JP4716881B2 - 太陽電池の作製方法 - Google Patents
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Description
PROGRESS IN PHOTOVOLTAICS: RESEARCH AND APPLICATIONS 2004; 12:21−31
本発明方法に用いられる間隔2mmの基板ホルダー(実施例1)及び間隔0mmの基板ホルダー(実施例2)の能力を検証するため、従来の間隔の大きい(6mm)基板ホルダー(比較例1)を用意、さらに、比較用に間隔3mmの基板ホルダー(比較例2)も用意し、四者を用いてそれぞれSiNx膜を製膜して比較した。
Claims (2)
- 配設される基板に対応して複数個の孔部を開穿した基板ホルダー枠体と、当該基板ホルダー枠体の上面もしくは下面に沿って、略平行に基板を配設することができるように当該基板ホルダー枠体に設けられた基板支持具とを有し、前記基板の受光面となる表面に反応ガスを用いてCVD膜を形成させるために使用されるプラズマCVD用基板ホルダーを用いて、前記基板の表面にCVD膜を形成する太陽電池の作製方法であって、前記基板の受光面となる表面側に近接する側の前記基板ホルダー枠体の面と前記基板の受光面となる表面との間隔が0mm以上2mm以下であるように設定し、前記基板の受光面となる表面に反応ガスを用いてCVD膜を形成することを特徴とする太陽電池の作製方法。
- 前記反応ガスがモノシランにアンモニア、窒素又は水素のいずれか1種以上を混合した混合ガスであることを特徴とする請求項1記載の太陽電池の作製方法。
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