JP4684139B2 - レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 - Google Patents
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Description
露光機のスキャンスピードを上げるためには、水に接触するフォトレジスト保護膜の滑水性を上げる必要がある。滑水性を上げるには、単に撥水性を上げるだけではなく、異種の撥水性基を組み合わせ、ミクロドメイン構造を形成することが効果的であると報告されている。例えば、シロキサンをグラフトしたフッ素樹脂などは非常に優れた滑水性を示す(非特許文献5)。このものは、フッ素樹脂単独、シリコーン樹脂単独よりも優れた滑水性であり、TEM観察により、10−20nmのドメイン構造を形成していることが示されている(非特許文献6)。
レジスト上層膜材料は、好ましくは、疎水性基としてフッ素原子を1個以上有するフッ素含有アルキル基を有する繰り返し単位及び/又はフッ素を含まないアルキル基を有する繰り返し単位とともに、必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーを含有してなる。すなわち、フッ素含有アルキル基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーと、アルキル基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーとを含むブレンドを用いてもよい。また、フッ素含有アルキル基を有する繰り返し単位とアルキル基を有する繰り返し単位と必要に応じてアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーを用いてもよい。
パーフルオロアルキル基を有する繰り返し単位は、好ましくは、下記式(1)中の繰り返し単位A1とA2とA3からなる群から選択することができる。フッ素原子を1個以上含むフッ素含有アルキレン基の繰り返し単位は、好ましくは、下記式(1)中の繰り返し単位A4から選択されることができる。
繰り返し単位A1とA2とA3は、具体的には下記に例示することができる。
繰り返し単位B1とB2とB3は、具体的には下記に例示することができる。
アルカリ溶解性基としては、フェノール基、スルホ基、カルボキシル基、αトリフルオロメチルアルコールが挙げられ、これらの中ではカルボキシル基とαトリフルオロメチルアルコールが好ましく用いることができる。カルボキシル基あるいはαトリフルオロメチルアルコールを有する繰り返し単位としては、具体的には下記に例示することができる。
ミクロドメイン構造を構成する共重合ポリマーとしては、(i)A1〜A4から選ばれた繰り返し単位と必要に応じてCの繰り返し単位を含む共重合ポリマーと、B1〜B3から選ばれた繰り返し単位と必要に応じてCの繰り返し単位を含む共重合ポリマーとのブレンド、又は(ii)A1〜A4から選ばれた繰り返し単位とB1〜B3から選ばれた繰り返し単位と必要に応じてCの繰り返し単位を含む共重合ポリマー、が挙げられる。
ミクロドメイン構造を形成するために、異なる極性を有するポリマーのブレンドは有効である。このため、ブレンドする一方のポリマーにはフッ素含有アルキル基、もう一方にはアルキル基を有する繰り返し単位と、それぞれアルカリ溶解性基を有する繰り返し単位とを有するように共重合させたポリマー同士をブレンドさせる。更に、ミクロドメイン構造を構成する共重合ポリマーとしては、一般的にはブロックポリマーの有効性が述べられている。ブロックポリマーの場合、ポリマーブレンドの場合よりもミクロドメイン構造の大きさや分布を精緻にコントロールできるメリットがある。
フッ素基含有アルキル基を有する繰り返し単位とフッ素原子を含まないアルキル基を有する繰り返し単位を含む共重合ポリマーの場合は、好ましくは、0.1≦a1+a2+a3+a4≦0.9、0.1≦b1+b2+b3≦0.9、0≦c≦0.9、a1+a2+a3+a4+b1+b2+b3+c=1である。
なお、a1+a2+a3+a4+b1+b2+b3+c=1とは、繰り返し単位A1、A2、A3、A4、B1、B2、B3、Cを含む高分子化合物において、繰り返し単位a1、a2、a3、a4、b1、b2、b3、cの合計量が全繰り返し単位の合計量に対して100モル%であることを示す。
重合方法としては、繰り返し単位A1〜A4、B1〜B3、Cを得るための不飽和結合を有するモノマーを有機溶剤中、開始剤を加え、加熱重合を行うことにより、高分子化合物を得ることができる。
重合時に使用する有機溶剤としては、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が例示できる。
重合開始剤としては、ラジカル重合においては2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、ベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド等が例示でき、アニオン重合としてはアルキルリチウムが用いられ、その中でも特にsec-ブチルリチウム、n-ブチルリチウムがリビングアニオン重合用開始剤としてとして好ましく用いられる。カチオン重合としては硫酸、燐酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンファースルホン酸、トシル酸等の酸、BF3、AlCl3、TiCl4、SnCl4などのフリーデルクラフツ触媒のほか、I2、(C6H5)3CClのようにカチオンを生成しやすい物質が使用される。
