JP4569876B2 - 6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法 - Google Patents

6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法 Download PDF

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Description

本発明は、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを製造する方法に関する。
6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンは、抗癌剤として有用な6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)−4−(3−エチニルフェニル)アミノキナゾリン塩酸塩の合成中間体として知られている(特許文献1)。
特許文献2には、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとギ酸アンモニウムとを反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを得る方法が記載されていて、この反応の収率は、80.5%と記載されている。
米国特許第5,747,498号明細書 特開2002−293773号公報
本発明は、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルから高い収率で6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを得る方法を提供することを主な目的とする。本発明はさらに、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルを出発化合物として、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを高収率で得ることのできる、工業的に好適な製法を提供することも、その目的とする。
本発明は第一に、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、該2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法にある。
本発明は第二に、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルを得る工程、該4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、該2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法にある。
本発明は第三に、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルと2−クロロエチルメチルエーテルとを塩基の存在下にて有機溶媒中で反応させて、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルを得る工程、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法にある。
次に、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルを出発化合物として、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを得るまでに関与する化合物の化学式を示す。
3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルは下記式(1)で表わされる。
Figure 0004569876
3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルは下記式(2)で表わされる。
Figure 0004569876
4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルは下記式(3)で表わされる。
Figure 0004569876
2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルは下記式(4)で表わされる。
Figure 0004569876
6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンは下記式(5)で表わされる。
Figure 0004569876
次に、本発明の6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製法を、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルと2−クロロエチルメチルエーテルとを塩基の存在下にて有機溶媒中で反応させて、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程[第一工程]、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルを得る工程[第二工程]、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程[第三工程]、そして、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程[第四工程]を順次実施することからなる方法を例にとって詳しく説明する。
(A)第一工程
第一工程は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルと2−クロロエチルメチルエーテルとを塩基の存在下にて有機溶媒中で反応させて、3,4−(2−メトキシエトキシ)安息エチルとする工程である。
第一工程において使用する2−クロロエチルメチルエーテルの使用量は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは1.0〜20モル、更に好ましくは1.1〜10モル、特に好ましくは1.1〜5.0モルである。
第一工程において使用する塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩;ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド等のアルカリ金属アルコキシドが挙げられるが、好ましくはアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、更に好ましくはアルカリ金属炭酸塩、特に好ましくは炭酸カリウムが使用される。なお、これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
塩基の使用量は、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは1.0〜20モル、更に好ましくは1.1〜10モル、特に好ましくは1.1〜5.0モルである。
第一工程において使用する有機溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられるが、好ましくはケトン類、ニトリル類、アミド類が使用される。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
有機溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1gに対して、好ましくは1〜100g、更に好ましくは2〜20gである。
第一工程は、例えば、不活性ガスの雰囲気下、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル、2−クロロエチルメチルエーテル、塩基及び有機溶媒を混合して攪拌させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは20〜200℃、更に好ましくは40〜120℃であり、反応圧力は特に制限されない。
第一工程によって3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息エチルが得られるが、これは、例えば、反応終了後、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって、一旦単離・精製した後に第二工程に使用しても良いが、単離・精製を行わずに、そのまま又は第二工程で使用する溶媒に切り換えた後に、第二工程に使用しても構わない。
(B)第二工程
第二工程は、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルとする工程である。
第二工程において使用する硝酸の量は、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは1.0〜50モル、更に好ましくは2.0〜10モルである。なお、硝酸の濃度は、好ましくは40〜90質量%、更に好ましくは50〜70質量%である。
第二工程は溶媒の存在下で行うのが好ましく、使用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸類が挙げられるが、好ましくは酢酸が使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1gに対して、好ましくは1〜50g、更に好ましくは1.1〜20gである。
第二工程は、例えば、不活性ガスの雰囲気下、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル、硝酸、硫酸及び溶媒を混合して攪拌させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは20〜90℃、更に好ましくは30〜80℃、特に好ましくは45〜75℃であり、反応圧力は特に制限されない。
第二工程によって4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルが得られるが、これは、例えば、反応終了後、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって単離・精製した後に第三工程に使用しても良いが、単離・精製を行わずに、そのまま又は第三工程で使用する溶媒に切り換えた後に、第三工程に使用しても構わない。
(C)第三工程
第三工程は、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとする工程である。
第三工程において使用する金属触媒としては、パラジウム、白金及びニッケルからなる群より選ばれる少なくともひとつの金属原子を含むものであり、具体的には、例えば、パラジウム/炭素、パラジウム/硫酸バリウム、水酸化パラジウム/炭素、白金/炭素、硫化白金/炭素、パラジウム−白金/炭素、酸化白金、ラネーニッケル等が挙げられるが、好ましくはパラジウム/炭素、白金/炭素、硫化白金/炭素、ラネーニッケルが使用される。特に好ましいのは、白金/炭素触媒である。なお、これらの金属触媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
金属触媒の使用量は、金属原子換算で、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル1gに対して、好ましくは0.1〜1000mg、更に好ましくは0.5〜500mgである。金属触媒として、担体に担持された金属を用いる場合、その担持量は1〜2.9質量%の範囲の量とすることが好ましい。
水素の使用量は、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは3〜50モル、更に好ましくは3〜10モルである。
