JP4614775B2 - 電気ヒューズ回路 - Google Patents

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Description

本発明は、電気ヒューズ素子に電流を導通させてその電気ヒューズ素子を溶断してプログラムする電気ヒューズ回路に関するものである。
従来、電気ヒューズ装置(電気ヒューズ回路)は、ポリシリコン等で形成された電気ヒューズ素子を用いて構成され、高周波半導体デバイスのトリミング用プログラムデバイス等の半導体集積回路(LSI)に広く使用されていた。このような電気ヒューズ装置を内蔵した半導体集積回路において、電気ヒューズ素子は、バイポーラトランジスタを用いて1アンペア程度の大電流を流して溶断することによりプログラムされている。
近年、半導体集積回路においては、ゲート材料としてポリシリコン上に金属材料をシリサイド化して形成し、ゲート材料を低抵抗化するプロセスが開発された。そこで、ゲート材料に電流を流すことにより、上面のシリサイド層を切断し、高抵抗化するような仕組みを利用した電気ヒューズ素子の技術が現れ出した。130nmや90nmプロセス世代では電気ヒューズ素子に電流を導通させて溶断する際に、溶断に必要な瞬時電流は、電気ヒューズ素子1個あたり10〜30ミリアンペアである。
このような電気ヒューズ装置を高周波デバイスのトリミングデバイス等で使用する場合、電気ヒューズ素子の搭載数は、システムLSI、1チップあたり、せいぜい4〜8個であるため、テスタを用いて同時に1回で溶断可能であった。
以上のように、半導体集積回路に使用されている従来の電気ヒューズ装置(例えば、特許文献1を参照)について、以下に説明する。
図9は従来から半導体集積回路に使用されている電気ヒューズ装置の構成例を示す回路図である。図9において、31は電気ヒューズ素子、32は電気ヒューズ素子31と直列に接続されたPMOSトランジスタ、33は出力をPMOSトランジスタのゲートに接続されたNAND回路である。
この電気ヒューズ装置の溶断動作について、以下に説明する。
NAND回路33にはプログラム信号が入力され、プログラム選択された電気ヒューズ素子31は、プログラム信号によりPMOS32がオンして電流が導通される。電気ヒューズ素子31は、シリサイドやポリシリコンもしくはメタルの微細パターンで形成され、所定の電流が導通されると熱溶断され、断線や抵抗上昇が発生する。これにより、プログラムされない初期の電気ヒューズ素子抵抗と、プログラムされ高抵抗化された電気ヒューズ素子の抵抗値を読み出すことで、信号状態0/1を認識することができる。このようにして電気ヒューズ装置を実現することができる。
特表平11−512879号(第31頁、第3図)
近年、システムLSIの大規模化に伴い、メモリの搭載数は増大している。メモリの搭載数が増加すると、それだけ欠陥のあるメモリセルが増加する。また、微細化が進むことで、その数もますます増加する傾向にある。それら欠陥のあるメモリを救済するために、従来からDRAMやSRAM等のRAMの冗長救済にはメタルヒューズが使われている。
ところが、最近、ポリ上のシリサイドを切断するタイプの電気ヒューズ素子が現れ、微少な電流で溶断できることからヒューズ素子の周囲への影響やダメージも小さく、電気ヒューズ装置の回路構成をメタルヒューズ並み、あるいはそれ以下の大きさで実現することができるようになった。そのため、電気ヒューズ装置は、高周波デバイスのトリミングデバイスとしてだけでなく、RAM冗長として使用することが可能となり、その需要はますます大きくなってきている。
ここで、システムLSIへ搭載するRAM冗長救済用の電気ヒューズ素子の搭載数は、1チップあたり、500〜1000個である。また、電気ヒューズ素子に電流を導通させて溶断する際に、溶断に必要な瞬時電流は、130nmや90nmプロセス世代では電気ヒューズ素子1個あたり10〜30ミリアンペアである。そのため、RAMの冗長救済用に電気ヒューズ装置を用いる場合、1000本の電気ヒューズ素子を1回でプログラムしようとすると、10アンペア程度の瞬時電流が必要となる。
しかしながら、既存の汎用テスタでは、上記のようなプログラムに対応して、10アンペアの電流を供給し、LSIチップ内部の電気ヒューズ装置へ10アンペアの電流を集中的に流すことは困難であり、専用のテスタが必要となる。
また、これに対して、電気ヒューズ装置として、1000個の電気ヒューズ回路ブロックを独立に持ち、各電気ヒューズ素子を順次1本ずつ溶断する仕組みとした場合でも、多数の制御端子を必要(電気ヒューズ回路ブロック1個当たり4個の制御端子を持つ場合、4000個の制御端子が必要)とするため、システムLSIへの搭載は不可能である。そのため、このような電気ヒューズ装置は、RAMの冗長救済用としてシステムLSIに搭載することができないという問題点を有していた。
本発明は、上記従来の問題点を解決するもので、例えばRAM冗長救済用などのように電気ヒューズ素子を多数必要とする場合でも、それらの電気ヒューズ素子を容易にLSI内部に搭載することができるとともに、既存の汎用テスタを用いて容易に多数の電気ヒューズ素子を溶断してプログラムすることができる電気ヒューズ回路を提供する。
上記の課題を解決するために、本発明の請求項1に記載の電気ヒューズ回路は、ヒューズ素子と前記ヒューズ素子に直列接続されたスイッチトランジスタとを持つ複数個のヒューズコアと、前記ヒューズ素子をプログラムするために前記複数個のヒューズコアに接続されたシフトレジスタとを有し、前記シフトレジスタは、前記プログラムを可能とするプログラムイネーブル信号を順次転送し、前記複数個のヒューズコアは、前記シフトレジスタからの前記プログラムイネーブル信号と前記プログラムのためのデータ情報に従って、前記スイッチトランジスタを順次導通し前記ヒューズ素子をプログラムする電気ヒューズ回路であって、前記シフトレジスタは、第1のCMOSゲート回路と、前記第1のCMOSゲート回路の出力が入力される第1のCMOSインバータ回路と、前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第1のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第1のトライステート型CMOSインバータ回路と、前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力される第2のCMOSゲート回路と、前記第2のCMOSゲート回路の出力が入力される第2のCMOSインバータ回路と、前記第2のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第2のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第2のトライステート型CMOSインバータ回路と、を備え、初段のシフトレジスタの第1のCMOSゲート回路に入力されたプログラムイネーブル信号を、プログラムクロック信号に同期して順次転送する構成としたことを特徴とする。
以上により、ヒューズ素子を、順次1本ずつ、あるいはテスタの電流供給能力以内の瞬時電流が流れる本数ごとに同時に溶断することができ、しかも、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
また、本発明の請求項2に記載の電気ヒューズ回路は、ヒューズ素子と前記ヒューズ素子に直列接続されたスイッチトランジスタとを持つ複数個のヒューズコアと、前記ヒューズ素子をプログラムするために前記複数個のヒューズコアに接続されたシフトレジスタとを有し、前記シフトレジスタは、その初段の入力がHあるいはLに固定され、その初段の入力をプログラムクロック信号に同期して順次伝達するDFF回路と、前記DFF回路がプログラムクロック信号に同期して、前記初段の入力を順次伝達する過程で生じる前記DFF回路の内部信号の変化をうけて、前記プログラムを可能とするプログラムイネーブル信号を生成するNOR回路とを有し、前記複数個のヒューズコアは、前記シフトレジスタからの前記プログラムイネーブル信号と前記プログラムのためのデータ情報に従って、前記スイッチトランジスタを順次導通し前記ヒューズ素子をプログラムする電気ヒューズ回路であって、前記DFF回路は、前段のシフトレジスタの出力を入力するマスター回路、および前記マスター回路の出力を入力とし、その入力した前記マスター回路の出力を次段のシフトレジスタへ出力するスレーブ回路からなり、前記プログラムイネーブル信号を生成する前記NOR回路は、初段のシフトレジスタの入力を順次伝達する過程で生じる前記マスター回路とスレーブ回路の出力信号の変化をうけて、1ショットのパルス波形である前記プログラムイネーブル信号を生成し、前記マスター回路は、第1のCMOSゲート回路と、前記第1のCMOSゲート回路の出力が入力される第1のCMOSインバータ回路と、前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第1のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第1のトライステート型CMOSインバータ回路と、からなり、前記スレーブ回路は、前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力される第2のCMOSゲート回路と、前記第2のCMOSゲート回路の出力が入力される第2のCMOSインバータ回路と、前記第2のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第2のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第2のトライステート型CMOSインバータ回路と、からなる構成としたことを特徴とする。
以上により、初段のシフトレジスタへの入力信号を制御する必要がなく、さらに端子数を削減することができる。
また、本発明の請求項3に記載の電気ヒューズ回路は、請求項1または請求項2記載の電気ヒューズ回路であって、前記シフトレジスタは、前記プログラムイネーブル信号をプログラムクロック信号に同期して前記複数個のヒューズコアのうち1個ずつに順次入力し、前記複数個のヒューズコアは、前記プログラムイネーブル信号の入力ごとに、前記スイッチトランジスタを1個ずつ導通する構成としたことを特徴とする。
以上により、ヒューズ素子を順次1本ずつ溶断することを可能とし、既存の汎用テスタを用いて溶断することができ、しかも、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
また、本発明の請求項4に記載の電気ヒューズ回路は、請求項1または請求項2記載の電気ヒューズ回路であって、前記複数個のヒューズコアが、複数のブロックに分割され、ブロックごとに前記プログラムイネーブル信号の入力を共通とし、前記シフトレジスタは、前記プログラムイネーブル信号をプログラムクロック信号に同期して前記複数のブロックのうちの1ブロック毎に順次入力し、前記複数個のヒューズコアは、前記1ブロック単位で前記プログラムイネーブル信号の入力ごとに、前記スイッチトランジスタを、一斉に導通する構成としたことを特徴とする。
以上により、テスタの電流供給能力以内の瞬時電流が流れる本数ごとに同時に溶断することにより、ヒューズ素子を1本ずつ溶断するよりもヒューズ素子のプログラムにかかる時間を短縮することができ、しかもヒューズコア1個に対し、シフトレジスタの段数をさらに削減することが可能となり回路数をより削減することができ、また、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
以上のように本発明によれば、ヒューズ素子を、順次1本ずつ、あるいはテスタの電流供給能力以内の瞬時電流が流れる本数ごとに同時に溶断することができ、しかも、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
また、初段のシフトレジスタへの初期の入力信号をH/Lに固定し、DFF回路とそのマスター・スレーブ信号を用いて1ショットパルスを生成する構成のシフトレジスタを有することで、初段のシフトレジスタへの入力信号を制御する必要がなく、さらに端子数を削減することができる。
また、ヒューズ素子を順次1本ずつ溶断することを可能とし、既存の汎用テスタを用いて溶断することができ、しかも、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
また、テスタの電流供給能力以内の瞬時電流が流れる本数ごとに同時に溶断することにより、ヒューズ素子を1本ずつ溶断するよりもヒューズ素子のプログラムにかかる時間を短縮することができ、しかもヒューズコア1個に対し、シフトレジスタの段数をさらに削減することが可能となり回路数をより削減することができ、また、複数のヒューズコアをシリアル接続した複数段のシフトレジスタに順次接続することにより、少ない端子数で構成することができる。
以上の結果、例えばRAM冗長救済用などのように電気ヒューズ素子を多数必要とする場合でも、それらの電気ヒューズ素子を容易にLSI内部に搭載することができるとともに、既存の汎用テスタを用いて容易に多数の電気ヒューズ素子を溶断してプログラムすることができる。
以下、本発明の実施の形態を示す電気ヒューズ回路について、図面を参照しながら具体的に説明する。
(実施の形態1)
本発明の実施の形態1の電気ヒューズ回路を説明する。
図1は本実施の形態1の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図であり、複数(n)個のヒューズ素子を1つのモジュールとして構成した場合の電気ヒューズ回路を示したものである。図1の電気ヒューズ回路において、1はn個の電気ヒューズコア、2はn段のシフトレジスタである。
電気ヒューズコア1において、3は一端が電源(VDD)に接続された電気ヒューズ素子、4は電気ヒューズ素子3と直列に接続されソースが接地端子に接続されたNMOSトランジスタ、5は入力をプログラムデータ信号Di(i=1〜n)とシフトレジスタ2からのプログラムイネーブル信号Si(i=1〜n)とし、出力をNMOSトランジスタ4のゲートに入力するプログラム信号INi(i=1〜n)とする2入力AND回路である。
シフトレジスタ2は、初段にプログラムコントロール信号PCONTを入力し、1段目からn段目まで、前段の出力を次段の入力に接続する(プログラムイネーブル伝達信号A1〜An)構成でシリアルにつながれている。また、プログラムクロック信号PCLKは、シフトレジスタ2の1段目からn段目まで全て共通に接続されている。さらに、シフトレジスタ2から出力されるプログラムイネーブル信号S1〜Snは、各々、1段目からn段目までの電気ヒューズコアのプログラムイネーブル信号として1本ずつ接続されている。
次に、図2を用いて、図1のシフトレジスタ2の具体的な回路構成について説明する。
図2は図1に示すシフトレジスタ2のi段目の構成を示す回路図である。図2のシフトレジスタ2において、6はPMOSトランジスタのゲートがプログラムクロック信号PCLKに接続され、NMOSトランジスタのゲートがプログラムクロック信号PCLKの反転信号NPCLKに接続され、入力が(i−1)段目の出力であるプログラムイネーブル伝達信号Ai−1に接続されるCMOSゲート回路、7はCMOSゲート回路6の出力を入力とするインバータ、8はインバータ7の出力を入力とし、PCLKを制御信号(Highでイネーブル)とし、出力をCMOSゲート回路6の出力とインバータ7の入力の接続点に接続するトライステート型インバータ回路、9はPMOSトランジスタのゲートがプログラムクロック信号PCLKの反転信号NPCLKに接続され、NMOSトランジスタのゲートがプログラムクロック信号PCLKに接続され、入力がインバータ7の出力に接続されるCMOSゲート回路、10はCMOSゲート回路9の出力を入力とし、出力をプログラムイネーブル伝達信号Aiとプログラムイネーブル信号Siとするインバータ回路、11はインバータ10の出力を入力とし、NPCLKを制御信号(Highでイネーブル)とし、出力をCMOSゲート回路9の出力とインバータ10の入力の接続点に接続するトライステート型インバータ回路である。
以上のように構成された電気ヒューズ回路の動作について、図3を参照しながら以下に説明する。
図3は本実施の形態1の電気ヒューズ回路の動作を示す波形図である。
まず、電気ヒューズコア1のi段目の動作について説明する。
電気ヒューズ素子3をプログラム(溶断)する際、プログラムしたい電気ヒューズ素子に対応するプログラムデータDiをHigh(H)にし、プログラムしたくない電気ヒューズ素子に対応するプログラムデータDiをLow(L)にして、2入力AND回路5の一方の入力端子に入力しておく。あるタイミングで実際にプログラムするには、プログラムイネーブル信号Siをパルス信号として、2入力AND回路5のもう一方の入力端子に入力する。
プログラムイネーブル信号SiがHである間だけプログラムが可能であり、プログラムデータDiがHである場合、2入力AND回路5の出力INiはHとなり、NMOSトランジスタ4がオンされ、電気ヒューズ素子3に電流が流れることによって、電気ヒューズ素子3は溶断される。一方、プログラムデータDiがLである場合は、プログラムイネーブル信号SiがHであっても2入力AND回路5の出力INiはLとなり、NMOSトランジスタ4はオフされており、電気ヒューズ素子3には電流が流れず、電気ヒューズ素子3は溶断されない。
ここで、電気ヒューズ回路全体の動作としてみた場合について以下に説明する。
例えば、まず始めに、n個の電気ヒューズコア1に対して、1〜n個目まで(1,0,…,1)とプログラムする場合、(D1,D2,…,Dn)=(1,0,…,1)と入力しておく。
次に、シフトレジスタ2の初段に初期のプログラムイネーブル信号PCONTを、プログラムクロック信号PCLKの立ち上がりエッジに対して十分セットアップを保って、LからHに立ち上げる。初段シフトレジスタには、信号PCLKがLの間に、CMOSゲート回路6(図2の回路図参照)がオンされ、信号PCONTのHが入力される。信号PCLKがLからHに立ち上がると、CMOSゲート回路6はオフされ、インバータ7およびトライステート型インバータ回路8によりラッチされ、インバータ7の出力にLが出力される。また、CMOSゲート回路9がオンされることで、プログラムイネーブル信号S1および、プログラムイネーブル伝達信号A1にはHが出力される。信号PCONTは、信号PCLKがHの区間にLへ立ち下げられる。
次に、信号PCLKがHからLに立ち下がると、再びCMOSゲート回路6がオンし、信号PCONTのLが入力される。CMOSゲート回路9はオフし、インバータ10およびトライステート型インバータ回路11によりラッチされ、プログラムイネーブル信号S1および、プログラムイネーブル伝達信号A1はHで保持される。信号PCLKがLの区間に、2段目のシフトレジスタの入力にはプログラムイネーブル伝達信号A1=Hが入力される。
上で述べたように、プログラムクロック信号PCLKの周期的なクロック動作を繰り返す毎に、信号PCLKの1周期分の幅を持つパルス信号として、プログラムイネーブル信号Si(i=1〜n)が順次生成され、同様にプログラムイネーブル伝達信号Ai(i=1〜n)が順次次段のシフトレジスタに伝達されていく。
電気ヒューズコア1の2入力AND回路5にプログラムイネーブル信号Siのパルス信号が入力されると、先に述べたようにプログラムが可能な状態になるので、プログラムデータ(D1,D2,…,Dn)=(1,0,…,1)に合わせて、2入力AND回路5の出力INi(i=1〜n)の状態が、信号PCLKの立ち上がりエッジに合わせて決まっていく。図3では、IN1がHになり、そのパルス幅の区間だけNMOSトランジスタ4がオンし、1個目の電気ヒューズ素子3が溶断される。また、IN2はLになり、NMOSトランジスタ4はオフし、2個目の電気ヒューズ素子3は溶断されない。INnは、IN1と同様であり、n個目の電気ヒューズ素子3は溶断される。
このように、シフトレジスタ2を用いて転送されるプログラムイネーブル信号Siのパルス信号を用い、電気ヒューズ素子3を1本ずつ溶断することで、既存の汎用テスタを用いて溶断することができ、しかも、シフトレジスタ2をシリアルに接続することで、少ない端子数で構成でき、システムLSIへ搭載することができるという優れた電気ヒューズ回路を実現することができる。
(実施の形態2)
本発明の実施の形態2の電気ヒューズ回路を説明する。
図4は本実施の形態2の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図であり、複数(n)個の電気ヒューズ素子を1つのモジュールとして構成した場合の電気ヒューズ回路を示したものである。なお、図1と同一のものは同一の符号を付与している。
図4において、20はn段のシフトレジスタである。シフトレジスタ20は、図1とは異なり、初段への入力を電源(Hレベル)に固定している。また、シフトレジスタ20は、1段目からn段目まで、前段の出力を次段の入力に接続する構成でシリアルにつながれており、各段毎にプログラムイネーブル伝達信号B1〜Bnを出力する。また、プログラムクロック信号PCLKは、シフトレジスタ20の1段目からn段目まで全て共通に接続されている。さらに、シフトレジスタ20から出力されるプログラムイネーブル信号F1〜Fnは、各々、1段目からn段目までの電気ヒューズコア1のプログラムイネーブル信号として1本ずつ接続されている。
次に、図5において、図4に示すシフトレジスタ20の具体的な回路構成について説明する。
図5は図4に示すシフトレジスタ20のi段目の構成を示す回路図である。図5において、図2と同一のものは同一の符号を付与している。図5に示すシフトレジスタ20において、21はDFF回路、22は2入力NOR回路である。DFF回路21は、(i−1)段目の出力であるプログラムイネーブル伝達信号Bi−1を入力とし、内部信号MOUTおよびSOUTを2入力NOR回路22の入力へ引き渡し、さらにプログラムイネーブル伝達信号Biを出力する。2入力NOR回路22は、DFF回路21の内部信号MOUTおよびSOUTを入力し、プログラムイネーブル信号Fiを出力する。
さらに、DFF回路21の内部において、23はプログラムクロック信号PCLKに同期して信号Bi−1を入力し信号MOUTを出力するマスター、24は信号PCLKに同期して半周期遅れて、マスター23の出力信号MOUTを入力し、信号SOUT(=Bi)を出力するスレーブである。
また、マスター23において、構成は図2のCMOSゲート回路6、インバータ7、トライステート型インバータ回路8と同じであるが、異なる点はCMOSゲート回路6のNMOSトランジスタのゲートへの入力信号がPCLKであり、PMOSトランジスタのゲートへの入力信号がNPCLKであり、トライステート型インバータ回路8のイネーブル信号がNPCLKであることである。
次に、スレーブ24においても同様に、構成は図2のCMOSゲート回路9、インバータ10、トライステート型インバータ回路11と同じであるが、異なる点はCMOSゲート回路9のNMOSトランジスタのゲートへの入力信号がNPCLKであり、PMOSトランジスタのゲートへの入力信号がPCLKであり、トライステート型インバータ回路11のイネーブル信号がPCLKであることである。
以上のように構成された電気ヒューズ回路の動作について、図6を参照しながら以下に説明する。
まず始めに、実施の形態1と同様に、n個の電気ヒューズコア1に対して、1〜n個目まで(1,0,…,1)とプログラムする場合、(D1,D2,…,Dn)=(1,0,…,1)と入力しておく。
シフトレジスタ20において、DFF回路21におけるマスター23の出力信号MOUTはHに設定され、スレーブ24の出力信号SOUTはLに初期値が設定されているとする。シフトレジスタ20の初段のシフトレジスタには、実施の形態1に示したプログラムコントロール信号PCONTの代わりに、電源(Hレベル)に固定された信号を入力する。PCLKがLの間に、CMOSゲート回路6(図5の回路図参照)がオフされ、シフトレジスタ初段へはHに固定された信号は入力されない。このため、信号MOUT、SOUT(=B1)は初期状態のままなので、NOR回路22の出力であるプログラムイネーブル信号はL状態である。
次に、信号PCLKがLからHに立ち上がると、CMOSゲート回路6はオンされ、シフトレジスタ初段へはHが入力される。このとき、信号MOUTはHからLに遷移する。また、CMOSゲート回路9はオフされ、インバータ10およびトライステート型インバータ回路11によりラッチされ、信号SOUT(=B1)は初期状態Lのまま保持される。これにより、信号MOUTのHからLへの遷移、および信号SOUTのLをうけてNOR回路22の出力であるプログラムイネーブル信号はLからH状態に遷移する。
次に、信号PCLKがHからLへ立ち下がるとき、CMOSゲート回路6はオフされ、マスター23の出力信号MOUTはインバータ7およびトライステート型インバータ回路8によりラッチされLに保持される。また、CMOSゲート回路9はオンされるので、信号SOUT(=B1)はLからH状態に遷移する。
これにより、信号MOUTのL状態および信号SOUTのLからH状態への遷移をうけて、NOR回路22の出力であるプログラムイネーブル信号はHからL状態に遷移する。信号PCLKがLの区間に、2段目のシフトレジスタの入力にはプログラムイネーブル伝達信号B1=Hが入力される。
上で述べたように、プログラムクロック信号PCLKの周期的なクロック動作を繰り返す毎に、信号PCLKの半周期分の幅を持つパルス信号として、プログラムイネーブル信号Fi(i=1〜n)が順次生成され、同様にプログラムイネーブル伝達信号Bi(i=1〜n)が順次次段のシフトレジスタに伝達されていく。信号Biはシフトレジスタ20の初段がHに固定されているので、一度LからH状態に遷移するとそのままである。
電気ヒューズコア1の2入力AND回路5にプログラムイネーブル信号Fiのパルス信号が入力されると、実施の形態1で述べたようにプログラムが可能な状態になるので、プログラムデータ(D1,D2,…,Dn)=(1,0,…,1)に合わせて、2入力AND回路5の出力INi(i=1〜n)の状態が順次決まっていく。図6では、IN1がHになり、そのパルス幅の区間だけNMOSトランジスタ4がオンし、1個目の電気ヒューズ素子3が溶断される。また、IN2はLになり、NMOSトランジスタ4はオフし、2個目の電気ヒューズ素子3は溶断されない。INnは、IN1と同様であり、n個目の電気ヒューズ素子3は溶断される。
このように、シフトレジスタ初段の入力をHに固定し、マスター23の出力とスレーブ24の出力とを2入力NOR回路22に入力し、プログラムクロック信号PCLKに同期してDFF回路21が動作し、シフトレジスタ初段の入力を順次、伝達する過程で2入力NOR回路22から出力される1ショットのパルス波形を、プログラムイネーブル信号として用いることで、初段のシフトレジスタ回路への入力信号を制御する必要がなく、さらに端子数を削減することができ、テストを容易化できるという優れた電気ヒューズ回路を実現することができる。
(実施の形態3)
本発明の実施の形態3の電気ヒューズ回路を説明する。
図7は本実施の形態3の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図であり、複数(n)個の電気ヒューズ素子を1つのモジュールとして構成した場合の電気ヒューズ回路を示したものである。ここで、図4と同一のものは同一の符号を付与している。
図7において、20はn/4段のシフトレジスタである。シフトレジスタ20は、図4と同様に初段への入力を電源(Hレベル)に固定している。また、シフトレジスタ20は、1段目からn/4段目まで、前段の出力を次段の入力に接続する構成でシリアルにつながれており、プログラムイネーブル伝達信号をB1〜Bn/4とする。また、シフトレジスタ20から出力されるプログラムイネーブル信号F1〜Fn/4は、各々n個の電気ヒューズコア1うちの4個ずつを1ブロックとして、各々電気ヒューズコア4個に共通のプログラムイネーブル信号に接続されている。シフトレジスタ20の具体的な回路構成は、図5と同じである。
以上のように構成された電気ヒューズ回路の動作について、図8を参照しながら以下に説明する。
簡単のため、n個の電気ヒューズコア1に対して、1〜4個目までは1データを、5〜8個目までは0データを、…、(n−3)〜n個目までは1データをと言うように、4個分単位で同じプログラムデータDiを入力しておく。シフトレジスタ20において、回路動作は実施の形態2と同一である。シフトレジスタ20の出力であるプログラムイネーブル信号Fi(i=1〜n/4)は、電気ヒューズコア1の4個分単位へ、プログラムクロック信号PCLKの周期に合わせて順次入力される。
電気ヒューズコア1の2入力AND回路5にプログラムイネーブル信号Fiのパルス信号が入力されると、実施の形態1で述べたようにプログラムが可能な状態になるので、プログラムデータに合わせて、2入力AND回路5の出力INi(i=1〜n)の状態が決まる。図8では、IN1〜IN4がHになり、そのパルス幅の区間だけNMOSトランジスタ4がオンし、1〜4個目の電気ヒューズ素子3が溶断される。また、IN5〜IN8はLになり、NMOSトランジスタ4はオフし、5〜8個目の電気ヒューズ素子3は溶断されない。INn−3〜INnは、IN1〜IN4と同様であり、n−3〜n個目の電気ヒューズ素子3は溶断される。
このように、実施の形態2の場合の効果に加え、テスタが供給できる電流能力以内の瞬時電流が流れる複数本のヒューズを同時に溶断することで、ヒューズコア1個に対し、1個のシフトレジスタを持つ実施の形態2の電気ヒューズ回路に比べ、シフトレジスタの段数を削減できることで(シフトレジスタ20の段数は、本実施の形態の場合、実施の形態2の場合の1/4個)、回路数を削減することができ、しかも、プログラムにかかる時間を短縮することができるという優れた電気ヒューズ回路を実現することができる。
本発明の電気ヒューズ回路は、例えばRAM冗長救済用などのように電気ヒューズ素子を多数必要とする場合でも、それらの電気ヒューズ素子を容易にLSI内部に搭載することができるとともに、既存の汎用テスタを用いて容易に多数の電気ヒューズ素子を溶断してプログラムすることができるもので、DRAMやSRAM等のRAM冗長救済用等の電気ヒューズ回路として有用である。
本発明の実施の形態1の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図 同実施の形態1の電気ヒューズ回路におけるシフトレジスタの構成を示す回路図 同実施の形態1の電気ヒューズ回路の動作を示す波形図 本発明の実施の形態2の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図 同実施の形態2の電気ヒューズ回路におけるシフトレジスタの構成を示す回路図 同実施の形態2の電気ヒューズ回路の動作を示す波形図 本発明の実施の形態3の電気ヒューズ回路の構成を示す回路図 同実施の形態3の電気ヒューズ回路の動作を示す波形図 従来の電気ヒューズ装置の構成を示す回路図
符号の説明
1 電気ヒューズコア
2、20 シフトレジスタ
3 電気ヒューズ素子
4 NMOSトランジスタ
5 2入力AND回路
6、9 CMOSゲート回路
7、10 CMOSインバータ
8、11 トライステート型CMOSインバータ
21 DFF回路
22 2入力NOR回路
23 マスター
24 スレーブ
31 電気ヒューズ素子
32 PMOSトランジスタ
33 NAND回路

Claims (4)

  1. ヒューズ素子と前記ヒューズ素子に直列接続されたスイッチトランジスタとを持つ複数個のヒューズコアと、前記ヒューズ素子をプログラムするために前記複数個のヒューズコアに接続されたシフトレジスタとを有し、
    前記シフトレジスタは、前記プログラムを可能とするプログラムイネーブル信号を順次転送し、
    前記複数個のヒューズコアは、前記シフトレジスタからの前記プログラムイネーブル信号と前記プログラムのためのデータ情報に従って、前記スイッチトランジスタを順次導通し前記ヒューズ素子をプログラムする電気ヒューズ回路であって、
    前記シフトレジスタは、
    第1のCMOSゲート回路と、
    前記第1のCMOSゲート回路の出力が入力される第1のCMOSインバータ回路と、
    前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第1のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第1のトライステート型CMOSインバータ回路と、
    前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力される第2のCMOSゲート回路と、
    前記第2のCMOSゲート回路の出力が入力される第2のCMOSインバータ回路と、
    前記第2のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第2のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第2のトライステート型CMOSインバータ回路と、
    を備え、初段のシフトレジスタの第1のCMOSゲート回路に入力されたプログラムイネーブル信号を、プログラムクロック信号に同期して順次転送する
    ことを特徴とする電気ヒューズ回路。
  2. ヒューズ素子と前記ヒューズ素子に直列接続されたスイッチトランジスタとを持つ複数個のヒューズコアと、前記ヒューズ素子をプログラムするために前記複数個のヒューズコアに接続されたシフトレジスタとを有し、
    前記シフトレジスタは、その初段の入力がHあるいはLに固定され、その初段の入力をプログラムクロックに同期して順次伝達するDFF回路と、前記DFF回路がプログラムクロック信号に同期して、前記初段の入力を順次伝達する過程で生じる前記DFF回路の内部信号の変化をうけて、前記プログラムを可能とするプログラムイネーブル信号を生成するNOR回路とを有し、
    前記複数個のヒューズコアは、前記シフトレジスタからの前記プログラムイネーブル信号と前記プログラムのためのデータ情報に従って、前記スイッチトランジスタを順次導通し前記ヒューズ素子をプログラムする電気ヒューズ回路であって、
    前記DFF回路は、前段のシフトレジスタの出力を入力するマスター回路、および前記マスター回路の出力を入力とし、その入力した前記マスター回路の出力を次段のシフトレジスタへ出力するスレーブ回路からなり、前記プログラムイネーブル信号を生成する前記NOR回路は、初段のシフトレジスタの入力を順次伝達する過程で生じる前記マスター回路とスレーブ回路の出力信号の変化をうけて、1ショットのパルス波形である前記プログラムイネーブル信号を生成し、
    前記マスター回路は、
    第1のCMOSゲート回路と、
    前記第1のCMOSゲート回路の出力が入力される第1のCMOSインバータ回路と、
    前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第1のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第1のトライステート型CMOSインバータ回路と、からなり、
    前記スレーブ回路は、
    前記第1のCMOSインバータ回路の出力が入力される第2のCMOSゲート回路と、
    前記第2のCMOSゲート回路の出力が入力される第2のCMOSインバータ回路と、
    前記第2のCMOSインバータ回路の出力が入力され、前記第2のCMOSインバータ回路と共に閉ループ回路を構成する第2のトライステート型CMOSインバータ回路と、からなる
    ことを特徴とする電気ヒューズ回路。
  3. 請求項1または請求項2記載の電気ヒューズ回路であって、前記シフトレジスタは、前記プログラムイネーブル信号をプログラムクロック信号に同期して前記複数個のヒューズコアのうち1個ずつに順次入力し、前記複数個のヒューズコアは、前記プログラムイネーブル信号の入力ごとに、前記スイッチトランジスタを1個ずつ導通することを特徴とする電気ヒューズ回路。
  4. 請求項1または請求項2記載の電気ヒューズ回路であって、前記複数個のヒューズコアが、複数のブロックに分割され、ブロックごとに前記プログラムイネーブル信号の入力を共通とし、前記シフトレジスタは、前記プログラムイネーブル信号をプログラムクロック信号に同期して前記複数のブロックのうちの1ブロック毎に順次入力し、前記複数個のヒューズコアは、前記1ブロック単位で前記プログラムイネーブル信号の入力ごとに、前記スイッチトランジスタを、一斉に導通することを特徴とする電気ヒューズ回路。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007194458A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Sanyo Electric Co Ltd ザッピング回路
JP2008042054A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気ヒューズ装置
JP5082334B2 (ja) * 2006-08-18 2012-11-28 富士通セミコンダクター株式会社 電気ヒューズ回路、メモリ装置及び電子部品
JP5137408B2 (ja) * 2007-02-05 2013-02-06 パナソニック株式会社 電気ヒューズ回路
US7538597B2 (en) * 2007-08-13 2009-05-26 Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co. Ltd. Fuse cell and method for programming the same
JP2009177044A (ja) * 2008-01-28 2009-08-06 Panasonic Corp 電気ヒューズ回路
US7710813B1 (en) * 2008-03-05 2010-05-04 Xilinx, Inc. Electronic fuse array
US8134854B2 (en) * 2008-11-25 2012-03-13 Mediatek Inc. Efuse device
JP2010146636A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Toshiba Corp 半導体集積回路装置及びメモリシステム
JP2010206114A (ja) * 2009-03-05 2010-09-16 Renesas Electronics Corp 電気ヒューズのテスト方法、及び電気ヒューズ回路
JP5299014B2 (ja) * 2009-03-25 2013-09-25 富士通セミコンダクター株式会社 電気フューズ切断制御回路および半導体装置
US8391091B2 (en) 2011-07-21 2013-03-05 Elite Semiconductor Memory Technology Inc. Anti-fuse circuit and method for anti-fuse programming and test thereof
KR101811303B1 (ko) * 2011-07-26 2017-12-26 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 집적회로 및 그의 구동 방법
TWI494934B (zh) * 2013-10-25 2015-08-01 Nuvoton Technology Corp 熔絲電路
CN104505122B (zh) * 2014-12-27 2018-01-23 西安紫光国芯半导体有限公司 一种e‑fuse链路结构及其控制方法
US10304645B2 (en) * 2015-12-09 2019-05-28 Fuji Electric Co., Ltd. Trimming apparatus
TWI601263B (zh) * 2016-06-06 2017-10-01 華邦電子股份有限公司 電子式熔絲裝置以及電子式熔絲陣列
CN107464585B (zh) * 2016-06-06 2020-02-28 华邦电子股份有限公司 电子式熔丝装置以及电子式熔丝阵列
CN107169219A (zh) * 2017-05-26 2017-09-15 北京伽略电子股份有限公司 一种高灵活度的熔丝修调电路及其使用方法
CN107743035B (zh) * 2017-09-04 2020-12-22 浙江芯昇电子技术有限公司 一种芯片修调电路及修调方法
US11094387B2 (en) * 2019-06-27 2021-08-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Multi-fuse memory cell circuit and method
CN112151098A (zh) 2019-06-27 2020-12-29 台湾积体电路制造股份有限公司 多熔丝记忆体单元电路

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001023392A (ja) * 1999-07-02 2001-01-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2004303354A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Elpida Memory Inc リダンダンシ制御回路、及びそれを用いた半導体記憶装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58208998A (ja) * 1982-05-28 1983-12-05 Toshiba Corp 半導体cmosメモリ
JP2888034B2 (ja) * 1991-06-27 1999-05-10 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
US5708291A (en) 1995-09-29 1998-01-13 Intel Corporation Silicide agglomeration fuse device
KR0173946B1 (ko) * 1995-12-18 1999-04-01 김광호 동기형 반도체 메모리 장치의 컬럼 리던던시 회로
US6292422B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-18 Texas Instruments Incorporated Read/write protected electrical fuse
US6798272B2 (en) * 2002-07-02 2004-09-28 Infineon Technologies North America Corp. Shift register for sequential fuse latch operation
US7031218B2 (en) * 2002-11-18 2006-04-18 Infineon Technologies Ag Externally clocked electrical fuse programming with asynchronous fuse selection

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001023392A (ja) * 1999-07-02 2001-01-26 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP2004303354A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Elpida Memory Inc リダンダンシ制御回路、及びそれを用いた半導体記憶装置

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