JPH0693474A - インライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置 - Google Patents
インライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置Info
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- JPH0693474A JPH0693474A JP24520392A JP24520392A JPH0693474A JP H0693474 A JPH0693474 A JP H0693474A JP 24520392 A JP24520392 A JP 24520392A JP 24520392 A JP24520392 A JP 24520392A JP H0693474 A JPH0693474 A JP H0693474A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 トレイの面を変形させる力が加わらないよう
に洗浄を行なえ、メンテナンス性の良いインライン型成
膜装置のトレイ洗浄装置を提供すること 【構成】 インライン型成膜装置のトレイの洗浄装置
を、成膜した基板１４を取り外したトレイ８をキャリヤ
９と共に収容する移動台車１５と、該トレイ及びキャリ
ヤを収容した移動台車全体が収まり且つ真空排気手段２
２と、エッチングガス導入手段２３と、プラズマ発生手
段２６又は加熱手段とを備えた洗浄室１６とで構成した 【効果】 トレイに変形を与えずにこれに付着した各種
の薄膜を除去でき、トレイをキャリヤから取り外す必要
がないので洗浄作業が簡単になる
に洗浄を行なえ、メンテナンス性の良いインライン型成
膜装置のトレイ洗浄装置を提供すること 【構成】 インライン型成膜装置のトレイの洗浄装置
を、成膜した基板１４を取り外したトレイ８をキャリヤ
９と共に収容する移動台車１５と、該トレイ及びキャリ
ヤを収容した移動台車全体が収まり且つ真空排気手段２
２と、エッチングガス導入手段２３と、プラズマ発生手
段２６又は加熱手段とを備えた洗浄室１６とで構成した 【効果】 トレイに変形を与えずにこれに付着した各種
の薄膜を除去でき、トレイをキャリヤから取り外す必要
がないので洗浄作業が簡単になる
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、インライン型のプラズ
マＣＶＤ装置やスパッタ装置などの量産型成膜装置に使
用されるトレイの洗浄装置に関する。
マＣＶＤ装置やスパッタ装置などの量産型成膜装置に使
用されるトレイの洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばインライン型プラズマＣＶ
Ｄ装置に於いては、図１に示すようなトレイの多数を用
意し、各トレイに基板を取り付けて該装置の複数の成膜
室に順次送り込み、基板に成膜を行なっている。図示の
例では、該トレイａは上方のレールｂに沿って移動する
車輪ｃを備えたキャリヤｄに吊り下げられ、該キャリヤ
ｄに設けたラックｅに係合するピニオン歯車ｆをモータ
（図示してない）により回転させると、該キャリヤｄが
トレイａと共に移動する。レールｂはインライン型に配
置された各成膜室とその前後に設けられる仕込室や取出
室に敷設され、ピニオン歯車ｆもキャリヤｄを移動させ
るためにこれらの各室に設けられる。トレイａには適当
な手段で基板ｇが取り付けられ、これの表面に薄膜が形
成される。
Ｄ装置に於いては、図１に示すようなトレイの多数を用
意し、各トレイに基板を取り付けて該装置の複数の成膜
室に順次送り込み、基板に成膜を行なっている。図示の
例では、該トレイａは上方のレールｂに沿って移動する
車輪ｃを備えたキャリヤｄに吊り下げられ、該キャリヤ
ｄに設けたラックｅに係合するピニオン歯車ｆをモータ
（図示してない）により回転させると、該キャリヤｄが
トレイａと共に移動する。レールｂはインライン型に配
置された各成膜室とその前後に設けられる仕込室や取出
室に敷設され、ピニオン歯車ｆもキャリヤｄを移動させ
るためにこれらの各室に設けられる。トレイａには適当
な手段で基板ｇが取り付けられ、これの表面に薄膜が形
成される。
【０００３】該トレイａは基板ｇを搭載して成膜室に入
るので、トレイａの表面にも薄膜が付着することにな
り、付着した薄膜は成膜中に剥落するとダストになって
基板の膜質を低下させる不都合があるのでこれを定期的
に洗浄して除去する必要がある。従来はこの除去のた
め、トレイａをキャリヤｄから取り外して別の場所へ移
動させ、そこでガラスビーズブラスト（ガラス粒子吹付
け法）や液体ホーニング或いは酸洗の処理により不用な
トレイａ上の薄膜を除去したのち、再度トレイａをキャ
リヤｄに取り付ける作業を行なっていた。
るので、トレイａの表面にも薄膜が付着することにな
り、付着した薄膜は成膜中に剥落するとダストになって
基板の膜質を低下させる不都合があるのでこれを定期的
に洗浄して除去する必要がある。従来はこの除去のた
め、トレイａをキャリヤｄから取り外して別の場所へ移
動させ、そこでガラスビーズブラスト（ガラス粒子吹付
け法）や液体ホーニング或いは酸洗の処理により不用な
トレイａ上の薄膜を除去したのち、再度トレイａをキャ
リヤｄに取り付ける作業を行なっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した薄膜の除去方
法によれば、比較的簡便に厚く付着した膜を除去できる
が、ガラスビーズブラストや液体ホーニングではトレイ
ａの面に機械的な圧力が加わるために、トレイａが変形
し易く、また酸洗ではSiO2、SiNx膜は除去できるが、a-
Si、poly-Si膜は容易には除去できないという欠点があ
った。特に、大型のプラズマＣＶＤ装置の場合には、ト
レイの変形に伴い基板の位置が正確に決まらず、その変
形のために基板に成膜された膜の膜厚分布が大きく変わ
るので、トレイの変形に対して充分な配慮が必要であっ
た。また、大型プラズマＣＶＤ装置のトレイは一般に薄
板またはフレームにより構成されるので、キャリヤから
取り外して移動する際にも変形することがあった。従っ
て、一連のトレイ洗浄工程でトレイの面に対して垂直方
向の力が加わらないようにすることが望まれる。
法によれば、比較的簡便に厚く付着した膜を除去できる
が、ガラスビーズブラストや液体ホーニングではトレイ
ａの面に機械的な圧力が加わるために、トレイａが変形
し易く、また酸洗ではSiO2、SiNx膜は除去できるが、a-
Si、poly-Si膜は容易には除去できないという欠点があ
った。特に、大型のプラズマＣＶＤ装置の場合には、ト
レイの変形に伴い基板の位置が正確に決まらず、その変
形のために基板に成膜された膜の膜厚分布が大きく変わ
るので、トレイの変形に対して充分な配慮が必要であっ
た。また、大型プラズマＣＶＤ装置のトレイは一般に薄
板またはフレームにより構成されるので、キャリヤから
取り外して移動する際にも変形することがあった。従っ
て、一連のトレイ洗浄工程でトレイの面に対して垂直方
向の力が加わらないようにすることが望まれる。
【０００５】本発明は、トレイの面を変形させる力が加
わらないように洗浄を行なえ、作業性の良いインライン
型成膜装置のトレイ洗浄装置を提供することを目的とす
るものである。
わらないように洗浄を行なえ、作業性の良いインライン
型成膜装置のトレイ洗浄装置を提供することを目的とす
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明では、複数の成膜
室に基板を取付けたトレイを順次移動させて該基板に成
膜を施すインライン型成膜装置に於て、成膜した基板を
取り外したトレイを収容する移動台車と、該トレイを収
容した移動台車全体が収まり且つ真空排気手段とエッチ
ングガス導入手段と、プラズマ発生手段又はトレイ及び
キャリヤの加熱手段とを備えた洗浄室とで構成すること
により、上記の目的を達成するようにした。
室に基板を取付けたトレイを順次移動させて該基板に成
膜を施すインライン型成膜装置に於て、成膜した基板を
取り外したトレイを収容する移動台車と、該トレイを収
容した移動台車全体が収まり且つ真空排気手段とエッチ
ングガス導入手段と、プラズマ発生手段又はトレイ及び
キャリヤの加熱手段とを備えた洗浄室とで構成すること
により、上記の目的を達成するようにした。
【０００７】
【作用】基板の成膜に伴う薄膜が除去しなければならな
い程度にトレイに付着すると、基板を取り外したトレイ
をキャリヤと共にインライン型成膜装置の付近に待機さ
せた移動台車に移し変える。インライン型成膜装置には
多数のトレイ及びキャリヤが使用されており、そのうち
の幾つかのトレイを収容すると移動台車をそのまま洗浄
室内へ移動させ、洗浄室を密閉する。そして真空排気手
段により該洗浄室内を真空に排気した後、エッチングガ
ス導入手段からトレイに付着した膜をエッチングにより
除去するに適したエッチングガスを導入し、これをプラ
ズマ発生手段でプラズマ化してトレイに付着した薄膜を
エッチングにより除去する。また、エッチングガスの種
類によっては、該プラズマ発生手段の代りに加熱手段で
トレイ及びキャリヤを加熱し、これらに付着した薄膜を
化学エッチングにより除去する。該移動台車がトレイを
キャリヤと共に洗浄室内へ移送し、そのままトレイを洗
浄するので、トレイの面を変形させるような力が加わる
ことがなく、トレイをキャリヤから取り外す必要がない
ので作業性も向上する。
い程度にトレイに付着すると、基板を取り外したトレイ
をキャリヤと共にインライン型成膜装置の付近に待機さ
せた移動台車に移し変える。インライン型成膜装置には
多数のトレイ及びキャリヤが使用されており、そのうち
の幾つかのトレイを収容すると移動台車をそのまま洗浄
室内へ移動させ、洗浄室を密閉する。そして真空排気手
段により該洗浄室内を真空に排気した後、エッチングガ
ス導入手段からトレイに付着した膜をエッチングにより
除去するに適したエッチングガスを導入し、これをプラ
ズマ発生手段でプラズマ化してトレイに付着した薄膜を
エッチングにより除去する。また、エッチングガスの種
類によっては、該プラズマ発生手段の代りに加熱手段で
トレイ及びキャリヤを加熱し、これらに付着した薄膜を
化学エッチングにより除去する。該移動台車がトレイを
キャリヤと共に洗浄室内へ移送し、そのままトレイを洗
浄するので、トレイの面を変形させるような力が加わる
ことがなく、トレイをキャリヤから取り外す必要がない
ので作業性も向上する。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を図面に基づき説明すると、
図２は本発明の実施例の概略の平面図を示し、図３は図
２の側面図を示すもので、これの符号１は仕込室２と２
つの成膜室３、４と取出室５とを仕切バルブ６を介して
直線的に連結したインライン型成膜装置を示す。これら
の室２、３、４、５の内部の上方にはレール７が敷設さ
れ、該レール７は仕込室２の前方及び取出室５の後方に
も同じ高さ位置で敷設し、図示の例では取出室５の後方
のレール７を仕込室２の側方まで循環するようにした。
該レール７には図１に示したものと略同様の構成のトレ
イ８がキャリヤ９を介して吊り下げられ、レール７の上
方に設けた駆動用のピニオン歯車１０で移動される。
図２は本発明の実施例の概略の平面図を示し、図３は図
２の側面図を示すもので、これの符号１は仕込室２と２
つの成膜室３、４と取出室５とを仕切バルブ６を介して
直線的に連結したインライン型成膜装置を示す。これら
の室２、３、４、５の内部の上方にはレール７が敷設さ
れ、該レール７は仕込室２の前方及び取出室５の後方に
も同じ高さ位置で敷設し、図示の例では取出室５の後方
のレール７を仕込室２の側方まで循環するようにした。
該レール７には図１に示したものと略同様の構成のトレ
イ８がキャリヤ９を介して吊り下げられ、レール７の上
方に設けた駆動用のピニオン歯車１０で移動される。
【０００９】該トレイ８は、例えば厚さ８ｍｍで８００
×８００ｍｍの方形のＳＵＳ等の金属またはグラファイ
トで形成され、ハンガー１１により上面にラック１２を
備え側面には車輪１３を備えたキャリヤ９に吊るように
した。該トレイ８には成膜処理される１枚若しくは複数
枚の基板１４が取り付けられ、その取り付けは例えば図
４の示すようにトレイ８に段付きの基板の寸法に適合す
る穴３０を形成し、そこに基板１４を嵌め込んだのち裏
板１６を嵌め込んで固定するようにした。該基板１４は
トレイ８に仕込室２の前方で取り付けられ、該基板１４
に成膜されてインライン型成膜装置１を出たのち適当な
場所、例えば取出室５の後方で取り外される。図示の場
合、成膜室３では基板１４にSiNxの膜をプラズマＣＶＤ
により形成し、その膜の上に次の成膜室４でa-Siの膜を
プラズマＣＶＤにより形成するものとした。
×８００ｍｍの方形のＳＵＳ等の金属またはグラファイ
トで形成され、ハンガー１１により上面にラック１２を
備え側面には車輪１３を備えたキャリヤ９に吊るように
した。該トレイ８には成膜処理される１枚若しくは複数
枚の基板１４が取り付けられ、その取り付けは例えば図
４の示すようにトレイ８に段付きの基板の寸法に適合す
る穴３０を形成し、そこに基板１４を嵌め込んだのち裏
板１６を嵌め込んで固定するようにした。該基板１４は
トレイ８に仕込室２の前方で取り付けられ、該基板１４
に成膜されてインライン型成膜装置１を出たのち適当な
場所、例えば取出室５の後方で取り外される。図示の場
合、成膜室３では基板１４にSiNxの膜をプラズマＣＶＤ
により形成し、その膜の上に次の成膜室４でa-Siの膜を
プラズマＣＶＤにより形成するものとした。
【００１０】基板１４への成膜に伴いトレイ８に付着す
る膜が厚くなってこれを除去するときは、基板１４を取
り外したトレイ８をレール７の終端に待機させた移動台
車１５にキャリヤ９と共に搭載し、これを別の箇所に設
けた洗浄室１６に運び込む。該移動台車１５はキャスタ
ー１７を備えた４本の脚１８を持つ囲枠状のフレーム１
９で構成され、フレーム１９の空間上方には前記レール
７と同じ高さで複数本のレール２０を平行に設けるよう
にした。該移動台車１５は図３に示すように前記レール
７の終端で矢印方向へ少しずつ移動しながら人手で動か
されるトレイ８を複数枚受け取る。
る膜が厚くなってこれを除去するときは、基板１４を取
り外したトレイ８をレール７の終端に待機させた移動台
車１５にキャリヤ９と共に搭載し、これを別の箇所に設
けた洗浄室１６に運び込む。該移動台車１５はキャスタ
ー１７を備えた４本の脚１８を持つ囲枠状のフレーム１
９で構成され、フレーム１９の空間上方には前記レール
７と同じ高さで複数本のレール２０を平行に設けるよう
にした。該移動台車１５は図３に示すように前記レール
７の終端で矢印方向へ少しずつ移動しながら人手で動か
されるトレイ８を複数枚受け取る。
【００１１】洗浄室１６の詳細は図５に示す如くであ
り、真空ポンプに接続される真空排気口２２とエッチン
グガス導入口２３を備えた気密の室２４と、その内部の
高周波電源２５に接続された板状の高周波電極２６から
成るプラズマ発生手段とで構成され、移動台車１５は図
２に示す気密に閉じられる扉２７を介して室内へ搬入さ
れる。該高周波電極２６は、図５に示すように、移動台
車１５に吊した複数のトレイ８の間に介在する位置に複
数枚設け、各トレイ８の面と対向させることが好ましい
が、図６のように２枚の高周波電極２６の間にこれらと
垂直にトレイ８を設けるようにしてもよい。トレイ８の
面と高周波電極２６との間隔は２０ｍｍ程度離される。
２８は絶縁体、２９はベアリング等が設けられたキャリ
ヤ９にプラズマおよびラジカルが回り込むことを防止す
るアース板で室内に固定される。エッチングガスとして
は、基板１４に前記SiNxとa-Si膜を形成する場合にはSF
6ガスが使用される。尚、トレイ８の搬送方式は上記吊
り下げ式に限らず、キャリヤをレール上に走行させ、該
キャリヤ上にトレイを載置して搬送する形式に構成する
こともできる。
り、真空ポンプに接続される真空排気口２２とエッチン
グガス導入口２３を備えた気密の室２４と、その内部の
高周波電源２５に接続された板状の高周波電極２６から
成るプラズマ発生手段とで構成され、移動台車１５は図
２に示す気密に閉じられる扉２７を介して室内へ搬入さ
れる。該高周波電極２６は、図５に示すように、移動台
車１５に吊した複数のトレイ８の間に介在する位置に複
数枚設け、各トレイ８の面と対向させることが好ましい
が、図６のように２枚の高周波電極２６の間にこれらと
垂直にトレイ８を設けるようにしてもよい。トレイ８の
面と高周波電極２６との間隔は２０ｍｍ程度離される。
２８は絶縁体、２９はベアリング等が設けられたキャリ
ヤ９にプラズマおよびラジカルが回り込むことを防止す
るアース板で室内に固定される。エッチングガスとして
は、基板１４に前記SiNxとa-Si膜を形成する場合にはSF
6ガスが使用される。尚、トレイ８の搬送方式は上記吊
り下げ式に限らず、キャリヤをレール上に走行させ、該
キャリヤ上にトレイを載置して搬送する形式に構成する
こともできる。
【００１２】洗浄すべきトレイ８の６枚が、キャリヤ９
と共にレール７の終端で待機する移動台車１５に積まれ
ると、移動台車１５を移動させて適宜箇所に設置した洗
浄室１６内に運び込み、該室内を真空に排気する。続い
てエッチングガスを導入して室内の圧力を調整した後、
高周波電源２５から電力を投入するとアース電位のトレ
イ８との間でプラズマ放電が発生し、プラズマ中に発生
するラジカルやイオンがトレイ８の表面へ突入してそこ
に付着した薄膜がトレイ８に変形を与えることなく除去
され、トレイ８の電極２６と対向した面が選択的に洗浄
される。８００×８００ｍｍのトレイ８に付着した薄膜
がSiNxとa-Si膜の積層膜で３０μｍの厚さである場合、
SF6のエッチングガスを導入して０．４Torrに調整し、
高周波電源２５から１３．５６MHz、２Kwの電力を導入
すると約３時間で完全に除去できた。トレイに付いたこ
の膜をガラスビーズブラストにより除去した場合のトレ
イの変形量と本発明装置を使用して除去した場合のトレ
イの変形量とを比較すると次表の通りである。 ＊数字はトレイ６枚の変形の最大と最小を示す。 ガラスビーズブラストの処理はトレイをキャリヤから取
り外し、横に重ねて移送して行なった。この結果から明
らかなように、ガラスビーズブラストではトレイの変形
量が基板の位置を狂わすほど大きいが、本発明装置で処
理したものは変形量を無視できることが分かる。
と共にレール７の終端で待機する移動台車１５に積まれ
ると、移動台車１５を移動させて適宜箇所に設置した洗
浄室１６内に運び込み、該室内を真空に排気する。続い
てエッチングガスを導入して室内の圧力を調整した後、
高周波電源２５から電力を投入するとアース電位のトレ
イ８との間でプラズマ放電が発生し、プラズマ中に発生
するラジカルやイオンがトレイ８の表面へ突入してそこ
に付着した薄膜がトレイ８に変形を与えることなく除去
され、トレイ８の電極２６と対向した面が選択的に洗浄
される。８００×８００ｍｍのトレイ８に付着した薄膜
がSiNxとa-Si膜の積層膜で３０μｍの厚さである場合、
SF6のエッチングガスを導入して０．４Torrに調整し、
高周波電源２５から１３．５６MHz、２Kwの電力を導入
すると約３時間で完全に除去できた。トレイに付いたこ
の膜をガラスビーズブラストにより除去した場合のトレ
イの変形量と本発明装置を使用して除去した場合のトレ
イの変形量とを比較すると次表の通りである。 ＊数字はトレイ６枚の変形の最大と最小を示す。 ガラスビーズブラストの処理はトレイをキャリヤから取
り外し、横に重ねて移送して行なった。この結果から明
らかなように、ガラスビーズブラストではトレイの変形
量が基板の位置を狂わすほど大きいが、本発明装置で処
理したものは変形量を無視できることが分かる。
【００１３】以上の実施例では洗浄を高周波電源２５に
接続された板状の高周波電極２６から成るプラズマ発生
手段で行なったが、エッチングガスの種類によっては該
プラズマ発生手段の代りに例えばDC或いはAC電源に接続
した面形ヒーター等の加熱手段を設け、トレイ及びキャ
リヤに付着した薄膜を化学エッチングにより洗浄するこ
とも可能である。例えば、前記のように、成膜室３で基
板１４にSiNxの膜をプラズマＣＶＤにより形成し、その
膜の上に次の成膜室４でa-Siの膜をプラズマＣＶＤによ
り形成する場合、エッチングガスとしてClF3をエッチン
グガス導入口２３から導入すれば、加熱手段により加熱
されたトレイ８及びキャリヤ９に付着する前記薄膜を化
学エッチングで除去することが出来る。この場合、該洗
浄室１６内の圧力がClF3分圧で３０Torr前後になるよう
にし、トレイを２５０℃に加熱すると、SiNxとa-Siの膜
厚が１００〜３００μｍであれば約２〜６時間で洗浄で
き、この処理後のトレイの変形量は０．１ｍｍ以下であ
った。
接続された板状の高周波電極２６から成るプラズマ発生
手段で行なったが、エッチングガスの種類によっては該
プラズマ発生手段の代りに例えばDC或いはAC電源に接続
した面形ヒーター等の加熱手段を設け、トレイ及びキャ
リヤに付着した薄膜を化学エッチングにより洗浄するこ
とも可能である。例えば、前記のように、成膜室３で基
板１４にSiNxの膜をプラズマＣＶＤにより形成し、その
膜の上に次の成膜室４でa-Siの膜をプラズマＣＶＤによ
り形成する場合、エッチングガスとしてClF3をエッチン
グガス導入口２３から導入すれば、加熱手段により加熱
されたトレイ８及びキャリヤ９に付着する前記薄膜を化
学エッチングで除去することが出来る。この場合、該洗
浄室１６内の圧力がClF3分圧で３０Torr前後になるよう
にし、トレイを２５０℃に加熱すると、SiNxとa-Siの膜
厚が１００〜３００μｍであれば約２〜６時間で洗浄で
き、この処理後のトレイの変形量は０．１ｍｍ以下であ
った。
【００１４】エッチングガスがClF3１００％の場合、洗
浄室１６内の圧力は１〜５０Torr、N2、Ar、He等でClF3
を稀釈する場合は、その稀釈度に応じて１〜７６０Torr
に調整する。またトレイの加熱温度を高めれば、エッチ
ング速度が早くなり、室温乃至３５０℃の範囲でトレイ
を加熱することが好ましい。
浄室１６内の圧力は１〜５０Torr、N2、Ar、He等でClF3
を稀釈する場合は、その稀釈度に応じて１〜７６０Torr
に調整する。またトレイの加熱温度を高めれば、エッチ
ング速度が早くなり、室温乃至３５０℃の範囲でトレイ
を加熱することが好ましい。
【００１５】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、イン
ライン型成膜装置に使用されるトレイの洗浄装置を、ト
レイをキャリヤと共に収容する移動台車と、該トレイ及
びキャリヤを収容した移動台車全体が収まり且つ真空排
気手段とエッチングガス導入手段と、プラズマ発生手段
又は加熱手段とを備えた洗浄室とで構成したので、トレ
イに変形を与えずにこれに付着した各種の薄膜を除去で
き、トレイをキャリヤから取り外す必要がないので洗浄
作業が簡単になる等の効果がある。
ライン型成膜装置に使用されるトレイの洗浄装置を、ト
レイをキャリヤと共に収容する移動台車と、該トレイ及
びキャリヤを収容した移動台車全体が収まり且つ真空排
気手段とエッチングガス導入手段と、プラズマ発生手段
又は加熱手段とを備えた洗浄室とで構成したので、トレ
イに変形を与えずにこれに付着した各種の薄膜を除去で
き、トレイをキャリヤから取り外す必要がないので洗浄
作業が簡単になる等の効果がある。
【図１】 従来のトレイ及びキャリヤの全体側面図
【図２】 本発明の実施例の全体概略平面図
【図３】 図２の全体概略側面図
【図４】 トレイの拡大断面図
【図５】 洗浄室の拡大截断側面図
【図６】 洗浄室の変形例の截断概略平面図
１ インライン型成膜装置 ７、２０ レール
８ トレイ ９ キャリヤ １３ 車輪
１４ 基板 １５ 移動台車 １６ 洗浄室
２２ 真空排気口 ２３ エッチングガス導入口 ２６ プラズマ発
生装置
８ トレイ ９ キャリヤ １３ 車輪
１４ 基板 １５ 移動台車 １６ 洗浄室
２２ 真空排気口 ２３ エッチングガス導入口 ２６ プラズマ発
生装置
フロントページの続き (72)発明者 伊東 一幸 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者 米崎 武 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者 橋本 征典 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者 白 忠烈 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者 中村 久三 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の成膜室に基板を取付けたトレイを
