JP4580860B2

JP4580860B2 - 成膜装置

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Publication number: JP4580860B2
Application number: JP2005319840A
Authority: JP
Inventors: 雅朗浅野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2005-11-02
Filing date: 2005-11-02
Publication date: 2010-11-17
Anticipated expiration: 2025-11-02
Also published as: JP2007126703A

Description

本発明は、処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置に関し、特に、ディスプレイパネル用の大サイズの、ガラス基板をベース基板とする処理基板を、キャリアに搭載して立てた状態で、インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、処理基板の一面側に電極用のＩＴＯ膜をスパッタ成膜する、スパッタ装置と、これに用いられるスパッタ装置用キャリアに関する。

近年、情報化社会への進展が著しく、ディスプレイ装置の使用も多様化し、種々のディスプレイ装置が開発、実用化されている。
特に、液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−ＲａｙＴｕｂｅ、ブラウン管) に代わり、広く普及されるようになってきた。
液晶表示装置用のカラー表示用の液晶パネルは、簡単には、バックライトからの光が各色の着色層を通過して表示されるが、各色の着色層を通過する光は、画素毎に液晶をスイッチング素子としてオン−オフ制御されている。
そして、この画素毎に液晶をスイッチング素子としてオン−オフ制御するための制御用電極の材質としては、従来から、透明導電性のＩＴＯ膜（錫をドープしたインジウム酸化物）が用いられている。
ＩＴＯ膜の成膜方法としては、ＩＴＯ焼結体をターゲットとし、所定のスパッタリング条件の下で基板上にＩＴＯをスパッタリングすることにより、所望のＩＴＯ膜を形成する方法が、特開平６−２４８２６号公報（特許文献１）、特開平６−２４７７６５号公報（特許文献２）等にて知られている。
特開平６−２４８２６号公報特開平６−２４７７６５号公報

生産性向上の面、低コスト化の面等から、面付け生産が行われているが、これに用いられる透明なガラス基板の大型化の要求は強く、最近では、Ｇ６世代（１８００ｍｍ×１５００ｍｍサイズ）サイズの大サイズのガラス基板での量産化が現実のものとなってきている。
そして、生産性の面から、このような、大サイズのガラス基板を用いた処理基板へのＩＴＯ膜の成膜をインラインで行う、図６（ａ）にその概略構成配置図を示すような、インラインＩＴＯスパッタ成膜装置も提案されている。
ここに示すスパッタ装置においては、図６（ｂ）に示すように、大サイズのガラス基板をベース基板とする処理基板８６３を、キャリア８６０に搭載して鉛直方向８９２に立てた状態で、インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、処理基板８６３の一面側に電極用のＩＴＯ膜をスパッタ成膜する。
簡単には、処理基板８６３は、ローディングチャンバー８１１に投入され、予備チャンバー８１２を経て、第１のスパッタチャンバー８８３に投入され、搬送されながらスパッタ処理され、回転処理部８２０に搬入され、ここで、回転部によりキャリアごと１８０度回転され、向きを変え、第２のスパッタチャンバー８３３に投入され、搬送されながらスパッタ処理される。
そして、スパッタ後、予備チャンバー８３２、アンローディングチャンバー８３１を経て搬出される。
ここでは、図６（ｂ）に示すように、キャリア（基板ホールダとも言う）８６０と呼ばれる、処理基板８６３を保持するための枠体８６１を有するサポート部材に、処理基板８６３を載せた状態で、キャリア８６０ごと立てた状態で搬送する。
キャリア８６０は、枠体８６１に、順に、処理基板８６３、裏板８６１を嵌め込み、処理基板８６３を保持する処理基板保持部１０１を備えたものであり、処理基板８６３は、鉛直方向８９２に沿うように立てた状態でキャリア８６０の処理基板保持部１０１にはめ込まれている。
そして、図６（ａ）に示すように、処理基板８６３は、処理基板保持部１０１ごとキャリア８６０に搭載されて、水平方向８９１に搬送され、鉛直方向８９２に沿うように立てた状態で、ターゲット８７１と平行にして対向させてスパッタが行われる。
尚、図６（ａ）中、点線矢印は、キャリア８６０の搬送方向を示している。
図示していないが、ここでのスパッタ方式は、ターゲット８７１の裏面側（処理基板８６３側とは反対の側）に、外側磁極と内側磁極の間で磁場が閉じるように設計し、発生したプラズマをターゲット８７１近傍のみに存在するようにしているマグネトロンスパッタ方式のものである。
大サイズの処理基板として、例えば、大サイズの透明なガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタ（以下、ＣＦとも言う）として形成したカラーフィルタ形成基板を処理基板が挙げられ、この処理基板のＣＦ形成面側に、電極用のＩＴＯ膜を成膜する。

