定部１３０により、所定幅以下
の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝１〜Ｎ）に対
し、第１のルール〜第３のルールにしたがい、所定幅以
下の各微小図形を含む箇所の図形分割の良否を判定す
る。（Ｓ２１） 所定幅以下の各微小図形データ毎に良否判定を行ない、
判定の結果がＯＫでない場合には、その微小図形を含む
箇所については、所定幅以下の微小図形が発生しないよ
うに、再度図形分割し直し修正を行なう。（Ｓ２４） ｉ＝１からはじめ（Ｓ１９）、図形データをＤｉを抽出
し（Ｓ２０）、判定を行ない（Ｓ２１）、ｉがＮでない
場合漸次ｉ＝ｉ＋１とし（Ｓ２５）、判定を行ない、ｉ
＝Ｎ（Ｓ２３）にて終了する。（Ｓ２６） このようにして、所定のルールにのった所定幅以下の微
小図形データを含む描画データを得ることができる。
の各微小図形の図形データをＤｉ（ｉ＝１〜Ｎ）に対
し、第１のルール〜第３のルールにしたがい、所定幅以
下の各微小図形を含む箇所の図形分割の良否を判定す
る。（Ｓ２１） 所定幅以下の各微小図形データ毎に良否判定を行ない、
判定の結果がＯＫでない場合には、その微小図形を含む
箇所については、所定幅以下の微小図形が発生しないよ
うに、再度図形分割し直し修正を行なう。（Ｓ２４） ｉ＝１からはじめ（Ｓ１９）、図形データをＤｉを抽出
し（Ｓ２０）、判定を行ない（Ｓ２１）、ｉがＮでない
場合漸次ｉ＝ｉ＋１とし（Ｓ２５）、判定を行ない、ｉ
＝Ｎ（Ｓ２３）にて終了する。（Ｓ２６） このようにして、所定のルールにのった所定幅以下の微
小図形データを含む描画データを得ることができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、上記のように、可変成形型Ｅ
Ｂ描画装置用の描画データの所定幅以下の微小な図形発
生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの
提供を可能とした。これにより、より高精度なフォトマ
スクを作成することが可能となった。
Ｂ描画装置用の描画データの所定幅以下の微小な図形発
生箇所における図形分割状態を評価できる検証ツールの
提供を可能とした。これにより、より高精度なフォトマ
スクを作成することが可能となった。
【図１】本発明の可変成形型描画装置用の描画図形デー
タの検証ツールの実施の形態の１例とその処理フローを
関連付けて示した図
タの検証ツールの実施の形態の１例とその処理フローを
関連付けて示した図
【図２】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断
するルールを説明するための図
するルールを説明するための図
【図３】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断
するルールを説明するための図
するルールを説明するための図
【図４】ルール指定装置による、図形分割の良否を判断
するルールを説明するための図
するルールを説明するための図
【図５】図形データを説明するための図
１１０ ルール指定手段 １２０ 微小図形データ部抽出処理部 １３０ 判定部 １４０ 修正部 ２１０ ポリゴン図形 ２２１〜２２７ （分割された後の）図形 ２３１〜２３９ （分割された後の）図形 ３１１、３１２ （分割された後の）図形 ３２１〜３２３ （分割された後の）図形 ４１１〜４１３ （分割された後の）図形 ４２０Ａ、４２０Ｃ 直線部 ４２０Ｂ 斜め部 ４２１〜４２５ （分割された後の）図形 ４３０Ａ、４３０Ｃ 直線部 ４３０Ｂ 斜め部 ４３１〜４３５ （分割された後の）図形
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂田 若彦 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 下袴田 直樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H097 CA16 GB04 LA10 5F056 AA04 CA05 CA30
Claims (3)
- 【請求項１】 可変成形型描画装置用の描画データの検
証ツールであって、所定幅以下の微小図形データの発生
を含む図形分割に対し、精度面、機能面等から、その図
形分割の良否を判断するルールを１つ以上決め、且つこ
れらを指定するルール指定手段と、描画用データに対
し、各図形データの図形の幅チェックを行ない、所定幅
以下である微小図形データを抽出する微小図形データ部
抽出処理部と、微小図形データ抽出部処理部にて抽出さ
れた微小図形データがある微小図形発生箇所について、
前記ルール指定手段にて指定されたルールにしたがい、
図形分割の良否を判定する判定部とを備え、微小図形デ
ータ部抽出処理部より、描画用データから抽出された各
微小図形発生箇所について、ルール指定手段に指定され
たルールにしたがい、その図形分割の良否を判断するも
のであることを特徴とする可変成形型描画装置用の描画
図形データの検証ツール。 - 【請求項２】 請求項１において、微小図形発生箇所に
おける図形分割が、ルール指定手段に指定されたルール
にしたがい、その図形分割が否と判断された場合、その
部分に微細図形を発生させないように再度図形分割をす
る図形分割修正部を備えていることを特徴とする可変成
形型描画装置用の描画図形データの検証ツール。 - 【請求項３】 請求項１ないし２において、図形分割の
良否を判断するルールが、（ａ）ＣＤ（Ｃｒｉｔｉｃａ
ｌ Ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ）方向の幅を分割しないホール
図形データないしゲート図形データで、その図形コーナ
部に、微小図形データの微小図形がある図形分割、
（ｂ）ＣＤ方向の幅を分割しないアシストバー図形デー
タで、その図形のＣＤ方向と直交する方向の端部に、微
小図形データの微小図形がある図形分割、（ｃ）平行な
異なる直線部を結ぶ斜め部をその途中に有するゲート図
形データで、その斜め部に微小図形データの微小図形が
あり、且つ該微小図形がＣＤ方向、幅全体に跨り分割さ
れていない図形分割、のいずれの図形分割も、良い図形
分割とするものであることを特徴とする可変成形型描画