重合温度としては好ましくは50〜80℃に加熱して重合できる。反応時間としては2〜100時間、好ましくは5〜20時間である。
このようなフッ素置換された溶媒を例示すると、2−フルオロアニソール、3−フルオロアニソール、4−フルオロアニソール、2,3−ジフルオロアニソール、2,4−ジフルオロアニソール、2,5−ジフルオロアニソール、5,8−ジフルオロ−1,4−ベンゾジオキサン、2,3−ジフルオロベンジルアルコール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、2’,4’−ジフルオロプロピオフェノン、2,4−ジフルオロトルエン、トリフルオロアセトアルデヒドエチルヘミアセタール、トリフルオロアセトアミド、トリフルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエチルブチレート、エチルヘプタフルオロブチレート、エチルヘプタフルオロブチルアセテート、エチルヘキサフルオログルタリルメチル、エチル−3−ヒドロキシ−4,4,4−トリフルオロブチレート、エチル−2−メチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート、エチルペンタフルオロベンゾエート、エチルペンタフルオロプロピオネート、エチルペンタフルオロプロピニルアセテート、エチルパーフルオロオクタノエート、エチル−4,4,4−トリフルオロアセトアセテート、エチル−4,4,4−トリフルオロブチレート、エチル−4,4,4−トリフルオロクロトネート、エチルトリフルオロスルホネート、エチル−3−(トリフルオロメチル)ブチレート、エチルトリフルオロピルベート、S−エチルトリフルオロアセテート、フルオロシクロヘキサン、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロ−1−ブタノール、1,1,1,2,2,3,3−ヘプタフルオロ−7,7−ジメチル−4,6−オクタンジオン、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン−2,4−ジオン、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−2−ペンタノール、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−2−ペンタノン、イソプロピル4,4,4−トリフルオロアセトアセテート、メチルパーフルオロデナノエート、メチルパーフルオロ(2−メチル−3−オキサヘキサノエート)、メチルパーフルオロノナノエート、メチルパーフルオロオクタノエート、メチル−2,3,3,3−テトラフルオロプロピオネート、メチルトリフルオロアセトアセテート、1,1,1,2,2,6,6,6−オクタフルオロ−2,4−ヘキサンジオン、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1−ペンタノール、1H,1H,2H,2H−パーフルオロ−1−デカノール、パーフルオロ(2,5−ジメチル−3,6−ジオキサンアニオニック)酸メチルエステル、2H−パーフルオロ−5−メチル−3,6−ジオキサノナン、1H,1H,2H,3H,3H−パーフルオロノナン−1,2−ジオール、1H,1H,9H−パーフルオロ−1−ノナノール、1H,1H−パーフルオロオクタノール、1H,1H,2H,2H−パーフルオロオクタノール、2H−パーフルオロ−5,8,11,14−テトラメチル−3,6,9,12,15−ペンタオキサオクタデカン、パーフルオロトリブチルアミン、パーフルオロトリヘキシルアミン、パーフルオロ−2,5,8−トリメチル−3,6,9−トリオキサドデカン酸メチルエステル、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオロトリプロピルアミン、1H,1H,2H,3H,3H−パーフルオロウンデカン−1,2−ジオール、トルフルオロブタノール1,1,1−トリフルオロ−5−メチル−2,4−ヘキサンジオン、1,1,1−トリフルオロ−2−プロパノール、3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノール、1,1,1−トリフルオロ−2−プロピルアセテート、パーフルオロブチルテトラヒドロフラン、パーフルオロ(ブチルテトラヒドロフラン)、パーフルオロデカリン、パーフルオロ(1,2−ジメチルシクロヘキサン)、パーフルオロ(1,3−ジメチルシクロヘキサン)、プロピレングリコールトリフルオロメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルトリフルオロメチルアセテート、トリフルオロメチル酢酸ブチル、3−トリフルオロメトキシプロピオン酸メチル、パーフルオロシクロヘキサノン、プロピレングリコールトリフルオロメチルエーテル、トリフルオロ酢酸ブチル、1,1,1−トリフルオロ−5,5−ジメチル−2,4−ヘキサンジオン、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロ−1−ブタノール、2−トリフルオロメチル−2−プロパノール,2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、3,3,3−トリフルオロ−1−プロパノール、4,4,4−トリフルオロ−1−ブタノール、などが挙げられ、これらの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができるが、これらに限定されるものではない。
まず、フォトレジスト層の上に非水溶性でかつアルカリ可溶性のレジスト保護膜(上層膜)材料をスピンコート法などで成膜する。膜厚は10〜500nmの範囲が好ましい。
露光方法は、レジスト保護膜と投影レンズの間が空気あるいは窒素などの気体であるドライ露光でもよいが、液体中で露光を行う液浸露光、好ましくはレジスト保護膜と投影レンズ間が液体で満たされている液浸露光でもよい。液浸露光では水が好ましく用いられる。180〜250nmの範囲の露光波長が好ましい。液浸露光において、ウエハー裏面への水の回り込みや、基板からの溶出を防ぐために、ウエハーエッジや裏面のクリーニングの有無、及びそのクリーニング方法は重要である。例えばレジスト保護膜をスピンコート後に40〜130℃の範囲で10〜300秒ベークすることによって溶媒を揮発させる。レジストや、ドライ露光の場合はスピンコート時にエッジクリーニングを行うが、液浸露光の場合、親水性の高い基板面が水に接触すると、エッジ部分の基板面に水が残ることがあり、好ましいことではない。そのためレジスト保護膜のスピンコート時にはエッジクリーニングをしない方法が挙げられる。
露光後、ポストエクスポジュアーベーク(PEB)を行い、アルカリ現像液で10〜300秒現像を行う。アルカリ現像液は2.38質量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液が一般的に広く用いられており、プロセス簡略化のメリット等の点から好ましくは本発明のレジスト保護膜の剥離とレジスト膜の現像を同時に行う。PEB前に、レジスト保護膜上に水が残っている場合がある。水が残っている状態でPEBを行うと、水が保護膜を通過しレジスト中の酸と共沸脱水を起こしてしまい、パターン形成ができなくなる。PEB前に保護膜上の水を完全に除去するため、PEB前のスピンドライ、保護膜表面の乾燥空気や窒素によるパージ、あるいは露光後のステージ上の水回収ノズル形状や水回収プロセスの最適化などによって保護膜上の水を乾燥あるいは回収する必要がある。更に、本発明に示される撥水性が高く、滑水性に優れるレジスト保護膜は、水回収性に優れている特徴がある。
また、合成例で使用したモノマー1〜13の構造式を下記に示す。
200mLのフラスコにモノマー1を38.7g、モノマー7を6.7g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー1とした。
200mLのフラスコにモノマー1を38.7g、モノマー3を12.3g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー2とした。
200mLのフラスコにモノマー2を30.3g、モノマー8を7.7g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー3とした。
200mLのフラスコにモノマー2を30.3g、モノマー3を12.3g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー4とした。
200mLのフラスコにモノマー2を30.3g、モノマー4を5.5g、モノマー5を11g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー5とした。
200mLのフラスコにモノマー2を26.0g、モノマー6を1.4g、モノマー5を22g溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー6とした。
200mLのフラスコにモノマー1を22.1g、モノマー10を10.6g、モノマー4を11g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー7とした。
200mLのフラスコにモノマー2を17.3g、モノマー10を10.6g、モノマー4を11g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー8とした。
200mLのフラスコにモノマー1を38.7g、モノマー9を14g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー9とした。
200mLのフラスコにモノマー2を30.3g、モノマー9を14g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー10とした。
200mLのフラスコにモノマー11を35.0g、モノマー12を4.5g、モノマー13を2.5g、溶媒としてメタノールを60g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー11とした。
200mLのフラスコにモノマー11を35.0g、モノマー12を9.0g、溶媒としてメタノールを60g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー12とした。