図６（ｂ）に示すキャリア８６０には、図示していない駆動用モーター（キャリア側のものではない）からの駆動力を歯車（図示していない）との噛み合わせで伝える溝を切った溝形成部８６８がその下部に設けられており、更に、歯車による磨耗を極力抑えるために、キャリア８６０の溝形成部８６８の進行方向両側、下側に平坦部を有する搬送支持レール８６６、８６７が、キャリアの荷重を支えるために設けられており、本体側にある前記の歯車とは異なるボビンのような回転体８６９にキャリア側の搬送支持レール８６６、８６８の平坦部が乗っかるようになっている。
キャリア８６０は、その下側に設けられた搬送支持レール８６６、８６７に保持されながら、溝形成部８６８にて駆動用モーターからの駆動力を歯車の噛み合わせで受けて、搬送される。
Ｇ６世代では、スパッタ処理する処理基板８６３とキャリ８６０アを併せた重量は１００ｋｇ程度となるため、どうしても磨耗が発生するためこのように、できるだけ、前記溝形成部２００と歯車との嵌合を少なくしている。
尚、キャリア８６０の材質としては重量の面、剛性の面から、Ｔｉが好ましく用いられる。
スパッタリングは、Ａｒガス雰囲気中、１０^-5ｔｏｒｒ〜１０^-2ｔｏｒｒ圧下で、プレート状にされた、成膜する膜組成のＩＴＯをターゲットとして用いて行う。
この場合、ＣＦを形成する着色層の耐熱性（ＣＦからの脱ガス）の面から、低温で成膜を行うことが求められている。
尚、このような、マグネトロンスパッタ方式で、低温スパッタには、例えば、Ｉｎ₂Ｏ₃、９０ｗ％＋ＳｎＯ₂、１０ｗ％組成の焼結したターゲット材を、厚さ８ｍｍ〜１５ｍｍとして用いる。
例えば、ターゲットとしては、Ｃｕプレートをバッキング材として、インジウム半田を接着層とし、つなぎ目は斜めにして、６枚の焼結ターゲット材をつなぎ合わせている。

このような、スパッタ装置においては、上記のように、キャリアの荷重を支えるための搬送支持レール８６６、８６７と回転体８６９とは、荷重がかかった状態で接触してキャリアをコロ搬送するため、接触箇所において磨耗カスが発生してしまう。
また、歯車２１０と溝形成部２００とは、互いに嵌合し、これを搬送駆動力とするため、ここでも磨耗カスが発生する。
特に、Ｇ６世代のサイズのガラス基板をベースとする処理基板では、スパッタ処理する処理基板８６３とキャリ８６０とを併せた重量は１００ｋｇ程度となるため、どうしても磨耗が発生する。
できるだけ、前記溝形成部２００と歯車２００との嵌合は少なくしている。
尚、キャリア８６０の材質としては重量の面、剛性の面から、Ｔｉが好ましく用いられる。

上記のように、近年、情報化社会への進展が著しく、ディスプレイ装置の使用も多様化し、特に、液晶表示装置が広く普及されるようになり、その生産性向上の面、低コスト化の面から、面付け生産が行われているが、これに用いられるガラス基板をベースとする処理の大型化の要求は強く、最近では、Ｇ６世代（１８００ｍｍ×１５００ｍｍサイズ）の大サイズの透明なガラス基板での量産化が現実のものとなってきている。
このような中、図６（ａ）に示すようなスパッタ装置においては、ターゲット８７１と処理基板８６３とを立てた状態で対向させて、搬送しながらスパッタ処理を行っているが、キャリアの搬送系において、磨耗カスがどうしても発生し、これが、品質面で問題となり、この対応が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置を提供しようとするものである。
特に、ターゲットと処理基板とを立てた状態で対向させてて、搬送しながらスパッタ処理を行う縦型のインラインスパッタ装置で、Ｇ６世代以上の大サイズの処理基板を、処理する場合において、強磁性体材料からなる磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができるスパッタ装置を提供しようとするものである。

本発明のスパッタ装置は、処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置であって、搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであることを特徴とするものである。
そして、上記の成膜装置であって、前記第１の磨耗カス吸着部は、磨耗カス発生箇所を遮蔽するように、あるいは磨耗カス発生箇所を遮蔽した下側に、その吸着用材を配するものであることを特徴とするものであり、前記磨耗カス発生箇所を遮蔽するように前記吸着用材を配して仕切った、仕切り部を局所排気することを特徴するものである。
また、上記いずれかの成膜装置であって、前記磨耗カス発生箇所の磨耗カス発生源が、マグネット材料で作成されていることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの成膜装置であって、ローディングチャンバーおよびアンローディングチャンバーの下部に、キャリアの搬送とともに運ばれてきた磨耗カスで、ローディングあるいはアンローディングの際の真空圧の変化により下側に落ちる磨耗カスを磁気により吸着する、第２の磨耗カス吸着部を備えているもので、該第２の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの成膜装置であって、処理基板をキャリアごと、キャリアとは別体の歯車を駆動源として、コロ搬送されるもので、該キャリアは、その下部にコロ搬送用のレールと、前記歯車と嵌合する嵌合歯部を直線状に設けており、該嵌合歯部から搬送のための駆動力を得て、コロ搬送されるものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれかの成膜装置であって、前記処理基板が、ガラス基板をベース基板とし、該ガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタとして形成したカラーフィルタ形成基板で、該カラーフィルタ形成面側にＩＴＯ膜をスパッタ成膜するスパッタ装置であることを特徴とするものである。

