JP4633428B2 - 結晶化装置、結晶化方法、デバイス、および位相変調素子 - Google Patents
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前記光変調光学系と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板(5)との間に設けられた結像光学系(4)とを備え、
前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記結像光学系を介し前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置を提供する。この場合、前記第1素子のパターンと前記第2素子のパターンとが対面していることが好ましい。
前記素子と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系(4)とを備え、
前記合成パターンにより前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記結像光学系を介し前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置を提供する。この場合、前記光強度勾配分布を形成するパターンおよび前記光強度最小分布を形成するパターンはともに位相変調パターンであり、前記合成パターンの位相変調量は前記光強度勾配分布を形成するパターンの位相変調量と前記光強度最小分布を形成するパターン位相変調量との和に対応していることが好ましい。
前記光変調光学系と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系(4)を介して、前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化方法を提供する。
前記素子と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系(4)を介して、前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化方法を提供する。
前記パターンは、互いに位相値の異なる3種類以上の帯状領域を有し、互いに隣接する2つの帯状領域の位相値の差は一方向に向かって符号を含めてほぼ等しい値を有する位相変調素子を提供する。
最小寸法が所定の寸法よりも小さく且つ第1の位相値を有する第1領域と第2の位相値を有する第2領域とを有し、前記第1領域と前記第2領域との占有面積率が位置によって変化する位相分布を有し、
前記パターンは、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分では前記底に平行な方向に沿って延びる直線状領域を有し、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分から離れた部分では孤立領域を有する位相変調素子を提供する。
図1は、本発明の第1実施形態にかかる結晶化装置の構成を概略的に示す図である。また、図2は、図1の照明系の内部構成を概略的に示す図である。図1および図2を参照して説明する。第1実施形態の結晶化装置は、入射光に所望する光強度勾配分布の光学的パターンを形成する第1位相変調素子1と、逆ピーク状の光強度最小分布を形成するパターンを有する第2位相変調素子2とを備えている。第1位相変調素子1および第2位相変調素子2のパターン構成については後述する。
U(x,y)=T(x,y)*ASF(x,y)・・・(1)
T=T0eiφ(x,y)・・・(2)
ASF(x,y) ∝ 2J1(2π/λ・NA・r)/(2π/λ・NA・r)・・(3)
ただし、r=(x2+y2)1/2
R/2=0.61λ/NA (4)
2,12,22 第2位相変調素子
3 照明系
3a KrFエキシマレーザ光源
3b ビームエキスパンダ
3c,3e フライアイレンズ
3d,3f コンデンサー光学系
4 結像光学系
4c 開口絞り
5 被処理基板
6 基板ステージ
7,17 第3位相変調素子
Claims (16)
- レーザ光源と、
このレーザ光源からのレーザ光の入射位置に設けられたV字型パターンの光強度勾配分布を形成する第1位相変調素子と逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2位相変調素子とを有する光変調光学系と、
この光変調光学系と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系とを備え、
前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記結像光学系を介し前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 前記第1位相変調素子は、前記光強度勾配分布を形成する第1パターンを有し、前記第2位相変調素子は、前記光強度最小分布を形成する第2パターンを有し、それぞれのパターンが対面している請求項1に記載の結晶化装置。
- レーザ光源と、
このレーザ光源からのレーザ光の入射位置に設けられたV字型パターンの光強度勾配分布を形成する第1パターンと逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2パターンとが合成された合成パターンを有する位相変調素子と、
前記位相変調素子と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系とを備え、
