JP2007290996A - ４−アミノテトラヒドロピランの製法 - Google Patents
４−アミノテトラヒドロピランの製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007290996A JP2007290996A JP2006119366A JP2006119366A JP2007290996A JP 2007290996 A JP2007290996 A JP 2007290996A JP 2006119366 A JP2006119366 A JP 2006119366A JP 2006119366 A JP2006119366 A JP 2006119366A JP 2007290996 A JP2007290996 A JP 2007290996A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aminotetrahydropyran
- tetrahydropyran
- reaction
- producing
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Pyrane Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】 本発明の課題は、簡便な方法によって、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-アミノテトラヒドロピランの製法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、テトラヒドロピラン-4-オンとベンジルアミンとを縮合反応させた後、次いで、金属触媒を添加して、水素雰囲気にて還元反応させることを特徴とする、4-アミノテトラヒドロピランの製法によって解決される。
【選択図】 なし
【解決手段】 本発明の課題は、テトラヒドロピラン-4-オンとベンジルアミンとを縮合反応させた後、次いで、金属触媒を添加して、水素雰囲気にて還元反応させることを特徴とする、4-アミノテトラヒドロピランの製法によって解決される。
【選択図】 なし
Description
本発明は、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを製造する方法に関する。4-アミノテトラヒドロピランは、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
従来、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを製造する方法としては、例えば、貴金属触媒の存在下、テトラヒドロピラン-4-オン、アンモニア及び水素源とを反応させ、4-アミノテトラヒドロピランを得る方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、この方法では、副生成物であるジ(4-テトラヒドロピラニル)アミンが多く生成してしまい、目的物の収率が低くなるという問題があった（比較例１参照）。
又、10質量％パラジウム／炭素の存在下、テトラヒドロピラン-4-オンと大過剰のギ酸アンモニウムとを、メタノールと水との混合溶媒中で反応させ、収率80％で4-アミノテトラヒドロピランを得る方法が開示されている（例えば、非特許文献１参照）。しかしながら、この方法では、目的物である4-アミノテトラヒドロピランとギ酸アンモニウム（大量に残留）とがともに水溶性であるために、目的物の取得が煩雑となるという問題があった。
又、10質量％パラジウム／炭素の存在下、テトラヒドロピラン-4-オンと大過剰のギ酸アンモニウムとを、メタノールと水との混合溶媒中で反応させ、収率80％で4-アミノテトラヒドロピランを得る方法が開示されている（例えば、非特許文献１参照）。しかしながら、この方法では、目的物である4-アミノテトラヒドロピランとギ酸アンモニウム（大量に残留）とがともに水溶性であるために、目的物の取得が煩雑となるという問題があった。
本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、簡便な方法によって、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-アミノテトラヒドロピランの製法を提供することにある。
本発明の課題は、テトラヒドロピラン-4-オンとベンジルアミンとを縮合反応させた後、次いで、金属触媒を添加して、水素雰囲気にて還元反応させることを特徴とする、4-アミノテトラヒドロピランの製法によって解決される。
本発明により、簡便な方法によって、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-アミノテトラヒドロピランの製法を提供することができる。
本発明の縮合反応において使用するベンジルアミンの量は、テトラヒドロピラン-4-オン1モルに対して、好ましくは1.0〜2.0モル、更に好ましくは1.05〜1.25モルである。
本発明の縮合反応は、溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用できる溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水；N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類；N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類；メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、シクロプロピルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、更に好ましくはメタノール、エタノール、特に好ましくはメタノールが使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、テトラヒドロピラン-4-オン1モルに対して、好ましくは0〜2000ml、更に好ましくは200〜1500mlである。
本発明の縮合反応は、例えば、テトラヒドロピラン-4-オン、ベンジルアミン及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは0〜80℃、更に好ましくは10〜50℃であり、反応圧力は特に制限されない。
本発明の還元反応において使用する金属触媒は、例えば、パラジウム／炭素、パラジウム／硫酸バリウム、白金／炭素、硫化白金／炭素、パラジウム−白金／炭素、酸化白金、ラネーニッケル等が挙げられるが、好ましくはパラジウム／炭素が使用される。なお、これらの金属触媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良く、無水品でも含水品でも構わない。
前記金属触媒の使用量は、テトラヒドロピラン-4-オン1gに対して、金属原子換算で、好ましくは0.001〜100mg、好ましくは0.005〜50mg、更に好ましくは0.01〜10mgである。
本発明の還元反応において使用する水素の量は、テトラヒドロピラン-4-オン1モルに対して、好ましくは3〜50モル、更に好ましくは3〜10モルである。なお、水素は、窒素やアルゴン等の不活性ガスで希釈されていても良い。