キャリヤにより順次移動させて該基板に成膜を施すイン
ライン型成膜装置に於て、成膜した基板を取り外したト
レイをキャリヤと共に収容する移動台車と、該トレイ及
びキャリヤを収容した移動台車全体が収まり且つ真空排
気手段とエッチングガス導入手段とプラズマ発生手段と
を備えた洗浄室とで構成したことを特徴とするインライ
ン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置。 - 【請求項２】 上記プラズマ発生手段の代りにトレイ及
びキャリアの加熱手段を備えたことを特徴とする請求項
１に記載のインライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装
置。 - 【請求項３】 上記トレイは成膜装置に設けたレールを
走行する車輪を備えたキャリヤに取付けられて移動し、
上記移動台車は複数本のレールを備えてその夫々にトレ
イを取付けたキャリヤを載せて洗浄室内へ移動すること
を特徴とする請求項１に記載のインライン型成膜装置に
於けるトレイ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04245203A JP3103997B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | インライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP04245203A JP3103997B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | インライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693474A true JPH0693474A (ja) | 1994-04-05 |
| JP3103997B2 JP3103997B2 (ja) | 2000-10-30 |
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ID=17130162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04245203A Expired - Fee Related JP3103997B2 (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | インライン型成膜装置に於けるトレイ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3103997B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126703A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 成膜装置 |
| JP2011168870A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及びメンテナンス方法 |
-
1992
- 1992-09-14 JP JP04245203A patent/JP3103997B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126703A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 成膜装置 |
| JP4580860B2 (ja) * | 2005-11-02 | 2010-11-17 | 大日本印刷株式会社 | 成膜装置 |
| JP2011168870A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及びメンテナンス方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3103997B2 (ja) | 2000-10-30 |
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