JP4647660B2 - 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(5) - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 99
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 91
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 82
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 34
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 claims description 32
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 19
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 19
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 17
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 17
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 16
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 12
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 6
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 48
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 45
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 23
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 21
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 21
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 21
- BZHGXQBPJUHVFW-UHFFFAOYSA-N toluene;tritert-butylphosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C BZHGXQBPJUHVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 12
- -1 phenatrene group Chemical group 0.000 description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 12
- 0 C*[C@@](Cc(cc1)ccc1OC)c1ccc(C(C*c2c(cccc3)c3ccc2)Cc2cccc(-c3ccccc3)c2)cc1 Chemical compound C*[C@@](Cc(cc1)ccc1OC)c1ccc(C(C*c2c(cccc3)c3ccc2)Cc2cccc(-c3ccccc3)c2)cc1 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 8
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- DMVOXQPQNTYEKQ-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-amine Chemical group C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC=C1 DMVOXQPQNTYEKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010753 arylamine synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IUXIPAVGALBLKZ-UHFFFAOYSA-N C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1.C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1.C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 IUXIPAVGALBLKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RBPQKCJTCHSTME-UHFFFAOYSA-N C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1.C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1.C1=CC(Cl)=CC=C1C1=CC=CC=C1 RBPQKCJTCHSTME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- OIRHKGBNGGSCGS-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-iodobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1I OIRHKGBNGGSCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYKJPLLUCCMVTQ-UHFFFAOYSA-N 1-n-naphthalen-1-yl-4-n,4-n-diphenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC(C=C1)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FYKJPLLUCCMVTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate Chemical compound CC(C)(C)[O-] SDTMFDGELKWGFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHTFOSXZFARDHG-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 DHTFOSXZFARDHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTGAZQFTIUXRM-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 GDTGAZQFTIUXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Chemical group 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- CAYQIZIAYYNFCS-UHFFFAOYSA-N (4-chlorophenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=C(Cl)C=C1 CAYQIZIAYYNFCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCARZDHUIEYMB-UHFFFAOYSA-N 2-bromofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Br)=CC=C3C2=C1 MTCARZDHUIEYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylphenyl)aniline Chemical group CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1C WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-phenylaniline Chemical group CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1 JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6,9,10-hexazatetracyclo[12.4.0.02,7.08,13]octadeca-1(18),2(7),3,5,8(13),9,11,14,16-nonaene Chemical group N1=NN=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=NN=C3C2=N1 DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQTLUXJWUCHKMT-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-n,n-diphenylaniline Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SQTLUXJWUCHKMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXMJQSOVEHEFDX-UHFFFAOYSA-N CN(c(cc1)ccc1-c(cc1)ccc1N(c1ccccc1)c1c(cccc2)c2ccc1)c1cccc(C#N)c1 Chemical compound CN(c(cc1)ccc1-c(cc1)ccc1N(c1ccccc1)c1c(cccc2)c2ccc1)c1cccc(C#N)c1 FXMJQSOVEHEFDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical group C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOCKNRUZEXPOJX-UHFFFAOYSA-N NC1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound NC1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YOCKNRUZEXPOJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000144 PEDOT:PSS Polymers 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- UNUOSDHJXFQGFC-UHFFFAOYSA-N aniline;n-phenyl-n-(4-phenylphenyl)naphthalen-1-amine Chemical compound NC1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=C1 UNUOSDHJXFQGFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N n-Butyllithium Substances [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002371 ultraviolet--visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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XはCまたはSiであり、
Aは
aは0または1以上の整数であり、
Yは結合や2価の芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された2価の芳香族炭化水素;2価の複素環基;またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された2価の複素環基であり、
Y1およびY2は2価の芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価の芳香族炭化水素;2価のヘテロ環基;またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価のヘテロ環基であり、
Z1〜Z4は各々独立的に各々、水素;炭素数1−20の脂肪族炭化水素;芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された芳香族炭化水素;芳香族炭化水素で置換されたシリコン基;複素環基;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された複素環基;炭素数1−20の炭化水素または炭素数6−20の芳香族炭化水素で置換されたチオフェン基;または芳香族炭化水素で置換されたホウ素基であり、
R1〜R11は、各々独立的に水素、置換または非置換されたアルキル基、置換または非置換されたアルコキシ基、置換または非置換されたアルケニル基、置換または非置換されたアリール基、置換または非置換されたアリールアミン基、置換または非置換された複素環基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、ハロゲン基、アミド基またはエステル基であって、ここで、これらは互いに隣接する基と脂肪族またはヘテロの縮合環を形成することができ、
R12〜R15は各々独立的に水素、置換または非置換されたアルキル基、置換または非置換されたアルコキシ基、置換または非置換されたアルケニル基、置換または非置換されたアリール基、置換または非置換された複素環基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、ハロゲン基、アミド基またはエステル基であり、ここで彼らは互いに隣接する基と脂肪族またはヘテロの縮合環を形成できて、
また、R7とR8は直接連結するか、O、S、NR、PR、C=O、CRR’およびSiRR’からなる群より選択される基と共に縮合環を形成することができ、ここでRおよびR’は各々独立的にまたは同時に水素、置換または非置換されたアルキル基、置換または非置換されたアルコキシ基、置換または非置換されたアルケニル基、置換または非置換されたアリール基、置換または非置換されたアリールアミン基、置換または非置換された複素環基、ニトリル基、アミド基またはエステル基であって、ここで、RとR’は縮合環を形成してスピロ化合物を形成することができる。
Aは化学式1で定義したものと同一である。
カルバゾール(carbazole、1.672g、10mmol)、1−ブロモ−2−ヨードベンゼン(1−bromo−2−iodobenzene、1.5ml、12mmol)、炭酸カリウム(K2CO3、2.7646g、20mmol)、ヨウ化銅(CuI、95mg、0.5mmol)およびキシレン25mlを窒素の雰囲気下で還流(reflux)した。常温に冷却した後に生成物をエチルアセテートで抽出し、無水硫酸マグネシウム(MgSO4)によって水分を除去した後に減圧下において溶媒を除去した。ヘキサン溶媒を用いてシリカゲルコラムを通過させ、化合物を得た後、溶媒を減圧下において除去し、真空乾燥させて所望する白色固体の前記化合物(800mg、25%収率)を得た。MS:[M+H]+=323。
化学式aとして示される出発物質4.19g(13mmol)を精製したTHF 50mlに溶かした後、−78℃でn−BuLi(2.5 M in hexane)4.8ml(12mmol)をゆっくり滴加した。同一温度で45分間攪拌した後、2−ブロモ−9−フルオレノン2.59g(10.0mmol)を加えた。同一温度で一時間攪拌した後、常温に温度を上げて2時間さらに攪拌した後、NH4Cl水溶液で反応を終了した。エチルエーテルを加えて有機物を抽出した後、水を除去して有機溶媒を除去し、黄色固体を得た。得られた固体をエタノールに分散させた後、攪拌した後に濾過し、真空乾燥して4.5gの中間体を得た。得られた固体を40mlのアセト酸に分散させて濃い硫酸12滴を加えた後、3時間の間還流した。常温に冷却した後に得られた固体を濾過し、エタノールで洗った後に真空乾燥して3.98g(82.2%収率)の生成物を得た。MS:[M+H]+=484。
化学式bとして示される出発物質(5.0g、10.32mmol)をTHF 40mlに完全に溶かし、4−クロロ−フェニルボロン酸(2.42g、15.48mmol)、2M炭酸カリウム溶液、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(0.31mmol、0.36g)、エタノール10ml入れて24時間の間還流する。反応が終わった後に常温に冷却させて濾過する。水とエタノールで何度も洗う。エタノールで再結晶化して真空乾燥し、化合物(4.97g、収率93%)を得た。MS:[M+H]+=515。
1)化学式2−2として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−フェニルアミノ)フェニル−1−ナフチルアミン):4−ブロモフェニル−N−フェニル−N−フェニルアミン15.0g(46.3mmol)と1−ナフチルアミン7.29g(50.9mmol)をトルエン200mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム13.34g(138.8mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.53g(0.93mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.56ml(1.39mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(13g、収率73%)を得た。MS:[M+H]+=386。
2)化学式b 5.00g(10.3mmol)と4−(N−フェニル−N−フェニルアミノ)フェニル−1−ナフチルアミン4.78g(12.4mmol)をトルエン50mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム5.89g(61.3mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.12g(0.21mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.15ml(0.31mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=4/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−2化合物(4.3g、収率53%)を得た。MS:[M+H]+=789。
1)化学式2−256として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−フェニルアミン):4−クロロビフェニル−N、N−ジフェニルアミン4.00g(11.2mmol)とアニリン1.13ml(12.4mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.70g(28.1mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.13g(0.23mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.17ml(0.34mmol)を添加した後、5時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.8g、収率81%)を得た。MS:[M+H]+=413。
2)化学式b 3.62g(7.47mmol)と4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−フェニルアミン3.4g(8.2mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.09g(0.16mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−256化合物(3.5g、収率53%)を得た。MS:[M+H]+=817。
1)化学式2−257として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−ナフチルアミン):4−クロロビフェニル−N、N−ジフェニルアミン8.80g(24.7mmol)と1−ナフチルアミン5.31g(37.1mmol)をトルエン200mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム5.94g(61.8mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.43g(0.74mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.61ml(1.24mmol)を添加した後、5時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(7.0g、収率61%)を得た。MS:[M+H]+=413。
2)化学式b 3.62g(7.47mmol)と4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−ナフチルアミン3.8g(8.2mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.09g(0.16mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−257化合物(3.5g、収率54%)を得た。MS:[M+H]+=867。
1)化学式2−259として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−ビフェニルアミン):4−クロロビフェニル−N、N−ジフェニルアミン8.80g(24.7mmol)と4−アミノビフェニル6.28g(37.1mmol)をトルエン200mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム5.94g(61.8mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.43g(0.74mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.61ml(1.24mmol)を添加した後、5時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(7.0g、収率58%)を得た。MS:[M+H]+=489。
2)化学式b 3.62g(7.47mmol)と4−(N、N−ジフェニルアミノ)−ビフェニル−N−ビフェニルアミン4.0g(8.2mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.09g(0.16mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−259化合物(3.5g、収率53%)を得た。MS:[M+H]+=893。
1)化学式2−273として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N−フェニルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ナフチルアミン4.08g(10.1mmol)とアニリン1.38ml(15.1mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.90g(30.2mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.17g(0.30mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.26ml(0.53mmol)を添加した後、7時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.8g、収率82%)を得た。MS:[M+H]+=463。
2)化学式b 3.13g(6.47mmol)と4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N−フェニルアミン3.3g(7.1mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.08g(0.14mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−273化合物(2.5g、収率45%)を得た。MS:[M+H]+=867。
1)化学式274として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N−ナフチルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ナフチルアミン4.08g(10.1mmol)と1−ナフチルアミン2.16g(15.1mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.90g(30.2mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.17g(0.30mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.26ml(0.53mmol)を添加した後、7時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.8g、収率74%)を得た。MS:[M+H]+=513。