200mLのフラスコにモノマー11を35.0g、モノマー13を5.0g、溶媒としてメタノールを60g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー13とした。
200mLのフラスコにモノマー11を15.0g、モノマー12を12.0g、モノマー13を5.0g、溶媒としてメタノールを60g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー14とした。
200mLのオートクレーブにモノマー4を10.9g、モノマー1.9g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、テトラフルオロエチレンガスを6.0g、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、45℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー15とした。
200mLのオートクレーブにモノマー14を9.7g、モノマー2.9g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、テトラフルオロエチレンガスを6.0g、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、45℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー16とした。
200mLのフラスコにモノマー1を22.1g、モノマー10を10.6g、モノマー14を11g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー17とした。
200mLのフラスコにモノマー2を17.3g、モノマー10を10.6g、モノマー14を11g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー18とした。
200mLのフラスコにモノマー1を38.7g、モノマー15を9.4g、溶媒としてメタノールを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素フローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤として2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を3g加え、65℃まで昇温後、25時間反応させた。この反応溶液をヘキサンに晶出させて樹脂を単離した。得られた樹脂の組成は1H−NMR、分子量はGPCで確認し、実施例ポリマー19とした。
ヘキサメチルジシラザン(HMDS)処理したシリコンウエハー上にレジスト保護膜溶液を塗布し、100℃で60秒間ベークして厚さ50nmのレジスト保護膜を作製した。
次に、上記方法でレジスト保護膜を形成したウエハーを純水で5分間リンスし、膜厚の変動を観察した。結果を表1に示す。
保護膜無しで露光、純水リンス、PEB、現像、また露光後純水リンスを行わない通常のプロセスも行った。
ウエハーを割断し、75nmラインアンドスペースのパターン形状、感度を比較した。結果を表6に示す。
ウエハーを割断し、75nmラインアンドスペースのパターン形状、感度を比較した。結果を表7に示す。
Claims (9)
- フッ素原子を1個以上含有するフッ素含有アルキル基もしくはフッ素含有アルキレン基を有する繰り返し単位とアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーと、フッ素原子を含まないアルキル基を有する繰り返し単位とアルカリ溶解性の繰り返し単位を含むポリマーとのブレンドを含有するレジスト保護膜材料。
- 上記フッ素含有アルキル基を有する繰り返し単位が、下記式(1)の繰り返し単位A1とA2とA3からなる群から選択され、上記フッ素含有アルキレン基の繰り返し単位がA4から選択され、上記フッ素原子を含まないアルキル基を有する繰り返し単位が、下記式(2)の繰り返し単位B1とB2とB3からなる群から選択される請求項1に記載のレジスト保護膜材料。
- 上記フッ素含有アルキル基が、パーフルオロアルキル基又はトリフルオロメチル基がジフルオロメチル基で置き換えられた置換パーフルオロアルキル基である請求項1又は請求項2に記載のレジスト保護膜材料。
- 上記ポリマーが一種類であれば該ポリマーを、上記ポリマーが二種類以上であれば全ポリマーを溶解する溶媒を更に含有する請求項1〜4のいずれかに記載のレジスト保護膜材料。
- ウエハーに形成したフォトレジスト層上に請求項1〜5のいずれかに記載の保護膜材料を用いる保護膜形成工程と、その後の露光工程と現像工程を含んでなるパターン形成方法。
- 上記露光工程が、液体中で露光を行う請求項6に記載のパターン形成方法。
- 上記露光工程が、180〜250nmの範囲の露光波長を用い、投影レンズとウエハーの間に液体を挿入させたものである請求項7に記載のパターン形成方法。
- 上記現像工程が、アルカリ現像液により上記フォトレジスト層の現像と上記保護膜の剥離とを同時に行う請求項6〜8のいずれかに記載のパターン形成方法。
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