JP4706674B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
前記基板は、入射した光を透過する透過領域と遮光する遮光領域とに分かれている。好ましくは、前記薄膜トランジスタには、その上に配した膜をパターニングして夫々形成した信号配線や引き出し電極が接続しており、該第一の平坦化膜を間にして、前記導電性遮光層と、信号配線や引き出し電極にパターニングされた前記膜との重ね合わせにより、液晶側から入射する光に対して遮光がなされている。又前記導電性遮光層は、第一の遮光層と第二の遮光層とに分離しており、前記第一の遮光層は該引き出し電極と該画素電極とに接続しており、前記第二の遮光層は共通電位に接続されている。場合によっては前記基板の遮光領域には、該導電性遮光層の下にこれとは別の遮光層が形成されている。
以上説明したように、本発明によれば、導電性の遮光層を第一平坦化膜の上に形成することにより、導電性遮光層による遮光性能の向上を図り、光リーク電流による画質低下を抑えることができる。又、導電性の遮光層を第二平坦化膜で平坦化した上で画素電極や配向膜を形成している。これにより、配向状態が大幅に改善可能である。配向処理におけるプロセスマージンが拡大する為生産性が向上するとともに、表示品位も大幅に改善可能である。この様に、導電性の遮光層を上下から二層の平坦化膜で挟持する構成とすることにより、遮光性能の改善及び表示品質の改善が可能になる。特に、第二平坦化膜を用いることで、TFT基板上に微細なスペーサを形成しても、液晶の配向が乱れることがなくなる。
チャック回転数 60rpm
テーブル回転数 4rpm
リテーナ高さ 840μm
研磨レート 500nm/分で4分研磨
ドレス方式 in−situドレス
スラリー SS−25(KOH液にシリカ粒を分散したスラリー) 1/2純水希釈液使用
Claims (20)
- 基板上に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上層に形成され平坦になっている第一の膜と、
平坦になっている前記第一の膜の上層に設けられ、液晶側から入射した光を遮光する導電性遮光層と、
前記導電性遮光層の上層に形成され平坦になっている第二の膜と、
平坦になっている前記第二の膜の上層に形成された画素電極とを含み、
前記画素電極は、前記第一の膜の上層に設けられた導電性の膜を介して前記薄膜トランジスタと電気的に接続され、
前記導電性遮光層は、少なくとも該薄膜トランジスタのゲート電極の上方を覆う液晶表示装置。 - 基板上に形成された薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上層に形成され平坦になっている第一の膜と、
平坦になっている前記第一の膜の上層に設けられ、液晶側から入射した光を遮光する導電性遮光層と、
前記導電性遮光層の上層に形成され平坦になっている第二の膜と、
平坦になっている前記第二の膜の上層に形成された画素電極とを含み、
前記導電性遮光層は、第一の遮光層と第二の遮光層とに分離しており、
前記画素電極は、前記第一の遮光層を介して前記薄膜トランジスタと電気的に接続されており、
前記第二の遮光層は、前記薄膜トランジスタのゲート電極の上方を覆うように配されている液晶表示装置。 - 前記基板は、入射した光を透過する透過領域と遮光する遮光領域とに分かれている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタには、その上に配した膜をパターニングして夫々形成した信号配線や引き出し電極が接続しており、
平坦になっている該第一の膜を間にして、前記導電性遮光層と、信号配線や引き出し電極にパターニングされた前記膜との重ね合わせにより、液晶側から入射する光に対して遮光がなされている請求項3に記載の液晶表示装置。 - 前記基板は、入射した光を透過する透過領域と遮光する遮光領域とに分かれており、
前記薄膜トランジスタには、その上に配した膜をパターニングして夫々形成した信号配線や引き出し電極が接続しており、
平坦になっている該第一の膜を間にして、前記導電性遮光層と、信号配線や引き出し電極にパターニングされた前記膜との重ね合わせにより、液晶側から入射する光に対して遮光がなされており、
前記導電性遮光層は、第一の遮光層と第二の遮光層とに分離しており、前記第一の遮光層は該引き出し電極と該画素電極とに接続しており、前記第二の遮光層は共通電位に接続されている請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記基板の遮光領域には、該導電性遮光層の下にこれとは別の遮光層が形成されている請求項3に記載の液晶表示装置。
- 前記第一の膜は、絶縁膜を成膜した後その表面を化学機械研磨して平坦になっている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記第一の膜は、スピンコーティングで平滑に塗工した絶縁材料を焼成して平坦になっている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記第二の膜は、絶縁膜を成膜した後その表面を化学機械研磨して平坦になっている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記第二の膜は、スピンコーティングで平滑に塗工した絶縁材料を焼成して平坦になっている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記第二の膜は、有機樹脂を塗工して平坦になっている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 対向電極を形成した対向基板が所定の間隙を介して前記基板に接合しており、該間隙に液晶が保持されている請求項1又は請求項2に記載の液晶表示装置。
- 基板上に薄膜トランジスタを形成する工程と、
該薄膜トランジスタの上層に平坦になっている第一の膜を形成する工程と、
平坦になっている前記第一の膜の上層で少なくとも該薄膜トランジスタのゲート電極の上方を覆うように導電性遮光膜を設けて、液晶側から入射した光を遮光する工程と、
前記導電性遮光層の上層に平坦になっている第二の膜を形成する工程と、
平坦になっている前記第二の膜の上層に、前記第一の膜の上層に設けられた導電性の膜を介して前記薄膜トランジスタと電気的に接続された画素電極を形成する工程とを含む液晶表示装置の製造方法。 - 基板上に薄膜トランジスタを形成する工程と、
前記薄膜トランジスタの上層に平坦になっている第一の膜を形成する工程と、
平坦になっている前記第一の膜の上層で少なくとも前記薄膜トランジスタのゲート電極の上方を覆うように導電性遮光膜を設けて、液晶側から入射した光を遮光する工程と、
前記導電性遮光層の上層に平坦になっている第二の膜を形成する工程と、
平坦になっている前記第二の膜の上層に画素電極を形成する工程とを含み、
前記液晶側から入射した光を遮光する工程では、前記導電性遮光層を第一の遮光層と第二の遮光層とに分離し、かつ、前記薄膜トランジスタのゲート電極の上方を前記第二の遮光層が覆うように配し、
前記画素電極を形成する工程では、前記第一の遮光層を介して前記薄膜トランジスタと前記画素電極とを電気的に接続する液晶表示装置の製造方法。 - 前記第一の膜を形成する工程は、絶縁膜を成膜した後その表面を化学機械研磨して平坦にする請求項13又は請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第一の膜を形成する工程は、スピンコーティングで平滑に塗工した絶縁材料を焼成して平坦にする請求項13又は請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第二の膜を形成する工程は、絶縁膜を成膜した後その表面を化学機械研磨して平坦にする請求項13又は請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第二の膜を形成する工程は、スピンコーティングで平滑に塗工した絶縁材料を焼成して平坦にする請求項13又は請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第二の膜を形成する工程は、有機樹脂を塗工して平坦にする請求項13又は請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 対向電極を形成した対向基板を所定の間隙を介して前記基板に接合し、該間隙に液晶を保持する工程を含む請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。
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