第三工程の反応は溶媒の存在で行うのが好ましく、使用する溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定されず、例えば、水;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、カルボン酸エステル類、更に好ましくはメタノール、エタノール、が使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等によって適宜調節するが、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル1gに対して、好ましくは1〜100g、更に好ましくは2〜30gである。
第三工程の反応は、例えば、水素ガスの存在下(不活性ガスで希釈されていても良い)にて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル、金属触媒及び溶媒を混合して攪拌させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは0〜300℃、更に好ましくは20〜200℃であり、反応圧力は、好ましくは0.1〜10MPa、更に好ましくは0.1〜2MPaである。
最終生成物である2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルは、反応終了後、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製した後に第四工程に使用しても良いが、単離・精製を行わずに、そのまま又は第四工程で使用する溶媒に切り換えた後に、第四工程に使用しても構わない。
(D)第四工程
第四工程は、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程である。
第四工程の反応において使用するオルトギ酸エステルとしては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル等のオルトギ酸と炭素原子数1〜6の低級アルコールとのエステルが挙げられるが、好ましくはオルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルが使用される。
前記オルトギ酸エステルの使用量は、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは1.0〜30モル、更に好ましくは1.1〜10モルである。
酢酸アンモニウムの使用量は、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1モルに対して、好ましくは1.0〜30モル、更に好ましくは1.1〜10モルである。
第四工程の反応は溶媒の存在下又は非存在下において行われる。使用する溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;N,N’−ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類;ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類;ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類等;アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、アミド類、ニトリル類、更に好ましくはメタノール、エタノール、N,N’−ジメチルイミダゾリジノン、アセトニトリルが使用される。これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等によって適宜調節するが、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1gに対して、好ましくは0〜50g、更に好ましくは0〜20g、特に好ましくは0〜5gである。
第四工程の反応は、例えば、不活性ガスの雰囲気にて、酢酸アンモニウム、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル、オルトギ酸エステル及び溶媒を混合して攪拌させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは40〜200℃、更に好ましくは50〜150℃であり、反応圧力は特に制限されない。
最終生成物である6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンは、反応終了後、例えば、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等による一般的な方法によって単離・精製される。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
[製造例1]3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20Lのガラス製反応器に、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル1300g(7.14モル)、2−クロロエチルメチルエーテル2324g(21.4モル)、炭酸カリウム2958g(21.4モル)及びN,N−ジメチルホルムアミド6500mLを加え、攪拌しながら90〜100℃で9時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却した後に濾過し、アセトン6500mLで洗浄した。次いで、濾液を濃縮後、酢酸エチル3900mL及び飽和炭酸ナトリウム水溶液3900mLを加えて分液し、有機層(酢酸エチル層)を飽和塩化ナトリウム水溶液3900mLで2回洗浄し、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを含有する混合液を得た。該混合液を高速液体クロマトグラフィーで分析(絶対定量法)したところ、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルが2023g生成していた(反応収率:95%)。この混合液に酢酸3939mLを加えた後、減圧下で濃縮して酢酸エチルを留去し、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを含有する酢酸溶液を得た。
[製造例2]4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20Lのガラス製反応器に、製造例1で合成した3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル2023g(6.78モル)を含有する酢酸溶液を加え、室温にて攪拌しながら、ゆるやかに濃硫酸318g(3.18モル)を滴下した。その後、60〜70℃まで昇温して、攪拌しながらゆるやかに69質量%硝酸1857g(20.34モル)を滴下し、同温度にて2時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、20質量%塩化ナトリウム水溶液5200mL及びトルエン5200mLを加えて分液し、有機層(トルエン層)を1モル/L水酸化ナトリウム7800mLで2回、20質量%塩化ナトリウム水溶液7800mLで2回の順で洗浄した。次いで、有機層を減圧下で濃縮し、橙色液体として、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル2328gを得た(単離収率:100%)。
[製造例3]2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20Lのガラス製反応器に、製造例2で合成した4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチル2328g(6.78モル)、2質量%白金/炭素118g(50wet品(エヌ・イー・ケムキャット製);白金金属原子として6.0mミリモル)及びメタノール9440mLを加え、水素雰囲気下、攪拌しながら50〜60℃で6時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、橙色液体として2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1960gを得た(単離収率:92%)。
[製造例4]6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの合成
攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20Lのガラス製反応器に、製造例3で合成した2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチル1600g(5.11モル)、オルトギ酸メチル1626g(15.3モル)、酢酸アンモニウム1181g(15.3モル)及びメタノール4800mLを加え、攪拌しながら還流条件下(60〜70℃)で7時間反応させた。反応終了後、反応液を60℃まで冷却しメタノール4800mLを加えて同温度で30分間攪拌、更に0〜5℃まで冷却し1時間攪拌した。その後、濾過して、白色結晶として、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オン1373gを得た(単離収率:91%)。
なお、3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチル基準の総合収率は80%であった。

Claims (3)

  1. 4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、該2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法。
  2. 3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルを得る工程、該4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、該2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法。
  3. 3,4−ジヒドロキシ安息香酸エチルと2−クロロエチルメチルエーテルとを塩基の存在下にて有機溶媒中で反応させて、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、3,4−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルと硝酸とを硫酸の存在下にて反応させて、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルを得る工程、4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)−2−ニトロ安息香酸エチルと水素とを金属触媒の存在下にて反応させて2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルを得る工程、そして、2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとオルトギ酸エステルとを酢酸アンモニウムの存在下にて反応させて6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンとする工程を順次実施することからなる、6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法。
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