JP4723272B2 - 光重合性樹脂組成物およびその硬化物 - Google Patents
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Description
前記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂は、例えば、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のジグリシジルエーテル(例えば、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルなど)、および9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のC2-4アルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル[9,9−ビス(グリシジルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレンなど]から選択された少なくとも1種であってもよい。
[式中、R4は、アルキル基又は基−[(R6O)b−R7](式中、R6は、アルキレン基であり、R7はアルキル基であり、bは1以上の整数を示す)であり、R5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。aは1〜4の整数を示す]
前記式(2)において、R5が、置換基を有していてもよいC1-6アルキル基、又は置換基を有していてもよいC6-10アリール基であり、aが3又は4であってもよい。このようなアルコキシシラン類は、例えば、アリールトリアルコキシシラン(C6-8アリールトリC1-4アルコキシシラン)、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン(グリシジルオキシC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン、エポキシC5-8シクロアルキルC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、テトラアルコキシシラン(テトラC1-4アルコキシシランなど)、およびアルコキシシランの縮合物(少なくともトリアルコキシシラン類で構成されたアルコキシシランの縮合物など)から選択された少なくとも1種のアルコキシシラン類などであってもよい。
フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂(以下、単にフルオレンエポキシ樹脂、エポキシ樹脂ということがある)は、樹脂中にフルオレン骨格(9,9−ビスフェニルフルオレン骨格)を有するエポキシ樹脂であればよく、通常、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂である。本発明の組成物は、このようなフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂で構成されているため、高耐熱性、高屈折率などの特性を効率よく硬化物(ハイブリッド硬化物)に付与できる。
R1aおよびR1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。基R1aおよびR1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基R1a(又はR1b)は、同一のベンゼン環において、異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基R1a(又はR1b)の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数k1およびk2は、0又は1、特に、0である。なお、置換数k1及びk2は、異なっていてもよいが、通常、同一である。
アルコキシシラン類は、ケイ素原子に直接結合したアルコキシ基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、通常、下記式(2)で表されるアルコキシシラン又はその縮合物を好適に使用できる。本発明の組成物は、このようなアルコキシシラン類で構成されているため、基材に対する高い密着性、ハードコート性、高透明性などの優れた特性を効率よく硬化物(ハイブリッド硬化物)に付与できる。
[式中、R4は、アルキル基又は基−[(R6O)b−R7](式中、R6は、アルキレン基であり、R7はアルキル基であり、bは1以上の整数を示す)であり、R5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。aは1〜4の整数を示す]
前記式(2)において、基R4(および基R7)で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1-6アルキル基、好ましくはC1-4アルキル基、さらに好ましくはC1-2アルキル基などが例示できる。基R5で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−O−[(R6O)b−R7]で表されるポリアルコキシ基において、基R6で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、C2-4アルキレン基(エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、特に、C2-3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。アルキレンオキシ(R6O)単位の付加数bは、1以上であればよく、例えば、1〜4、好ましくは1〜2、さらに好ましくは1であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基などのC1-4アルコキシC2-4アルコキシ基(特に、C1-2アルコキシエトキシ基)などが含まれる。
上記式(3)において、好ましい基R7としては、メチル基、エチル基などのC1-4アルキル基(特にC1-2アルキル基)などが挙げられる。なお、前記のように、複数の基R7は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。また、好ましい縮合度(重合度)dは、例えば、2〜8、好ましくは2〜6、さらに好ましくは3〜5程度であってもよい。
[式中、MはTi、Zr、Al又はZnを表す。R8は、アルキル基又は基−[(R10O)c−R11](式中、R10は、アルキレン基であり、R11はアルキル基であり、cは1以上の整数を示す)、R9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1以上の整数、nは0又は1以上の整数を表す。]
前記式(4)において、基R8(および基R11)で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1-18アルキル基、好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基)などが例示できる。基R9で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−O−[(R10O)c−R11]で表されるポリアルコキシ基において、基R10で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、C2-4アルキレン基(エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、特に、C2-3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。アルキレンオキシ(R10O)単位の付加数cは、1以上であればよく、例えば、1〜4、好ましくは1〜2、さらに好ましくは1であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基などのC1-4アルコキシC2-4アルコキシ基(特に、C1-2アルコキシエトキシ基)などが含まれる。