2)化学式b 3.62g(7.47mmol)と4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N−ナフチルアミン3.8g(7.4mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.089g(0.16mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−274化合物(3.0g、収率44%)を得た。MS:[M+H]+=917。
1)化学式276として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N’−ビフェニルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ナフチルアミン4.08g(10.1mmol)と4−アミノビフェニル2.55g(15.1mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.90g(30.2mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.17g(0.30mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.26ml(0.53mmol)を添加した後、7時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.8g、収率70%)を得た。MS:[M+H]+=539。
2)化学式b 3.13g(6.47mmol)と4−(N−フェニル−N−ナフチルアミノ)−ビフェニル−N’−ビフェニルアミン3.8g(7.1mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.081g(0.14mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−276化合物(2.5g、収率41%)を得た。MS:[M+H]+=943。
1)化学式307として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−フェニルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ビフェニルアミン4.86g(11.2mmol)とアニリン1.13ml(12.4mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.70g(28.1mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.13g(0.23mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.17ml(0.34mmol)を添加した後、7時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.8g、収率69%)を得た。MS:[M+H]+=489。
2)化学式b 3.13g(6.47mmol)と4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−フェニルアミン3.5g(7.1mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.081g(0.14mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−307化合物(2.6g、収率45%)を得た。MS:[M+H]+=893。
1)化学式308として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−ナフチルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ビフェニルアミン4.86g(11.2mmol)と1−ナフチルアミン1.78ml(12.4mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.70g(28.1mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.13g(0.23mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.17ml(0.34mmol)を添加した後、7時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(4.0g、収率69%)を得た。MS:[M+H]+=539。
2)化学式b 3.13g(6.47mmol)と4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−ナフチルアミン3.8g(7.1mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.081g(0.14mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.11ml(0.22mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−308(3.1g、収率51%)を得た。MS:[M+H]+=943。
1)化学式310として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−ビフェニルアミン):4−クロロビフェニル−N−フェニル−N−ビフェニルアミン4.86g(11.2mmol)と4−アミノビフェニル2.09ml(12.4mmol)をトルエン100mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム2.70g(28.1mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.13g(0.23mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.17ml(0.34mmol)を添加した後、5時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=10/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥してアリールアミン連結基(3.6g、収率56%)を得た。MS:[M+H]+=565。
2)化学式b 2.92g(6.02mmol)と4−(N−フェニル−N−ビフェニルアミノ)−ビフェニル−N’−ビフェニルアミン3.57g(6.32mmol)をトルエン40mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.94g(22.4mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.073g(0.13mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.10ml(0.19mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=8/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式2−310化合物(2.5g、収率43%)を得た。MS:[M+H]+=969。
1)化学式3−2として示される化合物を製造するためのアリールアミン合成(4−(N−フェニル−N−フェニルアミノ)フェニル−1−ナフチルアミン):化学式2−2化合物アリールアミン連結体と同一の合成法。
2)化学式c 4.97g(9.63mmol)と4−(N−フェニル−N−フェニルアミノ)フェニル−1−ナフチルアミン5.58g(12.4mmol)をトルエン50mlに溶解させ、tert−ブトキシドナトリウム1.85g(19.3mmol)、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム(0)0.11g(0.19mmol)、50wt%トリ−tert−ブチルホスフィントルエン溶液0.14ml(0.29mmol)を添加した後、2時間の間窒素気流下で還流した。反応溶液に蒸溜水を入れて反応を終了させて有機層を抽出した。ノルマルヘキサン/テトラヒドロフラン=4/1溶媒でコラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後、真空乾燥して化学式3−2化合物(4.5g、収率54%)を得た。MS:[M+H]+=865。
上記のように準備されたITO透明電極の上に下記化学式の化合物であるヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン(hexanitrile hexaazatriphenylene:以下、HATという)を500Åの厚さで熱真空蒸着してITO導電層およびN型有機物を有する陽極を形成した。
前記実施例12のような方法で準備されたITO基板上にHATを80Åの厚さで蒸着して薄膜を形成した。この薄膜によって、基板と正孔注入層との間の界面特性を向上させることができる。続いて、前記薄膜上に下記化学式の化合物2−2を800Åの厚さで蒸着して正孔注入層を形成した。
前記実施例13で正孔輸送層として2−2の代わりに2−256を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−257を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−259を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−273を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−274を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−276を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−307を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−308を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに2−310を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
前記実施例12で正孔輸送層として2−2の代わりに3−2を用いたことを除いた他の条件が実施例12と同一に素子を製作した。
Claims (6)
- 有機発光素子であって、
第1電極と、発光層と、1層以上の有機物層と、および第2電極とを備えてなり、
前記有機物層中の1層以上が下記化学式1の化合物、又は熱硬化性若しくは光硬化性の官能基が導入された下記化学式1の化合物を含んでなる、有機発光素子。
XはCであり、
Aは
aは0または1以上の整数であり、
Yは、2価の芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価の芳香族炭化水素;2価のヘテロ環基;またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価のヘテロ環基であり、
Y1およびY2は2価の芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価の芳香族炭化水素;2価のヘテロ環基;またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群より選択される1つ以上の置換基によって置換された2価のヘテロ環基であり、
Z1〜Z4は各々独立的に各々、水素;炭素数1−20の脂肪族炭化水素;芳香族炭化水素;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された芳香族炭化水素;芳香族炭化水素で置換されたシリコン基;複素環基;ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群より選択される1つ以上の置換基で置換された複素環基;炭素数1−20の炭化水素または炭素数6−20の芳香族炭化水素で置換されたチオフェン基;または芳香族炭化水素で置換されたホウ素基であり、
R1〜R11は、各々独立的に水素、置換または非置換されたアルキル基、置換または非置換されたアルコキシ基、置換または非置換されたアルケニル基、置換または非置換されたアリール基、置換または非置換されたアリールアミン基、置換または非置換された複素環基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、ハロゲン基、アミド基またはエステル基であって、ここで、これらは互いに隣接する基と脂肪族またはヘテロの縮合環を形成することができ、
R12〜R15は各々独立的に水素、置換または非置換されたアルキル基、置換または非置換されたアルコキシ基、置換または非置換されたアルケニル基、置換または非置換されたアリール基、置換または非置換された複素環基、アミノ基、ニトリル基、ニトロ基、ハロゲン基、アミド基またはエステル基である。] - 前記有機物層が正孔輸送層を含んでなり、
該正孔輸送層が前記化学式1の化合物、または熱硬化性若しくは光硬化性の官能基が導入された前記化学式1の化合物を含んでなる、請求項1に記載の有機発光素子。 - 前記有機物層が正孔注入層を含んでなり、
該正孔注入層が前記化学式1の化合物、または熱硬化性若しくは光硬化性の官能基が導入された前記化学式1の化合物を含んでなる、請求項1に記載の有機発光素子。 - 前記有機物層が正孔注入と正孔輸送を同時に兼ね備えて成る層を含んでなり、
該層が前記化学式1の化合物、または熱硬化性若しくは光硬化性の官能基が導入された前記化学式1の化合物を含んでなる、請求項1に記載の有機発光素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20040077245 | 2004-09-24 | ||
PCT/KR2005/003177 WO2006080644A1 (en) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | New compound and organic light emitting device using the same(5) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008511160A JP2008511160A (ja) | 2008-04-10 |
JP4647660B2 true JP4647660B2 (ja) | 2011-03-09 |
Family
ID=36740637
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007529726A Active JP4782131B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(3) |
JP2007529728A Active JP4647660B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(5) |
JP2007529727A Active JP4782132B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(4) |
JP2007529724A Active JP4642849B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(1) |
JP2007529725A Active JP4813487B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(2) |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007529726A Active JP4782131B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(3) |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007529727A Active JP4782132B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(4) |
JP2007529724A Active JP4642849B2 (ja) | 2004-09-24 | 2005-09-23 | 新しい有機発光素子材料およびこれを用いた有機発光素子(1) |
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Country Status (8)
Country | Link |
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US (5) | US7838129B2 (ja) |
EP (5) | EP1794256B1 (ja) |
JP (5) | JP4782131B2 (ja) |
KR (5) | KR100645032B1 (ja) |
CN (5) | CN101006157B (ja) |
DE (5) | DE602005023499D1 (ja) |
TW (5) | TWI279431B (ja) |