本発明の還元反応は、溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用できる溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水；N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類；N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類；メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、シクロプロピルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル等のエーテル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、エーテル類、芳香族炭化水素類、酢酸エステル類、更に好ましくはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、トルエン、酢酸エチルが使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。又、還元反応で使用する溶媒は、前記の縮合反応で使用する溶媒と同一でも異なるものであっても良く、それぞれの溶媒が異なる場合には、一般的な方法により、溶媒の置換を行うことができる。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、テトラヒドロピラン-4-オン1モルに対して、好ましくは100〜2000ml、更に好ましくは200〜1500mlである。
本発明の還元反応は、例えば、前記縮合反応で得られた反応液（4-(1-ピレニル)-4-ベンジルアミン及びその異性体を主成分として含む）及び金属触媒を混合して、水素雰囲気にて、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは20〜100℃、更に好ましくは30〜80℃であり、反応圧力は特に制限されない。
なお、最終生成物である4-アミノテトラヒドロピランは、例えば、反応終了後、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製される。又、得られた4-アミノテトラヒドロピランは、ハロゲン化水素と反応させることによって、より安定な4-アミノテトラヒドロピランのハロゲン化水素塩として取得することもできる。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
実施例１（4-アミノテトラヒドロピランの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのガラス製容器に、テトラヒドロピラン-4-オン5.03g(50.2mmol)、ベンジルアミン5.90g(55.1mmol)及びメタノール22.2gを加え、攪拌しながら室温で1時間縮合反応させた。次いで、攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのステンレス製耐圧容器に、前記反応液及び10質量％パラジウム／炭素0.32g(55％含水品；パラジウム原子として14mg)を加え、反応系内を水素雰囲気（0.7Mpa）とし、攪拌しながら40℃で3時間、50℃で3時間還元反応させた。反応終了後、反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、4-アミノテトラヒドロピランが4.82g生成していた（反応収率；95％）。
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのガラス製容器に、テトラヒドロピラン-4-オン5.03g(50.2mmol)、ベンジルアミン5.90g(55.1mmol)及びメタノール22.2gを加え、攪拌しながら室温で1時間縮合反応させた。次いで、攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのステンレス製耐圧容器に、前記反応液及び10質量％パラジウム／炭素0.32g(55％含水品；パラジウム原子として14mg)を加え、反応系内を水素雰囲気（0.7Mpa）とし、攪拌しながら40℃で3時間、50℃で3時間還元反応させた。反応終了後、反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、4-アミノテトラヒドロピランが4.82g生成していた（反応収率；95％）。
比較例１（4-アミノテトラヒドロピランの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのステンレス製耐圧容器に、テトラヒドロピラン-4-オン5.00g(49.9mmol)、14.5質量％アンモニアのメタノール溶液28.14g(アンモニアとして240mmol)、メタノール9.04g及び10質量％パラジウム／炭素0.60g(55％含水品；パラジウム原子として27mg)を加え、反応系内を水素雰囲気（0.5Mpa）とし、攪拌しながら30℃で4時間還元反応させた。反応終了後、反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、4-アミノテトラヒドロピランが3.12g生成していた（反応収率；62％）。なお、反応液中には、ジ(4-テトラヒドロピラニル)アミンが目的物の約半分程度生成していた。
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのステンレス製耐圧容器に、テトラヒドロピラン-4-オン5.00g(49.9mmol)、14.5質量％アンモニアのメタノール溶液28.14g(アンモニアとして240mmol)、メタノール9.04g及び10質量％パラジウム／炭素0.60g(55％含水品；パラジウム原子として27mg)を加え、反応系内を水素雰囲気（0.5Mpa）とし、攪拌しながら30℃で4時間還元反応させた。反応終了後、反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、4-アミノテトラヒドロピランが3.12g生成していた（反応収率；62％）。なお、反応液中には、ジ(4-テトラヒドロピラニル)アミンが目的物の約半分程度生成していた。
本発明は、テトラヒドロピラン-4-オンから、4-アミノテトラヒドロピランを製造する方法に関する。4-アミノテトラヒドロピランは、例えば、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
Claims (2)
- テトラヒドロピラン-4-オンとベンジルアミンとを縮合反応させた後、次いで、金属触媒を添加して、水素雰囲気にて還元反応させることを特徴とする、4-アミノテトラヒドロピランの製法。
- ベンジルアミンの使用量が、テトラヒドロピラン-4-オン1モルに対して1.0〜2.0モルである、請求項１記載の4-アミノテトラヒドロピランの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006119366A JP2007290996A (ja) | 2006-04-24 | 2006-04-24 | ４−アミノテトラヒドロピランの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006119366A JP2007290996A (ja) | 2006-04-24 | 2006-04-24 | ４−アミノテトラヒドロピランの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007290996A true JP2007290996A (ja) | 2007-11-08 |
Family
ID=38761989
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006119366A Pending JP2007290996A (ja) | 2006-04-24 | 2006-04-24 | ４−アミノテトラヒドロピランの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2007290996A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004099609A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-04-02 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | 光学活性７−アミノ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンの製造法 |
| JP2005502684A (ja) * | 2001-08-28 | 2005-01-27 | シェーリング コーポレイション | 多環式グアニンホスホジエステラーゼｖ阻害剤 |
| JP2005532308A (ja) * | 2002-04-29 | 2005-10-27 | メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド | テトラヒドロピラニルシクロペンチルテトラヒドロイソキノリン系のケモカイン受容体活性調節剤 |
-
2006
- 2006-04-24 JP JP2006119366A patent/JP2007290996A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005502684A (ja) * | 2001-08-28 | 2005-01-27 | シェーリング コーポレイション | 多環式グアニンホスホジエステラーゼｖ阻害剤 |
| JP2005532308A (ja) * | 2002-04-29 | 2005-10-27 | メルク エンド カムパニー インコーポレーテッド | テトラヒドロピラニルシクロペンチルテトラヒドロイソキノリン系のケモカイン受容体活性調節剤 |
| JP2004099609A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-04-02 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | 光学活性７−アミノ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンの製造法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4569876B2 (ja) | ６，７−ビス（２−メトキシエトキシ）キナゾリン−４−オンの製造法 | |
| JP5168830B2 (ja) | テトラヒドロピラン−４−オン化合物の製法 | |
| JP5433568B2 (ja) | カテコールの製造方法 | |
| JP2007290996A (ja) | ４−アミノテトラヒドロピランの製法 | |
| JP5675826B2 (ja) | １，１−ジフルオロ−２−ニトロエタンを水素化することによる２，２−ジフルオロエチルアミンの調製方法 | |
| JP4923698B2 (ja) | ４−アミノテトラヒドロピラン化合物の製法 | |
| JP6182507B2 (ja) | ２，３−ジハロゲノアニリンの製造方法 | |
| JPWO2008087736A1 (ja) | アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有する芳香族アミンの製法 | |
| JP2007051128A (ja) | アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法 | |
| JP5507147B2 (ja) | ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 | |
| JP5173152B2 (ja) | β−アラニン化合物、ピペリドン化合物及びアミノピペリジン化合物の製造方法 | |
| JP4123770B2 (ja) | キナゾリン−４−オン誘導体の製法 | |
| JPWO2007119361A1 (ja) | キナゾリン−４−オン誘導体の製造方法 | |
| JP2002506845A (ja) | ４−置換シス−シクロヘキシルアミンの製造法 | |
| JP2010504928A (ja) | アミン類の調製方法 | |
| JP4896476B2 (ja) | メチルオキシメチルアミノピリジン誘導体及びその製造方法 | |
| JPH08109170A (ja) | ヘキサヒドロピリダジンの製造方法 | |
| JP4896539B2 (ja) | ３−アルキル−４，４’−ビフェノールの製造方法及び３−アルキル−４，４’−ビフェノールと３，３’−ジアルキル−４，４’−ビフェノールとの混合物の製造方法 | |
| JP2003246785A (ja) | ６，７−ジヒドロキシクマリンの製法 | |
| JP2007210936A (ja) | 脂環式ジアミン化合物の製造方法 | |
| JPH05148171A (ja) | １，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタンの製造方法 | |
| WO2010026918A1 (ja) | α－トリフルオロメチル－β－置換－β－アミノ酸類の製造方法 | |
| JP2007290994A (ja) | ４−ｎ−置換アミノテトラヒドロピランの製法 | |
| WO2010079605A1 (ja) | 高純度１－ベンジル－３－アミノピロリジンの製造方法 | |
| JP2003267952A (ja) | ２−アミノ−５−ハロゲノインドールの製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20090120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111011 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20111012 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111205 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20111220 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |