JP4725120B2 - 積層インダクタ及び積層基板 - Google Patents
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また、ZrO 2 にガラスを添加して得られる材料を非磁性体に使用する。よって、非磁性体の熱膨張係数、収縮特性が磁性体のそれらに近付くため、磁性体が非磁性体から受ける応力は小さくなる。
また、磁気ギャップ単層の厚みが各コイルパターンの厚みよりも薄い。よって、残留応力が磁気特性に及ぼす影響は小さい。
図1は、第1実施の形態に係る積層インダクタ10の断面図である。図1において、1はLi−Cu−Zn系フェライトからなる磁性体であり、磁性体1に挟まれて、例えばAgからなるコイルパターン2と、磁気ギャップを形成するための例えば安定化ZrO2 にガラスを添加して得られる材料からなる非磁性体3とが存在している。この第1実施の形態では、コイルパターン2に囲まれた領域で、磁気回路の磁路に対して垂直に磁気ギャップが設けられている。外側は全て磁性体1で覆われているため、外部に磁束が漏洩しない構造であり、漏洩磁束による悪影響がない。
図2は、第2実施の形態に係る積層インダクタ10の断面図である。図2において、図1と同一部分には同一番号を付して、それらの説明を省略する。この第2実施の形態では、コイルパターン2以外の領域で、磁気回路の磁路に対して垂直に磁気ギャップ(非磁性体3)が設けられている。ギャップ長を長くとれるため、磁気ギャップの効果を大きくできる。
図3は、第3実施の形態に係る積層インダクタ10の断面図である。図3において、図1と同一部分には同一番号を付して、それらの説明を省略する。この第3実施の形態では、コイルパターン2上も含めた全領域で、磁気回路の磁路に対して垂直に磁気ギャップ(非磁性体3)が設けられている。ギャップ長を長く、すきまなくとれるため、磁気ギャップ効果を更に大きくできる。
図4は、第4実施の形態に係る積層インダクタ10の断面図である。図4において、図1と同一部分には同一番号を付して、それらの説明を省略する。この第4実施の形態では、第3実施の形態と同様にコイルパターン2上にも磁気ギャップ(非磁性体3)を形成しているが、外部に磁束が漏洩しないように、端部には磁気ギャップ(非磁性体3)を設けていない。
図5は、第5実施の形態に係る積層インダクタ10の断面図である。第1乃至第4実施の形態の積層インダクタ10では、印刷によって非磁性体3(磁気ギャップ)を設けているが、第5実施の形態では、安定化ZrO2 にガラスを添加して得られる材料からなる非磁性体シート13を磁性体1内に挿入することにより、磁気回路の磁路の一部に対して垂直に磁気ギャップを設けている。ギャップ長を長く、すきまなくとれるため、磁気ギャップ効果を更に大きくできる。
2 コイルパターン
3 非磁性体(磁気ギャップ)
10 積層インダクタ
13 非磁性体シート
20 積層基板
Claims (6)
- 積層された磁性体とコイルパターンとによって形成される磁気回路の磁路の一部に、少なくとも前記コイルパターンに囲まれた内側の領域で非磁性体によって複数の磁気ギャップが設けられ、前記磁性体、コイルパターン及び非磁性体が一括して焼結されてなる積層インダクタにおいて、
前記磁性体はLi系スピネル型フェライトであり、
前記非磁性体が安定化ZrO 2 にガラスを添加して得られる材料からなり、
前記磁気ギャップ単層の厚みが各コイルパターンの厚みよりも薄いことを特徴とする積層インダクタ。 - 前記Li系スピネル型フェライトは、Li−Zn系フェライトまたはLi−Cu−Zn系フェライトであることを特徴とする請求項1記載の積層インダクタ。
- 前記コイルパターンは、Agペーストを焼結してなることを特徴とする請求項1または2記載の積層インダクタ。
- 前記磁性体上への非磁性体の印刷により、前記磁気ギャップが設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の積層インダクタ。
- 前記磁性体の間への非磁性体シートの介在により、前記磁気ギャップが設けられていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の積層インダクタ。
- 複数の磁性体を積層して構成され、その表面に電子部品が実装される積層基板において、請求項1乃至5のいずれかに記載の積層インダクタを有することを特徴とする積層基板。
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