JP5299014B2 - 電気フューズ切断制御回路および半導体装置 - Google Patents

電気フューズ切断制御回路および半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5299014B2
JP5299014B2 JP2009074935A JP2009074935A JP5299014B2 JP 5299014 B2 JP5299014 B2 JP 5299014B2 JP 2009074935 A JP2009074935 A JP 2009074935A JP 2009074935 A JP2009074935 A JP 2009074935A JP 5299014 B2 JP5299014 B2 JP 5299014B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
electric fuse
control circuit
circuit
electric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009074935A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010232719A (ja
Inventor
達 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Semiconductor Ltd
Original Assignee
Fujitsu Semiconductor Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Semiconductor Ltd filed Critical Fujitsu Semiconductor Ltd
Priority to JP2009074935A priority Critical patent/JP5299014B2/ja
Priority to US12/728,428 priority patent/US8278990B2/en
Publication of JP2010232719A publication Critical patent/JP2010232719A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5299014B2 publication Critical patent/JP5299014B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/14Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
    • G11C17/18Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Description

この出願で言及する実施例は、電気フューズ切断制御回路および半導体装置に関する。
従来、電気フューズは、様々な半導体装置における不揮発性記憶素子として使用されている。
具体的に、電気フューズは、例えば、冗長メモリの修復用データ、チップ固有のIDデータ、セキュリティ用の暗号データ、或いは、内部回路の電圧やタイミングなどを調整するためのトリミング用データを保持する不揮発性記憶素子として利用されている。
このような電気フューズは、例えば、電流を流すと切断されて抵抗値が変化する。具体的に、電気フューズを不揮発性記憶素子として利用する場合、例えば、『0』を書き込むには電気フューズを切断せず、また、『1』を書き込むには電気フューズを切断する。
なお、データの『0』および『1』の設定は、逆にしてもよく、例えば、『0』を書き込むには電気フューズを切断し、また、『1』を書き込むには電気フューズを切断しない(何もしない)ようにすることもできる。ここで、データを書き込む電気フューズは、様々な半導体装置上に複数搭載されることになる。
従来、電気フューズに電流を流して所定のデータを書き込む処理は、通常、LSIテスタを使用して行っている。なお、半導体装置に設けられた複数の電気フューズに書き込まれたデータは、例えば、電気フューズの抵抗値に応じて『0/1』が決まる読み出し回路を使用してLSIテスタが読み出して確認する。
ところで、従来、電気フューズを搭載した半導体装置は様々なものが提供されており、例えば、シフトレジスタを利用して電気フューズの切断情報を与え、また、LSIテスタにより電気フューズの切断制御を行うものが知られている。
そして、従来、例えば、切断する電気フューズを複数のグループに分割し、その各グループで順次切断処理を行うものが提案されている。
特開2006−197272号公報
上述したように、従来、電気フューズは、様々な半導体装置に複数搭載され、様々な機能を発揮するための不揮発性記憶素子として利用されている。このような電気フューズの切断には、例えば、1個当たり数十ミリアンペアの電流を数十μs流す必要がある。
一方、LSIテスタが供給できる電流には上限があるため、同時に切断できる電気フューズの数が制限されることになる。
そのため、多数の電気フューズを切断するには、電気フューズの切断処理を分割して複数回行わなければならない。そして、この電気フューズの切断処理は、1回当たり切断するための電流を数十μs程度流し続ける必要がある。
従来、LSIテスタにより半導体装置に搭載された複数の電気フューズの切断を行う場合、LSIテスタが供給できる電流を考慮して、複数回に分けて電気フューズの切断処理を行う必要があった。
例えば、特許文献1に記載の電気フューズ切断制御回路では、切断する電気フューズを、例えば、LSIテスタが供給できる電流を考慮して、複数のグループに分割し、その各グループで順次切断処理を行って、切断すべき電気フューズが無くなるまで切断処理を繰り返している。
しかしながら、この場合、同時に切断される電気フューズの組み合わせが決まっているため、最悪の場合、一度に一個の電気フューズしか切断されない場合もあり、切断すべき全ての電気フューズの切断処理が完了するまでに長時間を要することになっていた。
この出願は、上述した課題に鑑み、電気フューズの切断処理に要する時間を低減することのできる電気フューズ切断制御回路および半導体装置の提供を目的とする。
一実施形態によれば、複数の電気フューズの切断を制御する電気フューズ切断制御回路であって、切断情報記憶回路と、切断情報制御回路と、切断情報更新回路と、を有する電気フューズ切断制御回路が提供される。
切断情報記憶回路は、各電気フューズを切断するか否かの切断情報を記憶し、また、切断情報制御回路は、切断情報記憶回路の出力信号を受け取って、電気フューズの同時切断数の上限に応じて複数の電気フューズの切断を制御する。
さらに、切断情報更新回路は、切断情報制御回路の出力信号を受け取って、切断された電気フューズの情報に基づいて切断情報記憶回路に設定された切断情報を更新する。
各実施例によれば、電気フューズの切断処理に要する時間を低減することのできる電気フューズ切断制御回路および半導体装置を提供することができる。
関連技術としての電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路である。 図1の電気フューズ切断制御回路による切断パターンを説明するためのタイミング図である。 一実施形態の電気フューズ切断制御回路を示すブロック図である。 電気フューズおよび切断回路の一例を示す回路図である。 第1実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 図5の電気フューズ切断制御回路におけるインクリメント回路の一例を示す図である。 図6のインクリメント回路の動作を説明するための図である。 図5の電気フューズ切断制御回路による切断パターンを説明するためのタイミング図である。 図5の電気フューズ切断制御回路の動作を説明するための図である。 第2実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 第3実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 図11の電気フューズ切断制御回路におけるインクリメント回路の一例を示す図である。 図12のインクリメント回路の動作を説明するためのタイミング図である。 第4実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 第5実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 第6実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 第7実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。 半導体装置の全体構成を概略的に示すブロック図である。
まず、電気フューズ切断制御回路および半導体装置の実施例を詳述する前に、図1および図2を参照して、関連技術としての電気フューズ切断制御回路の一例、並びに、その電気フューズ切断制御回路における問題点を説明する。
図1は関連技術としての電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路であり、容易に想起される回路例を示すものである。
図1に示されるように、関連技術としての電気フューズ切断制御回路900は、n個の電気フューズを切断するためのもので、n個のアンドゲート911〜91nと、n個のフリップフロップ(レジスタ)921〜92nを含むシフトレジスタ92を有する。
初段(1段目)のフリップフロップ921のデータ入力端子Dには、外部からの電気フューズの切断情報diが供給されている。また、2段目以降のフリップフロップ922〜92nのデータ入力端子Dは、それぞれ前段のフリップフロップ921〜92n-1のデータ出力端子Qに接続されている。
アンドゲート911〜91nの一方の入力端子には、切断処理を可能とするイネーブル信号enがそれぞれ供給され、他方の入力端子には、対応するフリップフロップ921〜92nの出力信号がそれぞれ供給されている。
そして、アンドゲート911〜91nからは、例えば、半導体装置に搭載されるn個の電気フューズを切断するか否かの切断制御信号we1〜wenが出力されることになる。
図2は図1の電気フューズ切断制御回路による切断パターンを説明するためのタイミング図である。
ここで、説明を簡略化するために、例えば、電気フューズの総数を120個(n=120)、切断する電気フューズの数を50個、そして、LSIテスタにより同時に切断可能な電気フューズの数を10個と仮定する。
図1に示す電気フューズ切断制御回路900は、まず、期間p1において、切断する50個の電気フューズの内で最初に同時切断処理する10個の電気フューズのデータを『1』とし他を『0』とする切断情報diをフリップフロップ921〜92nに与える。
すなわち、期間p1では、120個の電気フューズのうち、最初の処理で同時に切断する10個の電気フューズに対応する10個のフリップフロップにデータ『1』を設定し、他の90個のフリップフロップにデータ『0』を設定する。
従って、期間p1では、n個(120個)のクロックclkにより120個全てのフリップフロップ921〜92nに対するデータ設定を行う。
次に、期間p2において、イネーブル信号enを低レベル『0』から高レベル『1』に立ち上げて、アンドゲート911〜91nの内で最初に同時切断処理する10個の電気フューズに対応する出力信号(切断制御信号)を『1』にして切断処理を行う。
すなわち、期間p2では、LSIテスタにより同時に切断することができる10個の電気フューズに対応した10個の切断制御信号weのみが『1』になって所定の時間(例えば、数十μs程度)電流を流し、それら10個の電気フューズを同時に切断する。
さらに、期間p3において、切断する50個の電気フューズの内で2回目の処理で同時に切断する次の10個の電気フューズのデータを『1』とし他を『0』とする切断情報diを全てのフリップフロップ921〜92nに与える。
なお、期間p3では、上述した期間p1と同様に、n個(120個)のクロックclkにより120個全てのフリップフロップ921〜92nに対するデータ設定を行う。
さらに、期間p4において、イネーブル信号enを『0』から『1』に立ち上げて、アンドゲート911〜91nの内で2回目の処理で同時に切断する10個の電気フューズに対応する切断制御信号weを『1』にして切断処理を行う。
なお、期間p4では、上述した期間p3と同様に、LSIテスタにより同時に切断することができる10個の電気フューズに対して所定の時間(例えば、数十μs程度)電流を流してそれら10個の電気フューズを同時に切断する。
そして、同様の処理を繰り返して、切断すべき50個の電気フューズを、LSIテスタが同時切断可能な10個(同時切断数上限)ずつを選択して順次切断し、合計5回の処理を繰り返して切断処理を完了する。
このように、図1に示す電気フューズ切断制御回路900は、例えば、LSIテスタの同時切断数上限に応じた切断情報diをシフトレジスタ92に設定(格納)して切断を実行し、これを切断すべき電気フューズがなくなるまで繰り返し行うようになっている。
そのため、図1の電気フューズ切断制御回路900では、多数の電気フューズを切断する場合、切断情報を何度も入力する必要があるため、電気フューズの切断処理が完了するまでに長時間を要している。
ここで、LSIテスタの一般的な試験サイクルは、例えば、数十〜数百ns程度であるのに対して、電気フューズの1回の切断処理時間(期間p2,p4)は、例えば、数十μs程度であるため、切断回数の増加は可能な限り低減する必要がある。
このように、関連技術の電気フューズ切断制御回路は、同時切断数上限での切断は保証されるが、切断情報を何度も入力する必要があるため時間が掛かることになる。これは、例えば、半導体装置に搭載される電気フューズの総数が多いほど切断情報の入力に要する時間が増加することになる。
まず、図3を参照して、一実施形態の電気フューズ切断制御回路を概略的に説明する。
図3は一実施形態の電気フューズ切断制御回路を示すブロック図である。
図3において、参照符号1は切断情報制御回路、10はカウント回路、そして、21〜2Nは切断情報更新回路、3はスキャンフリップフロップ(SFF)31〜3Nを有するシフトレジスタ(切断情報記憶回路)、そして、4は切断完了判定回路を示している。ここで、Nは、例えば、半導体装置に搭載される電気フューズの総数を示している。
また、参照符号WE1〜WENはそれぞれ対応する電気フューズを切断するか否かの切断制御信号、ENは切断処理を可能とするイネーブル信号、そして、DIは外部から与えられる電気フューズの切断情報を示している。
図3に示されるように、本実施形態の電気フューズ切断制御回路は、切断情報制御回路1、切断情報更新回路21〜2N、SFF31〜3N、および、切断完了判定回路4を有する。
切断情報制御回路1は、N−1個のインクリメント回路101〜10N-1を含むカウント回路10を有する。SFF(レジスタ)31〜3Nは、電気フューズの切断情報DIをスキャンシフトして設定する。
初段(1段目)のSFF31の入力端子SINには、外部からの電気フューズの切断情報DIが供給されている。また、2段目以降のSFF32〜3Nの入力端子SINは、それぞれ前段のSFF31〜3N-1のデータ出力端子Qに接続されている。
これにより、各SFF31〜3Nのスキャンモード入力端子SMにスキャンモード信号SMSが供給されると、クロック信号CLKに従って切断情報DIが順次シフトして設定される。
ここで、SFF31〜3Nのデータ出力端子Qは、切断情報制御回路1に接続されると共に、対応する切断情報更新回路21〜2Nにも接続されている。
なお、各切断情報更新回路21〜2Nには、それぞれ切断情報制御回路1からの切断情報信号が供給されている。
本実施形態の電気フューズ切断制御回路において、SFF31〜3Nに対する切断情報DIの設定は1回行えばよく、また、切断情報更新回路21〜2Nにより切断情報が順次更新される。そして、切断処理が完了すると、切断完了判定回路4が切断完了信号FINが変化する。
図4は電気フューズおよび切断回路の一例を示す回路図である。
図4に示されるように、電気フューズ82は、直列に接続されたnチャネル型MOSトランジスタ81より成る切断回路により切断が制御される。
すなわち、トランジスタ81のゲートに高レベル『1』の信号が印加されると、トランジスタ81がオンして電気フューズ82に電流が流れ、その電気フューズ82が切断する。
ここで、図4は単なる例であり、様々な変形が考えられる。すなわち、トランジスタ81をpチャネル型MOSトランジスタとし、或いは、高電位側(Vdd)および低電位側(Vss)に接続する順番を逆にする等が可能である。
なお、トランジスタ81をpチャネル型トランジスタとした場合には、切断制御信号WEの論理を反転させる。このように、切断回路(81)は、切断制御信号WEによりオン/オフ制御され、オンしたときに電気フューズ82を切断するようになっている。
以下、電気フューズ切断制御回路および半導体装置の実施例を、詳述する。
図5は第1実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図5に示されるように、本第1実施例の電気フューズ切断制御回路200は、切断情報制御回路1、切断情報更新回路21〜2N、SFF(レジスタ)31〜3Nを含むシフトレジスタ(切断情報記憶回路)3、および、判定回路4を有する。ここで、Nは、例えば、半導体装置に搭載される電気フューズの総数を示している。
切断情報制御回路1は、N−1個のインクリメント回路101〜10N-1と、一端が反転入力とされたN個の2入力アンドゲート111〜11N、および、N個の2入力アンドゲート121〜12Nを有する。なお、N−1個のインクリメント回路101〜10N-1は、前述した図3におけるカウント回路10に対応する。