装置用の描画図形データの検証ツール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001147342A JP4759842B2 (ja) | 2001-05-17 | 2001-05-17 | 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001147342A JP4759842B2 (ja) | 2001-05-17 | 2001-05-17 | 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002343702A true JP2002343702A (ja) | 2002-11-29 |
| JP4759842B2 JP4759842B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=18992842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001147342A Expired - Lifetime JP4759842B2 (ja) | 2001-05-17 | 2001-05-17 | 可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4759842B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076922A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 可変成形描画装置の図形データ分割方法及び可変成形描画装置 |
| JP2010072434A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Toshiba Corp | 描画パターンの生成方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5394773A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Method of connecting graph in charged beam exposing device |
| JPH08306608A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置 |
| JPH0963930A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
| JPH09320925A (ja) * | 1996-05-27 | 1997-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | アレイデータの変換方法 |
| JPH10154648A (ja) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成装置 |
| JPH10209012A (ja) * | 1997-01-23 | 1998-08-07 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検証装置 |
| JPH11219889A (ja) * | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成装置 |
-
2001
- 2001-05-17 JP JP2001147342A patent/JP4759842B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5394773A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Cho Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Method of connecting graph in charged beam exposing device |
| JPH08306608A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成方法およびその作成装置 |
| JPH0963930A (ja) * | 1995-08-25 | 1997-03-07 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
| JPH09320925A (ja) * | 1996-05-27 | 1997-12-12 | Mitsubishi Electric Corp | アレイデータの変換方法 |
| JPH10154648A (ja) * | 1996-11-22 | 1998-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成装置 |
| JPH10209012A (ja) * | 1997-01-23 | 1998-08-07 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検証装置 |
| JPH11219889A (ja) * | 1998-02-03 | 1999-08-10 | Mitsubishi Electric Corp | 荷電ビーム描画データ作成装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008076922A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 可変成形描画装置の図形データ分割方法及び可変成形描画装置 |
| JP2010072434A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-02 | Toshiba Corp | 描画パターンの生成方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
| US8112725B2 (en) | 2008-09-19 | 2012-02-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Writing pattern producing method, photomask manufacturing method, and semiconductor device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4759842B2 (ja) | 2011-08-31 |
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