光酸発生剤としては、特に限定されず、慣用の化合物を用いることができ、例えば、オニウム塩、メタロセン錯体などを好適に使用できる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩などが例示でき、これらの対イオンとしては、CF3SO3 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -およびSbF6 -などのアニオンが用いられる。
本発明の硬化物(前記光重合性樹脂組成物が硬化(又は架橋)した硬化物)は、前記組成物に光を照射して硬化反応(又は架橋反応)により硬化(又は架橋)させることにより製造又は調製できる。実用的な方法では、前記光重合性樹脂組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射する(又は必要に応じて光照射後、さらに加熱)ことにより、本発明の硬化物(硬化膜、硬化パターンなど)を調製してもよい。すなわち、本発明では、光照射により発生する酸(又は酸触媒)により、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂およびアルコキシシラン類を縮重合させることによって、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂中にアルコキシシラン類(又はシリカ)を含む硬化物(ハイブリッド硬化物)を製造する。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)7.9gおよびメチルシリケート(扶桑化学工業(株)製、商品名「MS−51」)2gをテトラヒドロフラン(THF)20mLに溶解し、水2.23g、シュウ酸50mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル(QTレジン、固形分約17%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS)3.9gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)20gに溶解し、水3.2g、ギ酸50mgを加えた後、60℃で1時間、130℃で3時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約23%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(ECHETMS)3.45gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)20gに溶解し、水3.2g、ギ酸50mgを加えた後、60℃で1時間、130℃で3時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約25%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS)3.9gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)20gに溶解し、水3.2g、シュウ酸50mgを加えた後、60℃で1時間、130℃で3時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約25%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(ECHETMS)3.45gをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)20gに溶解し、水3.2g、シュウ酸50mgを加えた後、60℃で1時間、130℃で3時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約26%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(GPTMS)3.9gをテトラヒドロフラン(THF)20mLに溶解し、水3.2g、シュウ酸50mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約21%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)9.2g、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(ECHETMS)3.45gをテトラヒドロフラン(THF)20mLに溶解し、水3.2g、シュウ酸50mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約22%)を調製した。
フェニルトリメトキシシラン(PTMS)1.98g、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン(ECHETMS)0.82gおよびテトライソプロポキシチタン7.5gをテトラヒドロフラン(THF)5mLに溶解し、ギ酸40mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、部分縮合したシリカゾル(固形分約23%)を調製した。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.12g、合成例1で調製した部分縮合ゾル3.17g、THF1g、および光酸発生剤[ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート]20mgを含む混合液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらに、このハイブリッド膜を、温度約120℃でアフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜の屈折率は、約1.55であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.32g、合成例2で調製した部分縮合ゾル5.73g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを含む混合液から0.5gを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加えた溶液(塗布液)をシリコン基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚68nm)の屈折率は1.616であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.32g、合成例2で調製した部分縮合ゾル5.73g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを含む混合液から0.45gを分取し、ジエチレングリコールモノメチルエーテル0.05gおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚70nm)の屈折率は1.614であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)0.95g、合成例3で調製した部分縮合ゾル3.86g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを含む混合液から0.5gを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚81nm)の屈折率は1.594であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.13g、合成例4で調製した部分縮合ゾル4.50g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを含む混合液から0.5gを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚100nm)の屈折率は1.588であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.22g、合成例5で調製した部分縮合ゾル4.69g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを含む混合液から0.5gを分取し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート4.5gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚104nm)の屈折率は1.594であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.08g、合成例6で調製した部分縮合ゾル5.24g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgにテトラヒドロフラン26gを加えた混合液から0.5gを分取し、テトラヒドロフラン1.5gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚98nm)の屈折率は1.591であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.13g、合成例6で調製した部分縮合ゾル2.74g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgにテトラヒドロフラン2gを加えた混合液から0.2gを分取し、テトラヒドロフラン4gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚84nm)の屈折率は1.612であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.23g、合成例7で調製した部分縮合ゾル5.69g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgにテトラヒドロフラン2gを加えた混合液から0.2gを分取し、テトラヒドロフラン4gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚90nm)の屈折率は1.596であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1.42g、合成例7で調製した部分縮合ゾル3.29g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgにテトラヒドロフラン2gを加えた混合液から0.2gを分取し、テトラヒドロフラン4gを加えた溶液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚89nm)の屈折率は1.615であり、耐熱性も高かった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1g、合成例8で調製した部分縮合ゾル4.31g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgの混合液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚88nm)の屈折率は1.651であり、耐熱性も高かった。
(実施例12)
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1g、合成例7で調製した部分縮合ゾル4.63g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgの混合液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚6μm)の鉛筆硬度は3H、密着性(碁盤目試験)は100/100、5%重量減少温度(TGA 空気雰囲気)は308.1℃であった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1g、合成例7で調製した部分縮合ゾル2.31g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgの混合液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、強固で透明な膜が得られた。このアフターキュア後の膜(膜厚9μm)の鉛筆硬度は2H、密着性(碁盤目試験)は100/100、5%重量減少温度(TGA 空気雰囲気)は305.2℃であった。
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのジグリシジルエーテル(ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル)1gにテトラヒドロフラン1.81g、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート20mgを加えた混合液(塗布液)をガラス基板にスピンコートして製膜した。この塗膜に、エネルギー2000mJ/cm2で紫外線照射し、上記グリシジルエーテルの硬化およびゾルゲル反応を生じさせ、ハイブリッド膜(厚み6μm)を作製した。さらにこのハイブリッド膜を、温度150℃で1.5時間アフターキュア(加熱)すると、クラックが多数入った膜が得られた。鉛筆硬度はHであった。
Claims (11)
- 下記式(1)
で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂、アルコキシシラン類および光酸発生剤で構成された光重合性樹脂組成物であって、
アルコキシシラン類が、(i)官能基を有さないトリアルコキシシランとエポキシ基を有するトリアルコキシシランとを含むトリアルコキシシラン類の縮合物、および(ii)トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物から選択された少なくとも1種であり、
アルコキシシラン類の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂100重量部に対して、30〜1000重量部であり、
光酸発生剤の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂100重量部に対して、0.5〜10重量部であり、かつ