前記合成パターンにより前記光強度勾配分布と前記光強度最小分布が形成された入射光を前記結像光学系を介し前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 前記光強度勾配分布を形成する第1パターンは、最小寸法が前記結像光学系の点像分布範囲の半径よりも光学的に小さく且つ第1の位相値を有する第1領域と、第2の位相値を有する第2領域とを有し、前記第1領域と前記第2領域との占有面積率が位置によって変化する位相分布を有する請求項3に記載の結晶化装置。
- 前記光強度勾配分布は、少なくとも一部にV字型の光強度分布を有するものであり、前記光強度勾配分布を形成する第1パターンは、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分では前記底に平行な方向に沿って延びる直線状領域を有し、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分から離れた部分では孤立領域を有する請求項4に記載の結晶化装置。
- 前記逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2パターンは、前記光強度勾配分布における光強度の勾配方向に沿って延びる複数の帯状領域を有し、互いに隣接する帯状領域は互いに異なる位相値を有する請求項3に記載の結晶化装置。
- 前記複数の帯状領域は、互いに位相値の異なる3種類以上の帯状領域を有し、互いに隣接する2つの帯状領域の位相値の差は一方向に向かって符号を含めて等しい値を有する請求項6に記載の結晶化装置。
- 前記逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2パターンは、互いに位相値の異なる3種類以上の領域を有し、これら領域は所定の点において互いに隣接する形態を有する請求項3に記載の結晶化装置。
- 前記結像光学系は、中央よりも周辺において小さい瞳関数を有する請求項1乃至8のいずれか1項に記載の結晶化装置。
- 入射レーザ光により、V字型パターンの光強度勾配分布を形成する第1位相変調素子と逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2位相変調素子とを有する光変調光学系を照明し、
前記光変調光学系と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系を介して、前記V字型パターンの光強度勾配分布と前記逆ピーク状パターンの光強度最小分布との合成光強度分布を前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射してラテラル方向に結晶成長させた結晶化半導体膜を生成する結晶化方法。 - 入射レーザ光により、V字型パターンの光強度勾配分布を形成する第1パターンと、逆ピーク状パターンの光強度最小分布を形成する第2パターンとの合成パターンを有する光変調光学系を照明し、
前記光変調光学系と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられた結像光学系を介して、前記V字型パターンの光強度勾配分布と前記逆ピーク状パターンの光強度最小分布との合成光強度分布を前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射してラテラル方向に結晶成長させた結晶化半導体膜を生成する結晶化方法。 - 前記逆ピーク状パターンの光強度最小分布の光強度の最も小さい位置を、前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜の予め定められた位置に近づけて、前記光変調光学系の透過光を前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に照射することにより前記光強度の最も小さい位置に結晶成長の開始点を形成し、結晶成長の開始点から前記V字型パターンの光強度勾配分布における光強度の勾配方向に沿ってラテラル方向に結晶成長させることを特徴とする請求項10又は11記載の結晶化方法。
- 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の結晶化装置または請求項10乃至12のいずれか1項に記載の結晶化方法を用いて製造されるデバイス。
- 入射光に、逆ピーク状の光強度最小分布を形成するパターンを有する位相変調素子であって、
前記パターンは、互いに位相値の異なる3種類以上の帯状領域を有し、互いに隣接する2つの帯状領域の位相値の差は一方向に向かって符号を含めて等しい値を有する位相変調素子。 - 入射光に、V字型の光強度分布を形成するパターンを有する位相変調素子であって、
前記位相変調素子とともに用いられる結像光学系の点像分布範囲の半径よりも最小寸法が小さく且つ第1の位相値を有する第1領域と第2の位相値を有する第2領域とを有し、前記第1領域と前記第2領域との占有面積率が位置によって変化する位相分布を有し、
前記パターンは、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分では前記底に平行な方向に沿って延びる直線状領域を有し、前記V字型の光強度分布の底に対応する部分から離れた部分では孤立領域を有する位相変調素子。 - レーザ光源と、
このレーザ光源からのレーザ光の入射位置に設けられたV字型パターンの光強度勾配分布を形成する第1位相変調素子と逆ピーク状の光強度最小分布を形成する第2位相変調素子とを有する光学素子と、
前記光学素子と多結晶半導体膜または非晶質半導体膜を有する基板との間に設けられ、中央よりも周辺において小さい瞳関数を有する結像光学系とを備え、
前記結像光学系により前記多結晶半導体膜または前記非晶質半導体膜に前記V字型パターンの光強度勾配分布および前記逆ピーク状の光強度最小分布の合成されたレーザ光が結像されて結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。
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