各インクリメント回路101〜10N-1は、k個の入力端子IN1〜INk,入力端子ST,および,k個の出力端子OUT1〜OUTkを有する。ここで、kは、例えば、LSIテスタにより同時に切断可能な電気フューズの数を示している。
図5に示されるように、初段(1段目)のアンドゲート111の反転入力端子は、接地され、他方の入力端子は、対応するSFF31のデータ出力端子Qに接続されている。
2段目〜N段目のアンドゲート112〜11Nの反転入力端子は、前段のインクリメント回路102〜10N-1の出力端子OUTkにそれぞれ接続され、他方の入力端子は、対応するSFF32〜3Nのデータ出力端子Qにそれぞれ接続されている。
アンドゲート121〜12Nの一方の入力端子は、対応するアンドゲート111〜11Nの出力端子にそれぞれ接続され、アンドゲート121〜12Nの他方の入力端子はイネーブル信号ENをそれぞれ受け取るようになっている。
そして、アンドゲート121〜12Nの出力信号WE1〜WENが、図4を参照して説明したトランジスタ(切断回路81)のゲート信号として、対応するN個のフューズ(82)を切断するか否かの切断制御信号になる。
そして、初段のインクリメント回路101の入力端子IN1〜INkは、全て接地されてカウント回路の初期値(『0』)が設定される。
2段目〜N−1段目のインクリメント回路102〜10N-1の入力端子IN1〜INkは、それぞれ前段のインクリメント回路102〜10N-2の出力端子OUT1〜OUTkに接続されている。
最終段(N−1段目)のインクリメント回路10N-1の出力端子OUT1は、切断完了判定回路であるオアゲート4の一方の入力端子に接続され、最終段のインクリメント回路10N-1の出力端子OUTkは、アンドゲート11Nの反転入力端子に接続されている。
また、最終段のインクリメント回路10N-1の出力端子OUT2〜OUTk-1は、どこにも接続されない。
なお、インクリメント回路101〜10N-1の入力端子STは、それぞれ対応するSFF31〜3Nのデータ出力端子Qに接続されている。
ここで、各インクリメント回路101〜10N-1の出力は、初段のSFF31から対応するSFF31〜3N-1までのSFFのうち、『1』(当該SFFに対応する電気フューズの切断が必要)が設定されているSFFの数を表す(正確には、この数にカウント回路の初期値を加えた数を表す)。
具体的に、例えば、インクリメント回路102の出力は、SFF31〜32のうち、『1』が設定されているSFFの数を表す。
図5に示されるように、切断情報更新回路21〜2NおよびSFF31〜3Nは、半導体装置に搭載されるN個の電気フューズに対応して設けられている。
初段のSFF31の入力端子SINには、切断情報DIが供給され、2段目以降のSFF32〜3Nの入力端子SINは、前段のSFF31〜3N-1のデータ出力端子Qに接続されている。
各SFF31〜3Nの端子SMには、スキャンシフト信号SMSが供給され、スキャンモードが設定されると、電気フューズの切断情報DIをクロック信号CLKに従って順次シフトしてSFF31〜3Nに設定する。
各SFF31〜3Nのデータ出力端子Qは、さらに、切断情報制御回路1に接続されると共に、対応する切断情報更新回路21〜2Nに接続されている。
ここで、例えば、初段のSFF31に『1』が設定されていれば、アンドゲート111の出力であるイネーブル信号EN1は『1』になり、対応する電気フューズは実際に切断される。
また、SFF32〜3Nに『1』が設定されていて、かつ、当該SFFの前段までのSFFの内で、『1』が設定されているSFFの数が同時切断数上限に達していない場合、EN2〜ENNは『1』になり、対応する電気フューズは実際に切断される。
なお、SFF32〜3Nの前段までのSFFのうち、『1』が設定されているSFFの数が同時切断数上限に達しているかどうかは、前段のインクリメント回路101〜10N-1の各出力OUTkによって決まる。
具体的に、例えば、SFF34に『1』が設定されていて、かつ、SFF31〜SFF33のうち、『1』が設定されているSFFの数が同時切断数上限に達していない場合、EN4は『1』になり、対応する電気フューズは実際に切断される。
ここで、SFF1〜SFF3のうち、『1』が設定されているSFFFの数が同時切断数上限に達しているかどうかは、インクリメント回路103の出力OUTkによって決まることになる。
切断情報更新回路21〜2N-1は、2入力のアンドゲートとされている。初段のアンドゲート21の一方の入力端子は、接地され、また、他方の入力端子は、対応するSFF31のデータ出力端子Qに接続されている。
2段目以降のアンドゲート22〜2Nの一方の入力端子は、前段のインクリメント回路101〜10N-1の出力端子OUTkに接続され、他方の入力端子は、それぞれ対応するSFF32〜3Nのデータ出力端子Qに接続されている。
アンドゲート21〜2Nの出力端子は、対応するSFF31〜3Nのデータ入力端子Dにそれぞれ接続されている。
以上のように、切断が必要な電気フューズに対応するSFFの値は『1』になっており、また、実際に切断されるk個の電気フューズに対応する切断情報更新回路(アンドゲート)の出力は『0』になるため、この出力を入力(データ入力D)とするSFFの値は、CLK入力に応じて『1』から『0』に更新される。すなわち、対応する電気フューズは、今後切断する必要がない状態になる。
また、切断が必要な電気フューズのうち、実際に切断されるk個以外の電気フューズに対応する切断情報更新回路の出力は『1』になり、この出力を入力(データ入力D)とするSFFの値は『1』になって変化しない。すなわち、対応する電気フューズは、依然として切断が必要な状態である。
さらに、切断不要な電気フューズに対応するSFFの値は『0』になっており、また、対応する切断情報更新回路の出力は『0』になり、この出力を入力(データ入力D)とするSFFの値は『0』になって変化しない。すなわち、対応する電気フューズは依然として切断不要な状態である。
このように、各SFFの値が更新されると、各インクリメント回路を含む切断情報制御回路の出力も変化し、次に切断されるk個の電気フューズが決まる。そこで、次のk個の電気フューズの切断処理を行う。
また、同時に各切断情報更新回路の出力も変化しており、電気フューズの切断処理終了後に、各SFFにCLK入力を与えて各SFFの値を更新する。以上のような動作を繰り返すことで、切断すべき全ての電気フューズの切断を行うことができる。
具体的に、例えば、電気フューズの総数を120個(N=120)、切断する電気フューズの数を50個、そして、LSIテスタにより同時に切断可能な電気フューズの数を10個と仮定する。
このとき、本第1実施例の電気フューズ切断制御回路200では、N個(120個)のSFF31〜3Nに対して、切断すべき50個の電気フューズの情報をそのまま書き込む。
なお、このSFF31〜3Nに対する切断情報DIの設定(書き込み)は1回行えばよく、図1の電気フューズ切断制御回路のように、LSIテスタにより同時に切断可能な10個の電気フューズをその切断処理毎に設定する必要がない。
すなわち、本第1実施例の電気フューズ切断制御回路において、設定された切断情報は、同時に切断可能な10個の電気フューズが切断される毎に切断情報更新回路21〜2Nにより更新される。
そして、最後の10個の切断処理が完了すると、切断完了判定回路4が低レベル『0』の切断完了信号FINを出力することになる。
ここで、本第1実施例において、切断完了判定回路4は、最終段のインクリメント回路10N-1の出力端子OUT1およびOUTkに接続された2入力オアゲートとされている。これは、切断すべき50個全ての電気フューズの切断処理が完了すると、最終段のインクリメント回路10N-1の出力端子OUT1およびOUTkの信号が両方とも『0』になるのを利用するものである。
図6は図5の電気フューズ切断制御回路におけるインクリメント回路の一例を示す図である。なお、インクリメント回路101〜10N-1は、全て同じなので、図6では、インクリメント回路101を例として示している。
図6に示されるように、インクリメント回路101は、例えば、LSIテスタにより同時に切断可能な電気フューズの上限がk個のとき、k−1個のセレクタ1011〜101k-1、および、オアゲート1012を有する。
オアゲート1012の一方の入力端子には、入力端子STを介して入力されるSFF31の出力データが供給され、他方の入力端子には、入力端子IN1を介して入力されるデータ(初期値『0』)が供給されている。
各セレクタ1011〜101k-1の一方の入力端子には、対応する入力信号IN1〜INk-1が供給され、他方の入力端子には、次の入力信号IN2〜INkが供給され、SFF31の出力データに従って一方が選択されて出力端子OUT2〜OUTkから出力される。なお、出力端子OUT1からは、オアゲート1012の出力信号が出力される。
図7は図6のインクリメント回路101の動作を説明するための図であり、入力端子STの論理(『0』または『1』)に対する入力端子IN1〜INkの入力データおよび出力端子OUT1〜OUTkの出力データを示すものである。