ポリシランおよび脂環式エポキシ化合物を含まない光重合性樹脂組成物。 - 式(1)で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂が、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のジグリシジルエーテル、および9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のC2−4アルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルから選択された少なくとも1種である請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- 式(1)で表されるフルオレン骨格を有するエポキシ樹脂が、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル、および9,9−ビス(グリシジルオキシC2−4アルコキシフェニル)フルオレンから選択された少なくとも1種である請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- 官能基を有しないトリアルコキシシランが、アルキルトリアルコシシラン又はアリールトリアルコキシシランである請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- (i)トリアルコキシシラン類の縮合物において、官能基を有しないトリアルコキシシランが、アリールトリアルコキシシランであり、(ii)トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物において、トリアルコキシシラン類が、アリールトリアルコキシシラン又はエポキシ基を有するトリアルコキシシランである請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- (i)トリアルコキシシラン類の縮合物において、官能基を有さないトリアルコキシシランがC 6−8 アリールトリC 1−4 アルコキシシランであり、エポキシ基を有するトリアルコキシシランがグリシジルオキシC 2−4 アルキルトリC 1−4 アルコキシシラン又はエポキシC 5−8 シクロアルキルC 2−4 アルキルトリC 1−4 アルコキシシランであり、
(ii)トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類との縮合物において、トリアルコキシシラン類が、C 6−8 アリールトリC 1−4 アルコキシシランであり、テトラアルコキシシラン類が、テトラC 1−4 アルコキシシランである請求項1記載の光重合性樹脂組成物。 - 光酸発生剤が、トリアリールスルホニウム塩、およびビス(アルキルアリール)ヨードニウム塩から選択された少なくとも1種である請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- アルコキシシラン類の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂100重量部に対して、50〜700重量部であり、光酸発生剤の割合が、フルオレン骨格を有するエポキシ樹脂100重量部に対して、0.5〜5重量部である請求項1記載の光重合性樹脂組成物。
- 請求項1記載の光重合性樹脂組成物を、基板上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記光重合性樹脂組成物の硬化物を製造する方法。
- 光照射後、さらに加熱する請求項9記載の方法。
- 請求項1記載の光重合性樹脂組成物が硬化した硬化物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005104051A JP4723272B2 (ja) | 2004-04-02 | 2005-03-31 | 光重合性樹脂組成物およびその硬化物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004109601 | 2004-04-02 | ||
JP2004109601 | 2004-04-02 | ||
JP2005104051A JP4723272B2 (ja) | 2004-04-02 | 2005-03-31 | 光重合性樹脂組成物およびその硬化物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005314692A JP2005314692A (ja) | 2005-11-10 |
JP4723272B2 true JP4723272B2 (ja) | 2011-07-13 |
Family
ID=35442433
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005104051A Active JP4723272B2 (ja) | 2004-04-02 | 2005-03-31 | 光重合性樹脂組成物およびその硬化物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4723272B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4490183B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2010-06-23 | 日東電工株式会社 | 光導波路およびその製造方法 |
KR101239047B1 (ko) * | 2007-01-26 | 2013-03-04 | 주식회사 엘지화학 | 플루오렌계 고차가지형 고분자 수지 |
JP5048395B2 (ja) * | 2007-06-05 | 2012-10-17 | 日本ペイント株式会社 | 無機有機複合コーティング組成物 |
JP5249578B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-07-31 | 大阪瓦斯株式会社 | フルオレン骨格を有するエポキシ化合物 |
RU2444538C1 (ru) * | 2008-01-25 | 2012-03-10 | Мицуи Кемикалз, Инк. | Эпоксидная композиция для полимеризации и герметизирующая композиция, содержащая ее |
JP5102671B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2012-12-19 | 株式会社日本触媒 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、光学部材及び光学ユニット |
JP5489559B2 (ja) * | 2008-07-03 | 2014-05-14 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 樹脂組成物、その製造方法及びその硬化物 |
TWI440647B (zh) * | 2008-07-03 | 2014-06-11 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 改質樹脂組成物、其製造方法及含該組成物之硬化性樹脂組成物 |
JP6024375B2 (ja) * | 2011-11-21 | 2016-11-16 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 樹脂組成物、ならびにそれを用いた保護膜およびタッチパネル用絶縁膜 |
CN104470961B (zh) | 2012-07-12 | 2016-11-09 | 昭和电工株式会社 | 共聚物、单体组合物、树脂溶液及树脂膜 |
JP6474719B2 (ja) * | 2013-02-19 | 2019-02-27 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物及びその硬化物、光学部材、並びに光学装置 |
JP6448083B2 (ja) * | 2014-11-28 | 2019-01-09 | 協立化学産業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及び高屈折性樹脂硬化体 |
JP6726053B2 (ja) * | 2016-03-24 | 2020-07-22 | 大阪ガスケミカル株式会社 | エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2005
- 2005-03-31 JP JP2005104051A patent/JP4723272B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005314692A (ja) | 2005-11-10 |
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