JP4615283B2 - 半導体デバイスの特性測定方法 - Google Patents
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Description
図4は、この場合の測定状況を示す概略図である。この図に示すように、複数の半導体チップ1をバー状に連結させて切り出したチップ列2をステージ3上に載置し、半導体チップ1の裏面からステージ3へ電流を流し得るようにしている。
チップ列2の側面からは光が出てくるが、光の測定に関する部分は省略している。(例えば特許文献1および2参照)。
以下、この発明の実施の形態1を図にもとづいて説明する。図1は、実施の形態1による測定方法を説明する概略平面図で、(a)は所定の半導体チップの測定状態を示す説明図、(b)は所定の半導体チップに隣接する半導体チップの測定状態を示す説明図である。
次に、この発明の実施の形態2を図にもとづいて説明する。図2は、実施の形態2による測定方法を説明する概略斜視図である。この図において、図4、図1と同一または相当部分には同一符号を付して説明を省略する。
また、測定の際には、毎回半導体チップ1Aの両側が押さえ付けられるため、チップ列2の裏面とステージ3との電気的接触は毎回良好に保たれる結果、測定を重ねていっても測定の再現性を保つことができる。
次に、この発明の実施の形態3を図にもとづいて説明する。図3は、実施の形態3による測定装置の構成を示す概略図である。
また、この実施の形態では、絶縁膜7の横方向の蛇行のピッチが均等になっているが、このようにすることによりチップバー設置の際の位置誤差の許容度を大きくすることができる。
Claims (3)
- 複数の半導体チップがバー状に連結されたチップ列をステージ上に載置し、上記チップ列の各半導体チップの電気的特性を測定する半導体デバイスの特性測定方法において、測定用のプローブ針を2組設け、1組のプローブ針を上記チップ列の所定の半導体チップの表面電極に接触させると共に、他の1組のプローブ針を絶縁膜で覆われた上記導体チップ間のダイシングエリアに接触させるようにしたことを特徴とする半導体デバイスの特性測定方法。
- 上記所定の半導体チップの特性測定時に所定の半導体チップの両側に位置する半導体チップを上記ステージに押さえ付けるようにしたことを特徴とする請求項1記載の半導体デバイスの特性測定方法。
- 上記所定の半導体チップの特性測定時に所定の半導体チップの両側に位置するダイシングエリアを上記ステージに押さえ付けるようにしたことを特徴とする請求項1記載の半導体デバイスの特性測定方法。
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