（作用）
本発明のスパッタ装置は、このような構成にすることにより、処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置の提供を可能としている。
特に、ターゲットと処理基板とを立てた状態で対向させてて、搬送しながらスパッタ処理を行う縦型のインラインスパッタ装置で、Ｇ６世代以上の大サイズの処理基板を、処理する場合において、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができるスパッタ装置の提供を可能としている。
具体的には、搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであることにより、これを達成している。
詳しくは、第１の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであり、吸着用材の形状としては種々の形状をとることができる。
また、ただマグネットを接して配するだけで容易に磨耗カスを吸着できる。
具体的には、第１の磨耗カス吸着部は、磨耗カス発生箇所を遮蔽するように、あるいは磨耗カス発生箇所を遮蔽した下側に、その吸着用材を配するものである、請求項２の発明の形態が挙げられる。
磨耗カス発生箇所を遮蔽するように吸着材を配する場合は、確実に磨耗カス発生箇所からの磨耗カスの分散を防止できる。
勿論、磨耗カス発生箇所を遮蔽する遮蔽物が第１の磨耗カス吸着部ではなくても、磨耗カス発生箇所を遮蔽した下側に、その吸着用材を配することにより、確実に磨耗カス発生箇所からの磨耗カスの分散を防止できる。
請求項２の発明において、前記磨耗カス発生箇所を遮蔽するように前記吸着用材を配して仕切った、仕切り部を局所排気する、請求項３の発明の形態とすることにより、仕切り部をその外部より低圧とし、磨耗カスが仕切り部の外への流出を効果的に防止できる。
そして、前記磨耗カス発生箇所の磨耗カス発生源が、マグネット材料で作成されている、請求項４の発明の形態とすることにより、磨耗カスが、磁石なので、成膜装置のチャンバーや成膜の際の防着板に吸着して、成膜されるガラス基板に付着する確率を低減することが可能である。
また、ローディングチャンバーおよびアンローディングチャンバーの下部に、第２の磨耗カス吸着部を配する、請求項５の発明の形態とすることにより、ローディングあるいはアンローディングの際の真空圧の変化により下側に落ちる磨耗カスを吸着でき、キャリア繰り返し使用での品質の低下を防止できるものとしている。
そして、処理基板をキャリアごと、キャリアとは別体の歯車を駆動源として、コロ搬送される請求項６の発明の形態とすることにより、Ｇ６世代のサイズのガラス基板をベース基板とする処理基板の搬送のように、キャリアと処理基板とをあわせた荷重が大きい場合においても、その搬送を可能とするものである。
処理基板が、ガラス基板をベース基板とし、該ガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタとして形成したカラーフィルタ形成基板で、該カラーフィルタ形成面側にＩＴＯ膜をスパッタ成膜するスパッタ装置である、請求項７の発明の形態が挙げられるが、量産性や、品質面で、有効である。

本発明は、上記のように、処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置の提供を可能とした。
そして、特に、ターゲットと処理基板とを立てた状態で対向させてて、搬送しながらスパッタ処理を行う縦型のインラインスパッタ装置で、Ｇ６世代以上の大サイズの、ガラス基板をベース基板とし、該ガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタとして形成したカラーフィルタ形成基板を処理基板として、スパッタ処理する場合において、搬送系の強磁性体材料からなる磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができるスパッタ装置の提供を可能とした。

本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明のスパッタ装置の実施の形態の１例の歯車嵌合磨耗箇所における第１の磨耗カス吸着部を示したもので、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１側からみた図で、図２（ａ）は本発明のスパッタ装置の実施の形態の１例のコロ搬送の磨耗箇所における第１の磨耗カス吸着部を示したもので、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ１側からみた図で、図３はローディングチャンバー内に配置した第２の磨耗カス吸着部を示した図で、図４（ａ）はキャリアと搬送用の回転ロールを示した概略断面図で、図４（ｂ）は図４（ａ）のＣ１方向からみた、キャリアと搬送駆動用の歯車を示した図で、図５はターゲットとキャリアの対向状態を示した断面図である。
尚、図１、図２は、第１の磨耗カス吸着部の吸着用材を透視して歯車等を示した図である。
また、図４においては、キャリアの他にも回転ローラや歯車を示している。
図１〜図５中、１０は第１の磨耗カス吸着部、１１は吸着用材、１２はマグネット、１５は第２の磨耗カス吸着部、２０はターゲット、２１は遮蔽板、２２はバッキングプレート、２３は保持部、３０はローディングチャンバー、３１はチャンバー室、３２は壁部、１００はキャリア、１０１は処理基板保持部、１１０は枠体、１２０は裏板、１３０は処理基板、１５０は支持部、１６１、１６２は位置決め回転ロール、１６１ａ、１６２ａは軸、１７１、１７２は搬送支持レール（単に支持部とも言う）、１９０は回転ロール（回転体とも言う）、１９０ａは軸、２００は溝形成部、２１０は歯車である。

はじめに、本発明のスパッタ装置の実施の形態の１例を、図に基づいて説明する。
本例のスパッタ装置は、ディスプレイパネル用のＧ６世代サイズ（１８００ｍｍ×１５００ｍｍサイズ）以上の大サイズの透明なガラス基板をベース基板とする処理基板１３０を、キャリアに搭載して立てた状態で、インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、処理基板の一面側に電極用のＩＴＯ膜をスパッタ成膜する、マグネトロンスパッタ方式のスパッタ装置で、図６に示す各部の構成配列と同じ構成配列のスパッタ装置である。
本例は、スパッタ処理の際には、処理基板１３０を図４（ａ）に示すキャリア１００に搭載し、図５に示すように、処理基板１３０の成膜する側の面とターゲット１０とを、平行に対向させ、搬送しながら、スパッタ処理を行うものである。
特に、搬送系において発生する強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気吸着する、磨耗カス吸着部を備えたものである。
本例のスパッタ装置において、キャリア１００は、図４に示すように、枠体１１０に、順に、処理基板１３０、裏板１２０を嵌め込み、処理基板１３０を保持する処理基板保持部１０１を備えている。
ここでは、処理基板１３０として、Ｇ６世代サイズの透明なガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタとして形成したカラーフィルタ形成基板を用い、そのカラーフィルタ形成面側にＩＴＯ膜をスパッタ成膜するものである。

本例にでは、図１に示すように、搬送系において、歯車２１０と溝形成部２００とが嵌合する歯車嵌合磨耗箇所に、強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気吸着する第１の磨耗カス吸着部１０を設けている。
ここでは、磨耗カス発生箇所の側面と下部を覆うように磁性体からなる吸着用材１１を配し、吸着用材の下側の内面上にマグネット１２を配して、第１の磨耗カス吸着部１０としている。
このように、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配していることにより、磁性体からなる吸着用材１１は磁気を帯び、強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着する。
また、本例では、その搬送系において、回転体１９０が、回転しながら、キャリア１００下部の搬送レール１７１、１７２を、その荷重を支持して搬送するため、この搬送レール１７１、１７２と接触して磨耗カスを発生させるが、図２に示すように、回転体１９０の側面と下部を覆うように、強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気吸着する第１の磨耗カス吸着部１０を設けている。
ここでも、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配していることにより、磁性体からなる吸着用材１１は磁気を帯び、強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着する。

また、本例では、図３に示すように、ローディングチャンバー３０の下部に、キャリア（図４の１００）の搬送とともに運ばれてきた磨耗カスで、ローディングの際の真空圧の変化により下側に落ちる磨耗カスを磁気により吸着する、第２の磨耗カス吸着部１５を備えている。
第２の磨耗カス吸着部１５も、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたもので、ここでも、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配していることにより、磁性体からなる吸着用材１１は磁気を帯び、強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着する。
また、図示していないが、本例においては、アンローディングチャンバーの下部にも、キャリアの搬送とともに運ばれてきた磨耗カスで、アンローディングの際の真空圧の変化により下側に落ちる磨耗カスを磁気により吸着する、上記と同様の、第２の磨耗カス吸着部１５を備えている。

尚、ターゲット１０としては、ここでは、例えば、Ｉｎ₂Ｏ₃、９０ｗ％＋ＳｎＯ₂、１０ｗ％組成の焼結したターゲット材を、厚さ８ｍｍ〜１５ｍｍとしたものを用いるが、サイズを大とするために、Ｃｕプレートをバッキング材として、インジウム半田を接着層とし、複数枚の焼結ターゲット材をつなぎ合わせて四角状にしている。
そして、スパッタリングは、Ａｒガス雰囲気中、１０^-5ｔｏｒｒ〜１０^-2ｔｏｒｒ圧下で、プレート状にされた、成膜する膜組成のＩＴＯをターゲットとして用いて行う。
この場合、ＣＦを形成する着色層の耐熱性（ＣＦからの脱ガス）の面から、低温で成膜を行う。

本例のスパッタ装置は、図６に示されるスパッタ装置と同じように、搬送されながらスパッタ処理を行うもので、各チャンバーの配置や処理基板の搬入から搬出までの流れは、基本的に、図６（ａ）に示されるスパッタ装置と同じである。
本例におけるキャリア１００は、図６（ｂ）に示すキャリア８６０と同じである。
キャリア１００の搬送も、基本的には図６に示されるスパッタ装置と同じで、図４に示すように、駆動用モーターからの駆動力を歯車２１０との噛み合わせで伝える溝を切った溝形成部２００が、キャリア１００下部に設けられており、更に、歯車２１０による磨耗を極力抑えるために、キャリア１００の溝形成部２００の進行方向両側、下側に、平坦部を有する搬送支持レール１７１、１７２が、キャリアの荷重を支えるために設けられており、本体側にある前記の歯車２１０とは異なるボビンのような回転体１９０にキャリア側の搬送支持レール１７１、１７２の平坦部が乗っかるようになっている。
本例においては、このような回転体１９０、歯車２１０を、搬送路に沿い複数配置して搬送を行う。

本例のスパッタ装置においては、簡単には、処理基板１３０（図６の８６３に相当）は、ローディングチャンバー（図６の８１１に相当）に投入され、予備チャンバー（図６の８１２に相当）を経て、第１のスパッタチャンバー（図６の８１３に相当）に投入され、搬送されながらスパッタ処理され、回転処理部（図６の８２０に相当）に搬入され、ここで、回転部によりキャリアごと１８０度回転され、向きを変え、第２のスパッタチャンバー（図６の８３３に相当）に投入され、搬送されながらスパッタ処理される。
そして、スパッタ後、予備チャンバー（図６の８３２に相当）、アンローディングチャンバー（図６の８３１に相当）を経て搬出される。
尚、各チャンバーの境には、機械的な仕切りがあり、各仕切りの開放は、両側のチャンバーの真空度を同じ程度にして行う。
また、処理基板保持部１０１の枠体１１０他各部の材質については、剛性が大きく、強固で、軽いものが好ましく、Ｔｉやステンレスが挙げられる。

本例のスパッタ装置は１例で、本発明は、これに限定されるものではない。
図１に示す本例の第１の磨耗カス吸着部１０、第２の磨耗カス吸着部１５の構造を、他の形態のマグネトロン方式のスパッタ装置に、適用する形態が挙げられる。
また、処理基板１３０、タゲット１０を鉛直方向から傾けた状態、あるいは水平にして、互いに平行に対向した状態でスパッタを行う形態も挙げられる。
勿論、図６に示す各部の構成配置を直線的に設けた形態としても良い。

また、本例のスパッタ装置の変形例として、本例において、図１、図２に示す第１の磨耗カス吸着部１０の構造に代え、磨耗カス発生箇所の上側も覆うように吸着用材１１を配した構造のものも挙げられる。
更に、磨耗カス発生箇所を遮蔽するように前記吸着用材を配して仕切った、仕切り部を構成し、該仕切り部を局所排気する形態も挙げられる。
この場合、該仕切り部をその外部より低圧とでき、磨耗カスが仕切り部の外への流出を効果的に防止できる。
また、磨耗カス発生箇所の磨耗カス発生源が、マグネット材料で作成されている形態も挙げられる。
この場合、磨耗カスが、磁石なので、成膜装置のチャンバーや成膜の際の防着板に吸着して、成膜されるガラス基板に付着する確率を低減することが可能である。

図１（ａ）は本発明のスパッタ装置の実施の形態の１例の歯車嵌合磨耗箇所における第１の磨耗カス吸着部を示したもので、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１側からみた図である。図２（ａ）は本発明のスパッタ装置の実施の形態の１例のコロ搬送の磨耗箇所における第１の磨耗カス吸着部を示したもので、図２（ｂ）は図２（ａ）のＢ１側からみた図である。ローディングチャンバー内に配置した第２の磨耗カス吸着部を示した図である。図４（ａ）はキャリアと搬送用の回転ロールを示した概略断面図で、図４（ｂ）は図４（ａ）のＣ１方向からみた、キャリアと搬送駆動用の歯車を示した図である。ターゲットとキャリアの対向状態を示した断面図である。図６（ａ）はインライン型のＩＴＯスパッタ成膜装置の概略構成配置図で、図６（ｂ）は図６（ａ）に示すＩＴＯスパッタ成膜装置に用られるキャリアを示した図である。

符号の説明

１０第１の磨耗カス吸着部
１１吸着用材
１２マグネット
１５第２の磨耗カス吸着部
２０ターゲット
２１遮蔽板
２２バッキングプレート
２３保持部
３０ローディングチャンバー
３１チャンバー室
３２壁部
１００キャリア
１０１処理基板保持部
１１０枠体
１２０裏板
１３０処理基板
１５０支持部
１６１、１６２位置決め回転ロール
１６１ａ、１６２ａ軸
１７１、１７２搬送支持レール（単に支持部とも言う）
１９０回転ロール（回転体とも言う）
１９０ａ軸
２００溝形成部
２１０歯車
８１１ローディングチャンバー
８１２予備チャンバー
８１３スパッタチャンバー
８２０回転処理部
８２１回転部
８３１アンローディングチャンバー
８３２予備チャンバー
８３３スパッタチャンバー
８４１〜８４３チャンバー仕切り
８４１ａ〜８４３ａチャンバー仕切り
８６０、８６０ａキャリア
８６０Ａ基板保持部
８６１枠体
８６２裏板（押さえ板とも言う）
８６３処理基板
８６４支持部
８６５位置決回転ローラ
８６５ａ、８６５ｂ軸
８６６、８６７支持部（搬送用支持部）
８６８溝形成部
８６９回転ローラ（回転部とも言う）
８６９ａ軸
８７１ターゲット
８９１水平方向
８９２鉛直方向

Claims

処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置であって、搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであることを特徴とする成膜装置。
請求項１に記載の成膜装置であって、前記第１の磨耗カス吸着部は、磨耗カス発生箇所を遮蔽するように、あるいは磨耗カス発生箇所を遮蔽した下側に、その吸着用材を配するものであることを特徴とする成膜装置。
請求項２に記載の成膜装置であって、前記磨耗カス発生箇所を遮蔽するように前記吸着用材を配して仕切った、仕切り部を局所排気することを特徴する成膜装置。
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の成膜装置であって、前記磨耗カス発生箇所の磨耗カス発生源が、マグネット材料で作成されていることを特徴とする成膜装置。
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の成膜装置であって、ローディングチャンバーおよびアンローディングチャンバーの下部に、キャリアの搬送とともに運ばれてきた磨耗カスで、ローディングあるいはアンローディングの際の真空圧の変化により下側に落ちる磨耗カスを磁気により吸着する、第２の磨耗カス吸着部を備えているもので、該第２の磨耗カス吸着部は、磁性体材料からなる吸着用材に接してマグネットを配して、該吸着用材に磁気を帯びさせたものであることを特徴とする成膜装置。
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の成膜装置であって、処理基板をキャリアごと、キャリアとは別体の歯車を駆動源として、コロ搬送されるもので、該キャリアは、その下部にコロ搬送用のレールと、前記歯車と嵌合する嵌合歯部を直線状に設けており、該嵌合歯部から搬送のための駆動力を得て、コロ搬送されるものであることを特徴とする成膜装置。
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の成膜装置であって、前記処理基板が、ガラス基板をベース基板とし、該ガラス基板の一面側に各色の着色層をカラーフィルタとして形成したカラーフィルタ形成基板で、該カラーフィルタ形成面側にＩＴＯ膜をスパッタ成膜するスパッタ装置であることを特徴とする成膜装置。