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- 2005-09-23 DE DE602005023499T patent/DE602005023499D1/de active Active
- 2005-09-23 US US11/660,761 patent/US7838129B2/en active Active
- 2005-09-23 EP EP05856359A patent/EP1794256B1/en active Active
- 2005-09-23 WO PCT/KR2005/003177 patent/WO2006080644A1/en active Application Filing
- 2005-09-23 JP JP2007529726A patent/JP4782131B2/ja active Active
- 2005-09-23 EP EP05856362A patent/EP1791929B1/en active Active
- 2005-09-23 DE DE602005023320T patent/DE602005023320D1/de active Active
- 2005-09-23 TW TW094133217A patent/TWI279431B/zh active
- 2005-09-23 US US11/659,091 patent/US7799441B2/en active Active
- 2005-09-23 US US11/661,391 patent/US7892658B2/en active Active
- 2005-09-23 JP JP2007529728A patent/JP4647660B2/ja active Active
- 2005-09-23 KR KR1020050088887A patent/KR100645032B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-23 DE DE602005023322T patent/DE602005023322D1/de active Active
- 2005-09-23 US US11/660,785 patent/US7842405B2/en active Active
- 2005-09-23 KR KR1020050088885A patent/KR100671866B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-23 KR KR1020050088889A patent/KR100645030B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-23 CN CN2005800280162A patent/CN101006157B/zh active Active
- 2005-09-23 CN CN200580029230XA patent/CN101010410B/zh active Active
- 2005-09-23 WO PCT/KR2005/003174 patent/WO2006080641A1/en active Application Filing
- 2005-09-23 WO PCT/KR2005/003173 patent/WO2006080640A1/en active Application Filing
- 2005-09-23 CN CNB2005800271110A patent/CN100570921C/zh active Active
- 2005-09-23 CN CN2005800291970A patent/CN101010409B/zh active Active
- 2005-09-23 JP JP2007529727A patent/JP4782132B2/ja active Active
- 2005-09-23 WO PCT/KR2005/003175 patent/WO2006080642A1/en active Application Filing
- 2005-09-23 JP JP2007529724A patent/JP4642849B2/ja active Active
- 2005-09-23 TW TW094133221A patent/TWI275628B/zh active
- 2005-09-23 EP EP05856361A patent/EP1794258B1/en active Active
- 2005-09-23 WO PCT/KR2005/003176 patent/WO2006080643A1/en active Application Filing
- 2005-09-23 DE DE602005026027T patent/DE602005026027D1/de active Active
- 2005-09-23 US US11/658,770 patent/US7842404B2/en active Active
- 2005-09-23 EP EP05856358A patent/EP1926795B1/en active Active
- 2005-09-23 EP EP05856360A patent/EP1794257B1/en active Active
- 2005-09-23 KR KR1020050088884A patent/KR100671862B1/ko active IP Right Grant
- 2005-09-23 DE DE602005026064T patent/DE602005026064D1/de active Active
- 2005-09-23 JP JP2007529725A patent/JP4813487B2/ja active Active
- 2005-09-23 TW TW094133216A patent/TWI306449B/zh active
- 2005-09-23 TW TW094133222A patent/TWI328604B/zh active
- 2005-09-23 CN CN2005800290018A patent/CN101010407B/zh active Active
- 2005-09-23 TW TW094133224A patent/TWI299053B/zh active
- 2005-09-23 KR KR1020050088886A patent/KR100645052B1/ko active IP Right Grant
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JP5128610B2 (ja) | 新規な化合物およびこれを用いた有機発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132 Effective date: 20080912 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081212 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090108 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090224 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090624 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20091006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100507 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100805 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100812 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20100907 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20100914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101112 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101208 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4647660 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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