なお、図7では、入力データおよび出力データは、最上位ビット(MSB)〜最下位ビット(LSB)として、入力端子INk〜IN1および出力端子OUTk〜OUT1のデータを順に並べて描いている。
図6および図7に示されるように、入力端子STの論理、すなわち、SFF31の出力信号(Q出力)が『0』のとき、インクリメント回路101は、入力端子IN1〜INkに供給されたデータをそのまま出力端子OUT1〜OUTkから出力する。従って、STの論理が『0』のとき、出力値=入力値になり、インクリメントしない(変化しない:『XXX…XXX』)ことになる。
一方、STの論理が『1』のとき、インクリメント回路101は、入力端子IN1〜INkに供給されたデータを1だけインクリメントして出力端子OUT1〜OUTkから出力する。従って、STの論理が『1』のとき、出力値=入力値+1になり、インクリメントすることになる。
なお、図7に示されるように、入力端子IN1〜INkが『000…000』は、カウント値=0に対応し、また、入力端子IN1〜INk『011…111』は、カウント値=k−1に対応する。
図8は図5の電気フューズ切断制御回路による切断パターンを説明するためのタイミング図である。
ここで、説明を簡略化するために、前述した図2と同様に、例えば、電気フューズの総数を120個(N=120)、切断する電気フューズの数を50個、そして、LSIテスタにより同時に切断可能な電気フューズの数を10個と仮定する。
図5に示す電気フューズ切断制御回路200は、まず、期間PP1において、切断する50個の電気フューズの全ての情報を含む切断情報DIをSFF31〜3Nに与える。
すなわち、例えば、切断が必要な50個の電気フューズに対応するSFFには『1』を設定し、切断が不要な残り70個の電気フューズに対応するSFFには『0』を設定する。
ここで、前述したように、本第1実施例の電気フューズ切断制御回路200において、SFF31〜3Nに対する切断情報DIの設定(書き込み)は1回行えばよい。
次に、期間PP2において、イネーブル信号ENを『0』から『1』に立ち上げて、アンドゲート111〜12Nの内で最初に同時切断処理する10個の電気フューズに対応する出力信号(切断制御信号WE)を『1』にして切断処理を行う。
ここで、初段のインクリメント回路101の入力端子IN1〜INkは全て『0』に初期化されているため、切断制御信号は、WE1(LSB)側から最初の切断処理で切断するk個(10個)の切断制御信号のみが『1』になり、他は『0』になる。
期間PP2における処理は、LSIテスタにより同時に切断することができるLSB側から10個の電気フューズに対応した切断制御信号のみが『1』になって所定の時間(例えば、数十μs程度)電流を流し、それら10個の電気フューズを同時に切断する。
すなわち、期間PP2では、同時切断数上限を考慮して電気フューズの切断を行う。ここで、実際に電気フューズの切断を行った個所の切断情報更新回路(アンドゲート21〜2Nの内のk個)では、そのアンドゲートの出力信号は『0』になる。
そして、期間PP3において、クロックCLKが入力すると、SFF31〜3Nのデータ(切断情報)が更新され、電気フューズの切断を行った個所のSFFのQ出力は『0』に変化する。
さらに、期間PP4では、既に切断された10個の電気フューズを除いた40個の切断が必要な電気フューズの内で、LSB側から数えて10個目までの電気フューズに対応する切断制御信号が『1』になっている。
すなわち、期間PP4では、最初の期間PP2と同様の処理が行われ、例えば、切断が必要な50個の電気フューズの内で、LSB側から数えて11個目から20個目までの電気フューズに対応する切断制御信号のみが『1』になってこれら10個の電気フューズの切断処理が行われる。
さらに、期間PP5では、上述した期間PP3と同様に、クロックCLKの入力によりSFF31〜3Nのデータが更新され、電気フューズの切断を行った個所のSFFのD入力は『1』になり、そのQ出力は『0』に変化する。
この期間(パターン)PP2,PP4およびPP3,PP5を繰り返し、切断が必要な50個の電気フューズの全ての切断処理が完了すると、切断完了判定回路(オアゲート)4の入力が両方とも『0』になって、『0』の切断完了信号FINが出力される。
ここで、本第1実施例の効果を、次の具体例により説明する。すなわち、半導体装置に搭載される電気フューズの総数Nを1000個、切断する電気フューズの数を200個、および、電気フューズの同時切断数上限(k)を10個とする。
さらに、電気フューズの切断時間を50μs、そして、SFF31〜3Nの更新時間(クロックCLKの1周期の時間)を100nsとする。
前述した図1に示す関連技術の電気フューズ切断制御回路900では、例えば、フリップフロップの数を1000個と仮定すると、(1000×100ns+50μs)×200÷10=3msになる。
これに対して、本第1実施例では、フリップフロップ(SFF)の数は1000個、切断する200個の電気フューズを同時に10個ずつ切断するため、1000×100ns+(50μs+100ns)×200÷10=1.102msになる。
このように、本第1実施例の電気フューズ切断制御回路は、関連技術の電気フューズ切断制御回路よりも大幅に時間短縮が可能なことが分かる。この電気フューズの切断制御に要する時間短縮の効果は、以下に述べる第2〜第7実施例でも同様に発揮される。
図9は図5の電気フューズ切断制御回路の動作を説明するための図であり、図8におけるパターンPP1→PP2→PP3→PP4→PP5に対する各信号の値および動作を示している。
なお、図9では、同時切断数上限=2,電気フューズの総数=12,切断情報[LSB:MSB]=0100 0100 0100 1000(2,6,9ビット目を切断)の電気フューズ切断制御回路の動作を示している。
図9に示されるように、まず、パターンPP1では、イネーブル信号EN=『0』,スキャンフリップフロップ31〜3N(SFF1〜SFF12)に設定される値が『0100 0100 0100』になって、2,6,9ビット目を切断するように設定される。すなわち、パターンPP1は、スキャンインしてSFF1〜SFF12に対して全ての電気フューズの切断情報DIを書き込む。
次に、パターンPP2では、イネーブル信号ENが『1』になって切断処理が可能になり、アンドゲート121〜12Nの出力である切断制御信号は、『0100 0100 0000』になって、2および6ビット目の2つの電気フューズを切断する。すなわち、同時切断数上限の2ビットの電気フューズが同時に切断される。
さらに、次のパターンPP3では、SFF1〜SFF12に設定された値が更新されて『0000 0000 0100』になって、9ビット目を切断するように設定される。
すなわち、パターンPP3では、パターンPP2の最初の切断処理により、2および6ビット目の2つの電気フューズが切断されたので、それらに対応するデータは『1』から『0』に変更され、まだ切断処理を行っていない9ビット目のみ『1』になっている。
さらに、次のパターンPP4では、イネーブル信号ENが再び『1』になって切断処理が可能になり、アンドゲート121〜12Nの出力である切断制御信号は、『0000 0000 1000』になって、9ビット目の電気フューズのみが切断される。
そして、最後のパターンPP5では、SFF1〜SFF12に設定された値が更新されて『0000 0000 0000』になる。これにより、切断完了信号FINが『1』から『0』に変化して、必要な全てのビット(2,6および9ビット目)の電気フューズの切断が完了したことを通知する。
なお、切断完了信号FINは、例えば、LSIテスタに通知され、電気フューズの切断処理が完了したことを認識して、LSIテスタは半導体装置に対して、例えば、次の処理(検査等)を行うことになる。
図10は第2実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図10に示されるように、本第2実施例の電気フューズ切断制御回路300は、SFF31〜3Nに対してスキャンシフトにより電気フューズの切断情報DIを書き込まずに、切断情報D1〜DNを並列に与えて書き込むようになっている。
すなわち、電気フューズを切断するか否かにより、切断が必要な場合は『1』、また、切断が不要な場合は『0』の切断情報D1〜DNを、対応するSFF31〜3Nの入力端子SINに直接与えて切断情報の書き込み(設定)を行うようになっている。
本第2実施例の電気フューズ切断制御回路300は、例えば、切断情報D1〜DNを半導体装置内部で生成するものでは、SFF31〜3Nに対する切断情報の設定を短時間で行えるので、より一層の時間短縮が可能になる。
例えば、メモリ試験を行って不良個所を冗長メモリに置き換える場合、試験結果による不良個所データをメモリ内に保持し、その保持された不良個所データを、冗長メモリに置き換えるための電気フューズの切断情報にそのまま利用する場合等に適用可能である。
図11は第3実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図であり、また、図12は図11の電気フューズ切断制御回路におけるインクリメント回路の一例を示す図である。
本第3実施例の電気フューズ切断制御回路は、図12に示すような入出力値を2進表現化したインクリメント回路101’を利用するものである。なお、本第3実施例の電気フューズ切断制御回路400において、同時切断数上限は、2(k-1)により表される。
ところで、同時切断数上限が大きくなればインクリメント回路も大きくなるが、本第3実施例の電気フューズ切断制御回路は、同時切断数上限に対する回路サイズの増加率を第1実施例よりも低く抑えるものである。
すなわち、例えば、第1実施例の電気フューズ切断制御回路のサイズは、同時切断数上限に比例して増加するが、本第3実施例の電気フューズ切断制御回路のサイズは、ほぼlog2[同時切断数上限]に比例して増加することになる。
なお、インクリメント回路101’〜10N-1’は、全て同じなので、図12では、インクリメント回路101’を例として示している。
図11に示されるように、第3実施例の電気フューズ切断制御回路400は、切断完了判定回路4をk個の入力端子を有するオアゲート40とし、最終段のインクリメント回路10N-1’の出力端子OUT1〜OUTkの全ての信号の論理和を取るようになっている。
すなわち、切断完了判定回路4は、最終段のインクリメント回路10N-1’の出力端子OUT1〜OUTkがすべて『0』になったときに切断完了信号FINを『0』とするようになっている。
図12に示されるように、インクリメント回路101’は、k−1個のアンドゲート1021〜102k-1、k−1個のエクスクルーシブオア(EOR)ゲート1031〜103k-1、および、1個のオアゲート1040を有する。
初段のアンドゲート1021の一方の入力には、入力端子STを介して初段のSFF31の出力信号(Q出力)が供給され、他方の入力には、入力端子IN1の信号(初期値『0』)が供給されている。
2段目以降のアンドゲート1022〜102k-1の一方の入力には、前段のアンドゲート1021〜102k-2の出力信号が供給され、他方の入力には、入力端子IN2〜INk-1の信号(初期値『0』)が供給されている。
初段のEORゲート1031の一方の入力には、入力端子STを介して初段のSFF31のQ出力が供給され、他方の入力には、入力端子IN1の信号(初期値『0』)が供給されている。
2段目以降のEORゲート1032〜103k-1の一方の入力には、前段のアンドゲート1021〜102k-1の出力信号が供給され、他方の入力には、入力端子IN2〜INk-1の信号(初期値『0』)が供給されている。
さらに、オアゲート1040の一方の入力には、最終段のアンドゲート102k-1の出力信号が供給され、他方の入力には、入力端子INkの信号(初期値『0』)が供給されている。
そして、オアゲート1032〜103k-1の出力信号およびオアゲート1040の出力信号OUT1〜OUTkが全て『0』のときに、切断完了判定回路4は、切断完了信号FINを『0』にして切断完了を通知する。
図13は図12のインクリメント回路の動作を説明するためのタイミング図であり、入力端子STの論理(『0』または『1』)に対する入力端子IN1〜INkの入力データおよび出力端子OUT1〜OUTkの出力データを示すものである。
なお、図13では、入力データおよび出力データは、最上位ビット(MSB)〜最下位ビット(LSB)として、入力端子INk〜IN1および出力端子OUTk〜OUT1のデータを順に並べて描いている。また、図13では、入力端子IN1〜INkおよび出力端子OUT1〜OUTkのデータは2進表現とされている。
図12および図13に示されるように、入力端子STの論理、すなわち、SFF31のQ出力が『0』のとき、インクリメント回路101’は、入力端子IN1〜INkに供給されたデータをそのまま出力端子OUT1〜OUTkから出力する。従って、STの論理が『0』のとき、出力値=入力値になり、インクリメントしないことになる。
一方、STの論理が『1』のとき、インクリメント回路101’は、入力端子IN1〜INkに供給されたデータを1だけインクリメントして出力端子OUT1〜OUTkから出力する。従って、STの論理が『1』のとき、出力値=入力値+1になり、インクリメントすることになる。
ところで、上述した第3実施例の電気フューズ切断制御回路では、例えば、k=2,3,4,5…のときは、同時切断数上限=2,4,8,16…になり、それ以外の数を同時切断数上限に指定できない。
そこで、初段のインクリメント回路101’の入力端子IN1〜INkに対する初期値と切断完了判定回路4を変更、すなわち、アンドゲート40の入力論理を変更することで任意の同時切断数上限を実現したものが次の第4実施例である。
図14は第4実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図14に示されるように、本第4実施例の電気フューズ切断制御回路500は、初段のインクリメント回路101’の入力端子IN1〜INkの初期値を全て『0』にするのではなく、例えば、入力端子IN1の初期値を『1』に設定するようになっている。
切断完了判定回路4は、初段のインクリメント回路101’の入力端子IN1の初期値『1』に対応して、最終段のインクリメント回路10N-1’の出力端子OUT1を反転入力端子で受け取るk入力のオアゲート41とされている。
なお、最終段のインクリメント回路10N-1’の出力端子OUT2〜OUTkは、正論理の入力端子で受け取るようになっている。また、同時切断数上限は、2(k-1)−1により表される。
切断完了判定回路4は、初段のインクリメント回路101’の入力端子IN1〜INkに設定する初期値に応じて入力端子の論理が規定されたk個の入力端子を有するオアゲートとされている。
このように、第4実施例の電気フューズ切断制御回路によれば、同時切断数上限を任意の値に設定することが可能になる。なお、電気フューズの同時切断数上限は、例えば、電気フューズが搭載された半導体装置をテストするためのLSIテスタが供給できる電流等により規定されるものである。
図15は第5実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図15に示されるように、本第5実施例の電気フューズ切断制御回路600は、例えば、図5に示すような電気フューズ切断制御回路200をM個並列に設けたものに相当する。
すなわち、図15に示されるように、第5実施例の電気フューズ切断制御回路600は、M個の切断情報制御回路1a,1b,…,1m、並びに、M×N個の切断情報更新回路21a〜2Na,21b〜2Nb,…,21m〜2Nmを有する。
さらに、第5実施例の電気フューズ切断制御回路600は、M×N個のSFF31a〜3Na,31b〜3Nb,…,31m〜3Nm、並びに、M個の切断完了判定回路4a,4b,…,4mを有する。
なお、参照符号3a,3b,…,3mは、SFF31a〜3Na,31b〜3Nb,…,31m〜3Nmを有するシフトレジスタを示している。
これにより、各切断情報制御回路1a,1b,…,1mから切断制御信号WE1〜WEN,WEN+1〜WE2N,…,WE(M-1)N+1〜WEMNが出力されることになる。
切断完了判定回路4a,4b,…,4mの出力信号は、m個の入力端子を有するオアゲート42に供給され、切断完了判定回路4a,4b,…,4mの全ての出力信号が『0』のとき、『0』の切断完了信号FINを出力するようになっている。
ここで、図5に示す第1実施例の電気フューズ切断制御回路200における切断完了判定回路4は、本第5実施例の電気フューズ切断制御回路600における切断完了判定回路4a〜4mおよびオアゲート42に対応する。
このように、本第第5実施例の電気フューズ切断制御回路600は、例えば、図5に示す電気フューズ切断制御回路200をM個並列に設ける。これにより、各切断制御回路内の同時切断数上限を1/Mにすることができ、インクリメント回路のサイズを1/Mにすることが可能になる。
なお、本第5実施例は、第1実施例の適用に限定されるものではなく、他の実施例を複数適用することもでき、例えば、図11の第3実施例を適用すれば、回路サイズをほぼlog2(N/M)/Log2Nにすることが可能になる。
さらに、本第5実施例によれば、各切断制御回路の初段のSFF31a〜31mから最終段の3Na〜3Nmまでの遅延を短縮することができ、SFFの更新サイクルを抑えることも可能である。なお、これらSFFの接続も並列にするといった他の様々な変形も可能なのはいうまでもない。
図16は第6実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図16に示されるように、本第6実施例の電気フューズ切断制御回路700は、初段のインクリメント回路101”の入力端子IN1〜INkに対して外部から信号I1〜Ikとして与えるようになっている。
また、初段のインクリメント回路101”の入力端子IN1〜INkに供給する信号I1〜Ikに対応させるために、接続完了判定回路4は、k個のEORゲート431〜43kおよびオアゲート44を有する。
すなわち、EORゲート431〜43kは、それぞれ信号I1〜Ikおよび最終段のインクリメント回路10N-1”の出力端子OUT1〜OUTkの信号を受け取り、排他的論理和を取ってその論理出力をオアゲート44に供給するようになっている。
本第6実施例は、例えば、使用するLSIテスタが変化するとき、そのLSIテスタが供給できる電流に適した同時切断数上限に設定可能なようになっている。ここで、信号I1〜Ikにより設定可能な同時切断数上限の値は、最大値k以下になるので、例えば、kの値を余裕をみて少し大きめの値に設定するのが好ましい。
図17は第7実施例の電気フューズ切断制御回路の一例を示す回路図である。
図17に示す第7実施例の電気フューズ切断制御回路800は、初段のインクリメント回路101”の入力端子IN1〜INkに対して、シフトレジスタ(初期値記憶回路)5の出力信号を与えるようになっている。
ここで、シフトレジスタ5は、シフトレジスタ3と直列に接続されている。すなわち、シフトレジスタ5は、k個のスキャンフリップフロップ(SFF)51〜5kを有し、初段のSFF51の入力端子SINに外部からの入力データDIを供給するようになっている。
そして、シフトレジスタ5の最終段のSFF5kは、前述したシフトレジスタ3の初段のSFF31の入力端子SINに接続され、スキャンモードにおいて、前述した切断情報DIと共に初期値が順次シフトして各SFFに設定(格納)されるようになっている。
なお、スキャンモードは、各SFF51〜5kおよびSFF31〜3Nにおけるスキャンモード入力端子SMにスキャンモード信号SMSが供給されることで設定される。
このように、本第7実施例の電気フューズ切断制御回路によれば、外部端子を追加することなく、初段のインクリメント回路101”の入力端子IN1〜INkに対する初期値の設定を、SFF31〜3Nに対する切断情報の設定と同時に行うことができる。
図18は半導体装置の全体構成を概略的に示すブロック図である。
図18に示されるように、上述した各実施例が適用される半導体装置1000は、電気フューズ切断制御回路1001、電気フューズ回路1002および内部回路1003を有する。
電気フューズ回路1002は、複数(N)個の電気フューズ821〜82Nおよび切断回路811〜81Nを有し、電気フューズ切断制御回路1001からの切断制御信号WE1〜WENにより対応する電気フューズの切断を制御するようになっている。
電気フューズの切断は、例えば、冗長メモリの修復データ、チップ固有のIDデータ、セキュリティ用の暗号データ、或いは、内部回路の電圧やタイミングなどを調整するためのトリミング用データを保持するため等に使用される。
以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに、以下の付記を開示する。
(付記1)
複数の電気フューズの切断を制御する電気フューズ切断制御回路であって、
前記各電気フューズを切断するか否かの切断情報を記憶する切断情報記憶回路と、
該切断情報記憶回路の出力信号に応じて前記複数の電気フューズの切断を制御する切断情報制御回路と、
前記切断情報制御回路の出力信号を受け取って、前記切断情報記憶回路に設定された前記切断情報を更新する切断情報更新回路と、を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記2)
付記1に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断情報制御回路は、同時切断数上限ごとに前記電気フューズの同時切断を行うように制御することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記3)
付記2に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断情報制御回路は、前記同時切断数上限に対応した入出力端子を有する複数のインクリメント回路を含むカウント回路を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記4)
付記3に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記カウント回路は、前記電気フューズの総数をNとしたとき、N−1個のインクリメント回路を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記5)
付記4に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断情報記憶回路は、前記電気フューズの総数に対応したN個のレジスタを有し、該各レジスタは、対応する前記各電気フューズを切断する必要があるか否かの切断情報を設定することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記6)
付記5に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記レジスタは、スキャンフリップフロップであることを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記7)
付記5または6に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断情報更新回路は、前記レジスタに対応してN個設けられ、
該各切断情報更新回路は、切断処理が行われた前記電気フューズに対応する前記レジスタに記憶された切断情報を変更することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記8)
付記7に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断情報更新回路は、初期値または対応する前記インクリメント回路の所定の出力信号と、対応する前記レジスタの出力信号との論理を取って、対応する当該レジスタのデータを書き換えることを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記9)
付記4〜8のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記N−1個のインクリメント回路のうち、初段のインクリメント回路の入力端子に対して論理『0』の初期値を与えることを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記10)
付記9に記載の電気フューズ切断制御回路において、さらに、
前記複数の電気フューズのうち、切断する必要がある電気フューズの全ての切断が完了したことを判定する切断完了判定回路を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記11)
付記10に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断完了判定回路は、前記N−1個のインクリメント回路のうち、最終段のインクリメント回路の最下位の出力信号と、前記切断情報記憶回路の最終段のレジスタの出力信号との論理和を取るオアゲートを有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記12)
付記10または11に記載の電気フューズ切断制御回路を複数組並列に設け、該各組の前記切断完了判定回路の出力信号の論理和を取って切断完了判定信号を出力することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記13)
付記4〜8のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記N−1個のインクリメント回路は、それぞれ入出力値を2進表現化したインクリメント回路であり、初段のインクリメント回路の入力端子に与える初期値を設定可能としたことを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記14)
付記13に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記初期値の設定は、前記初段のインクリメント回路の入力端子に対して直接与える信号により行うことを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記15)
付記13に記載の電気フューズ切断制御回路において、さらに、
前記初期値を記憶する初期値記憶回路を有し、
前記初期値記憶回路に設定する前記初期値は、前記切断情報記憶回路に対する前記切断情報の設定と同時に行うことを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記16)
付記13〜15のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路において、さらに、
前記複数の電気フューズにおける切断が必要な電気フューズの全ての切断が完了したことを判定する切断完了判定回路を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記17)
付記16に記載の電気フューズ切断制御回路において、
前記切断完了判定回路は、
前記N−1個のインクリメント回路のうち、最終段のインクリメント回路の全てのビットの出力信号と、初段のインクリメント回路の全てのビットの初期値との排他的論理和を取る複数のEORゲート、並びに、
該複数のEORゲートの出力信号の論理和を取るオアゲートを有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記18)
付記16または17に記載の電気フューズ切断制御回路を複数組並列に設け、該各組の前記切断完了判定回路の出力信号の論理和を取って切断完了判定信号を出力することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
(付記19)
付記1〜18のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路と、
該電気フューズ切断制御回路により切断が制御される前記複数の電気フューズを含む電気フューズ回路と、
該電気フューズ回路により所定の設定が行われる内部回路と、を有することを特徴とする半導体装置。
(付記20)
付記19に記載の半導体装置において、前記電気フューズ回路は、さらに、
前記各電気フューズと直列に接続され、前記電気フューズ切断制御回路からの切断制御信号によってそれぞれオン/オフ制御される複数の切断回路を有することを特徴とする半導体装置。
1,1a〜1m 切断情報制御回路
3 シフトレジスタ(切断情報記憶回路)
4,4a〜4m 切断完了判定回路
5 シフトレジスタ(初期値記憶回路)
10 カウント回路
21〜2N;21a〜2Na,21b〜2Nb,…,21m〜2Nm 切断情報更新回路
31〜3N;31a〜3Na,31b〜3Nb,…,31m〜3Nm,;51〜5k;922〜92n スキャンフリップフロップ
81;811〜81N 切断回路
82;821〜82N 電気フューズ
101〜10N-1;101’〜10N-1’;101”〜10N-1” インクリメント回路
200,300,400,500,600,700,800,900,1001 電気フューズ切断制御回路
1000 半導体装置
1001 電気フューズ切断制御回路
1002 電気フューズ回路
1003 内部回路

Claims (10)

  1. 複数の電気フューズの切断を制御する電気フューズ切断制御回路であって、
    前記各電気フューズを切断するか否かの切断情報を記憶する切断情報記憶回路と、
    該切断情報記憶回路の出力信号を受け取って、前記電気フューズの同時切断数の上限に応じて前記複数の電気フューズの切断を制御する切断情報制御回路と、
    前記切断情報制御回路の出力信号を受け取って、前記切断された電気フューズの情報に基づいて前記切断情報記憶回路に設定された前記切断情報を更新する切断情報更新回路と、を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  2. 請求項1に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記切断情報制御回路は、前記同時切断数上限ごとに前記電気フューズの同時切断を行うように制御することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  3. 請求項2に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記切断情報制御回路は、前記同時切断数上限に対応した入出力端子を有する複数のインクリメント回路を含むカウント回路を有し、
    前記複数のインクリメント回路は、前記切断された電気フューズの情報に基づいてインクリメントされることを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  4. 請求項3に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記カウント回路は、前記電気フューズの総数をNとしたとき、N−1個のインクリメント回路を有することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  5. 請求項4に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記切断情報記憶回路は、前記電気フューズの総数に対応したN個のレジスタを有し、該各レジスタは、対応する前記各電気フューズを切断する必要があるか否かの切断情報を設定することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  6. 請求項5に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記切断情報更新回路は、前記レジスタに対応してN個設けられ、
    該各切断情報更新回路は、切断処理が行われた前記電気フューズの情報に基づいて前記レジスタに記憶された前記切断情報を変更することを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  7. 請求項4〜6のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記N−1個のインクリメント回路のうち、初段のインクリメント回路の入力端子に対して論理『0』の初期値を与えることを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  8. 請求項4〜6のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路において、
    前記N−1個のインクリメント回路は、それぞれ入出力値を2進表現化したインクリメント回路であり、初段のインクリメント回路の入力端子に与える初期値を設定可能としたことを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  9. 請求項8に記載の電気フューズ切断制御回路において、さらに、
    前記初期値を記憶する初期値記憶回路を有し、
    前記初期値記憶回路に設定する前記初期値は、前記切断情報記憶回路に対する前記切断情報の設定と同時に行うことを特徴とする電気フューズ切断制御回路。
  10. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の電気フューズ切断制御回路と、
    該電気フューズ切断制御回路により切断が制御される前記複数の電気フューズを含む電気フューズ回路と、
    該電気フューズ回路により所定の設定が行われる内部回路と、を有することを特徴とする半導体装置。
JP2009074935A 2009-03-25 2009-03-25 電気フューズ切断制御回路および半導体装置 Expired - Fee Related JP5299014B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009074935A JP5299014B2 (ja) 2009-03-25 2009-03-25 電気フューズ切断制御回路および半導体装置
US12/728,428 US8278990B2 (en) 2009-03-25 2010-03-22 Electric fuse cutoff control circuit renewing cutoff information and semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009074935A JP5299014B2 (ja) 2009-03-25 2009-03-25 電気フューズ切断制御回路および半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010232719A JP2010232719A (ja) 2010-10-14
JP5299014B2 true JP5299014B2 (ja) 2013-09-25

Family

ID=42783392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009074935A Expired - Fee Related JP5299014B2 (ja) 2009-03-25 2009-03-25 電気フューズ切断制御回路および半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8278990B2 (ja)
JP (1) JP5299014B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110012401A (ko) * 2009-07-30 2011-02-09 주식회사 하이닉스반도체 퓨즈 정보 검출 회로
KR20120126653A (ko) * 2011-05-12 2012-11-21 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 그를 포함하는 반도체 패키지 시스템
KR101811303B1 (ko) * 2011-07-26 2017-12-26 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 집적회로 및 그의 구동 방법
US10304645B2 (en) * 2015-12-09 2019-05-28 Fuji Electric Co., Ltd. Trimming apparatus

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100370232B1 (ko) * 1999-04-28 2003-01-29 삼성전자 주식회사 결함 셀을 리던던시 셀로의 대체를 반복 수행할 수 있는 리던던시 회로
US6519202B1 (en) * 2001-06-29 2003-02-11 Virage Logic Corporation Method and apparatus to change the amount of redundant memory column and fuses associated with a memory device
US7089136B2 (en) * 2003-07-18 2006-08-08 International Business Machines Corporation Method for reduced electrical fusing time
GB0419465D0 (en) * 2004-09-02 2004-10-06 Cavendish Kinetics Ltd Method and apparatus for programming and reading codes
US7110313B2 (en) * 2005-01-04 2006-09-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Multiple-time electrical fuse programming circuit
JP4614775B2 (ja) 2005-01-14 2011-01-19 パナソニック株式会社 電気ヒューズ回路
JP2006294096A (ja) * 2005-04-07 2006-10-26 Elpida Memory Inc ヒューズ検出方法、及びヒューズ検出回路を備えた半導体記憶装置
US7577930B2 (en) * 2005-06-23 2009-08-18 Apple Inc. Method and apparatus for analyzing integrated circuit operations
JP2007048394A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気ヒューズモジュールを備えた半導体記憶装置
JP4884077B2 (ja) * 2006-05-25 2012-02-22 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US7675313B1 (en) * 2006-08-03 2010-03-09 Lattice Semiconductor Corporation Methods and systems for storing a security key using programmable fuses
KR100800383B1 (ko) * 2006-08-18 2008-02-01 삼성전자주식회사 시프트 레지스터 및 시프트 레지스터에 전기적 퓨즈를적용하는 방법
KR101562985B1 (ko) * 2009-02-25 2015-10-23 삼성전자주식회사 반도체 장치 및 그것의 퓨즈 프로그램 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US8278990B2 (en) 2012-10-02
US20100244933A1 (en) 2010-09-30
JP2010232719A (ja) 2010-10-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20060113567A1 (en) Semiconductor integrated circuit and method of producing same
JP5137408B2 (ja) 電気ヒューズ回路
US7512031B2 (en) Semiconductor device including voltage level conversion output circuit
US7200025B2 (en) Semiconductor memory device
US7864620B1 (en) Partially reconfigurable memory cell arrays
JP5299014B2 (ja) 電気フューズ切断制御回路および半導体装置
JP2008097785A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
US7426254B2 (en) Shift register comprising electrical fuse and related method
US20050125707A1 (en) Digital reliability monitor having autonomic repair and notification capability
TWI292576B (en) Redundancy circuit for nand flash memory device
US9548135B2 (en) Method and apparatus for determining status element total with sequentially coupled counting status circuits
US20190287610A1 (en) Memory circuit and electronic device
JP2017216611A (ja) 半導体装置
CN115618782B (zh) 局部降电压的集成电路物理实现方法、装置和计算机设备
KR20140139189A (ko) 반도체 장치 및 반도체 메모리 장치
CN113177007B (zh) 一种基于偏差补偿的高可靠ArbiterPUF电路
US11004522B2 (en) Fail bit number counting circuit and non-volatile semiconductor storage device
CN109614275B (zh) 冗余修正电路及应用其的冗余修正方法
KR20070018710A (ko) 반도체 집적회로
US7038965B2 (en) Pointer generator for stack
US20130039114A1 (en) Writing circuit, semiconductor integrated circuit and writing method
JP4510498B2 (ja) 半導体集積回路
JP2006127570A (ja) 不揮発性半導体記憶装置およびその製造方法
US20240194683A1 (en) Semiconductor integrated circuit, layout design system, layout designing method, and non-transitory computer-readable storage medium storing program
JP2014186762A (ja) 半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111027

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130305

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130426

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130521

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130603

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5299014

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees