JP2007290994A - 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法 - Google Patents

4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007290994A
JP2007290994A JP2006119364A JP2006119364A JP2007290994A JP 2007290994 A JP2007290994 A JP 2007290994A JP 2006119364 A JP2006119364 A JP 2006119364A JP 2006119364 A JP2006119364 A JP 2006119364A JP 2007290994 A JP2007290994 A JP 2007290994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
substituted
aminotetrahydropyran
arylmethyl
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006119364A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeyoshi Nishino
繁栄 西野
Kenji Hirotsu
健二 弘津
Shoji Shikita
庄司 敷田
Keiji Iwamoto
圭司 岩本
Takashi Harada
崇司 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP2006119364A priority Critical patent/JP2007290994A/ja
Publication of JP2007290994A publication Critical patent/JP2007290994A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】 本発明の課題は、温和な条件下、簡便な方法によって、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-N-置換アミノテトラヒドロピランの製法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、触媒の存在下、N-アリールメチル-N-置換アミノテトラヒドロピランと水素とを反応させることを特徴とする、N-置換アミノテトラヒドロピランの製法によって解決される。
【選択図】 なし

Description

本発明は、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを製造する方法に関する。4-N-置換アミノテトラヒドロピラン化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
従来、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを製造する方法としては、例えば、5質量%パラジウム/炭素の存在下、テトラヒドロピラン-4-オン、メチルアミンのメタノール溶液及び水素を、テトラヒドロフラン中にて反応させ、単離収率69.4%で4-N-メチルアミノテトラヒドロピランを得る方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、取り扱いが難しいメチルアミンのメタノール溶液を使用しなければならず、4-N-置換アミノテトラヒドロピランの工業的な製法としては満足するものではなかった。
国際公開WO00/21916号パンフレット
本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、温和な条件下、簡便な方法によって、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-N-置換アミノテトラヒドロピランの製法を提供することにある。
本発明の課題は、金属触媒の存在下、一般式(1)
Figure 2007290994
(式中、Arは、アリール基、Rは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基を示す。)
で示される4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランと水素とを反応させることを特徴とする、一般式(2)
Figure 2007290994
(式中、Rは、前記と同義である。)
で示される、4-N-置換アミノテトラヒドロピランの製法によって解決される。
本発明により、温和な条件下、簡便な方法によって、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを高収率で製造できる、工業的に好適な4-N-置換アミノテトラヒドロピランの製法を提供することができる。
本発明の反応において使用する4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランは、前記の一般式(1)で示される。その一般式(1)において、Rは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアシル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素数1〜10のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜8のシクロアルキル基;フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素数6〜20のアリール基;メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基等の炭素数1〜6のアルキルオキシル基;フェノキシル基等の炭素数6〜12のアリールオキシル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
又、Arは、アリール基であり、例えば、フェニル基、p-トリル基、4-ニトロフェニル基、4-アミノフェニル基等が挙げられるが、好ましくはフェニル基である。
なお、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランは、一般式(3)
Figure 2007290994
(式中、Lは、脱離基を示す。)
で示される4-置換テトラヒドロピランと一般式(4)
Figure 2007290994
(式中、Ar及びRは、前記と同義である。)
で示されるN-アリールメチル-N-置換アミンとを反応させることによって得られる化合物である(参考例1参照)。
一般式(3)において、Lは、脱離基であり、例えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシ基、p-トルエンスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基等が挙げられるが、好ましくはメタンスルホニルオキシ基が挙げられる。
本発明の反応において使用する金属触媒は、例えば、パラジウム/炭素、パラジウム/硫酸バリウム、白金/炭素、硫化白金/炭素、パラジウム−白金/炭素、酸化白金、ラネーニッケル等が挙げられるが、好ましくはパラジウム/炭素が使用される。なお、これらの金属触媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良く、無水品でも含水品でも構わない。
前記金属触媒の使用量は、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピラン1gに対して、金属原子換算で、好ましくは0.001〜100mg、好ましくは0.005〜50mg、更に好ましくは0.01〜10mgである。
本発明の反応において使用する水素の量は、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピラン1モルに対して、好ましくは3〜50モル、更に好ましくは3〜10モルである。なお、水素は、窒素やアルゴン等の不活性ガスで希釈されていても良い。
本発明の反応は溶媒の存在下又は非存在下において行われる。使用する溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されず、例えば、水;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類;N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類;メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類;テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、シクロプロピルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル等のエーテル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、エーテル類、酢酸エステル類、更に好ましくはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、酢酸エチルが使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性により適宜調節するが、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピラン1gに対して、好ましくは0〜100ml、更に好ましくは0〜50ml、特に好ましくは10〜30mlである。
本発明の反応は、例えば4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピラン、金属触媒及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは25〜150℃、更に好ましくは40〜130℃であり、反応圧力は特に制限されない。
なお、最終生成物である4-N-置換アミノテトラヒドロピランは、例えば、反応終了後、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製される。又、得られた4-N-置換アミノテトラヒドロピランは、ハロゲン化水素と反応させることによって、より安定な4-N-置換アミノテトラヒドロピランのハロゲン化水素塩として取得することもできる。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
参考例1(4-(N-ベンジル-N-メチル)アミノテトラヒドロピランの合成)
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び滴下漏斗を備えた内容積50mlのガラス製フラスコに、テトラヒドロピラニル-4-メタンスルホネート9.00g(50.0mmol)及びN-メチルベンジルアミン12.1g(100.0mmol)を加え、攪拌しながら100℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液にトルエン100ml、水20ml及び水酸化ナトリウム2.0g(50.0mmol)を加えて攪拌させた後、有機層を分液した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、淡黄色液体として、純度96.1%(ガスクロマトグラフィーによる面積百分率)の4-(N-ベンジル-N-メチル)アミノテトラヒドロピラン6.23gを得た(単離収率;58%)。
なお、4-(N-ベンジル-N-メチル)アミノテトラヒドロピランの物性値は以下の通りである。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm));1.61〜1.80(4H,m)、2.21(3H,s)、2.60〜2.70(1H,m)、3.33〜3.41(2H,m)、3.59(2H,s)、3.83〜4.06(2H,m)、7.21〜7.34(5H,m)
CI-MS(m/e);206(M+1)
実施例1(4-N-メチルテトラヒドロピランの合成)
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのガラス製耐圧容器に、参考例1で合成した純度96.1%の4-(N-ベンジル-N-メチル)アミノテトラヒドロピラン3.0g(14.0mmol)、10質量%パラジウム/炭素150mg(55%含水品)及びエタノール30mlを加え、水素雰囲気下(0.51MPa)、攪拌しながら60〜70℃で5時間反応させた。反応終了後、反応液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、4-N-メチルアミノテトラヒドロピランが1.29g生成していた(反応収率;80%)。
実施例2(4-N-メチルアミノテトラヒドロピラン塩酸塩の合成)
攪拌装置及び温度計を備えた内容積100mlのガラス製耐圧容器に、参考例1で合成した純度96.1%の4-(N-ベンジル-N-メチル)アミノテトラヒドロピラン3.0g(14.0mol)、10質量%パラジウム/炭素150mg(55%含水品)及びエタノール30mlを加え、水素雰囲気下(0.51MPa)、攪拌しながら60〜70℃で5時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過した後、6mol/l塩酸4.87ml及び1-ブタノール100mlを加えた。次いで、反応液を減圧下で濃縮後、濃縮物にトルエン100mLを加えて濾過し、灰色結晶として、純度90.2%(ガスクロマトグラフィーによる面積百分率)の4-N-メチルアミノテトラヒドロピラン塩酸塩1.82gを得た(単離収率:77%)。
なお、4-N-メチルアミノテトラヒドロピラン塩酸塩の物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(DMSO-d6,δ(ppm));1.51〜1.64(2H,m)、1.91〜1.96(2H,m)、2.49(3H,s)、3.10〜3.33(3H,m)、3.88〜3.93(2H,m)、9.16(2H,brs)
CI-MS(m/e);116(M+1)
本発明は、4-(N-アリールメチル-N-置換)アミノテトラヒドロピランから、4-N-置換アミノテトラヒドロピランを製造する方法に関する。4-N-置換アミノテトラヒドロピラン化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。

Claims (2)

  1. 触媒の存在下、一般式(1)
    Figure 2007290994
    (式中、Arは、アリール基を示し、Rは、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基又はアリールオキシ基を示す。)
    で示されるN-アリールメチル-N-置換アミノテトラヒドロピランと水素とを反応させることを特徴とする、一般式(2)
    Figure 2007290994
    (式中、Rは、前記と同義である。)
    で示されるN-置換アミノテトラヒドロピランの製法。
  2. 請求項1記載のN-アリールメチル-N-置換アミノテトラヒドロピランが、一般式(3)
    Figure 2007290994
    (式中、Lは、脱離基を示す。)
    で示される4-置換テトラヒドロピランと一般式(4)
    Figure 2007290994
    (式中、Ar及びRは、前記と同義である。)
    で示されるN-アリールメチル-N-置換アミンとを反応させることによって得られる、請求項1記載のN-置換アミノテトラヒドロピランの製法。
JP2006119364A 2006-04-24 2006-04-24 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法 Pending JP2007290994A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006119364A JP2007290994A (ja) 2006-04-24 2006-04-24 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006119364A JP2007290994A (ja) 2006-04-24 2006-04-24 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007290994A true JP2007290994A (ja) 2007-11-08

Family

ID=38761987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006119364A Pending JP2007290994A (ja) 2006-04-24 2006-04-24 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007290994A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6268093B2 (ja) 縮合複素環誘導体の製造方法およびその製造中間体
KR20120117831A (ko) 2-아미노-4-트리플루오로메틸피리딘류의 제조 방법
JP2007290994A (ja) 4−n−置換アミノテトラヒドロピランの製法
JP5119927B2 (ja) 2−オキシインドール化合物の製法
JP4984676B2 (ja) ベンジルオキシ基を有するアニリンの製法
JP4968066B2 (ja) 4−アミノ−2−アルキルチオ−5−ピリミジンカルバルデヒドの製法
JP2009507783A (ja) 高光学純度を有するキラル3−ヒドロキシピロリジン化合物及びその誘導体の製造方法
JP4923698B2 (ja) 4−アミノテトラヒドロピラン化合物の製法
JP4032861B2 (ja) β−オキソニトリル誘導体又はそのアルカリ金属塩の製法
JP4561635B2 (ja) 4−アルコキシカルボニルテトラヒドロピラン又はテトラヒドロピラニル−4−カルボン酸の製法
WO2003014067A1 (en) PROCESS FOR PRODUCING ß-OXONITRILE COMPOUND OR ALKALI METAL SALT THEREOF
JP5507147B2 (ja) ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体
JP5205971B2 (ja) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
JP4561197B2 (ja) 5−(4−テトラヒドロピラニル)ヒダントインの製法及びその中間体
JP2005097149A (ja) [3−[(2r)−[[(2r)−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]アミノ]プロピル]−1h−インドール−7−イルオキシ]酢酸の溶媒和物
JPWO2008087736A1 (ja) アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有する芳香族アミンの製法
JPWO2006083010A1 (ja) 4−アセチルピリミジン化合物の製造方法およびその結晶
JP2004250340A (ja) 4−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩の製法
JP4487674B2 (ja) テトラヒドロピラニル−4−カルボキシレート化合物の製法
EP3845518A1 (en) Preparation method for (1r,3s)-3-amino-1-cyclopentanol and salts thereof
JP2008239531A (ja) 4−シアノテトラヒドロピランの製造方法
JP4507390B2 (ja) 1−アルキル−1−置換−3−有機スルホニルオキシアゼチジニウム塩及びその製法
JP2021524500A (ja) ジアミノピリミジン誘導体またはその酸付加塩の新規な製造方法
JP2006321749A (ja) 2−シアノマロンアルデヒドのアルカリ金属塩の製法
JP2007314457A (ja) 4−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランの製法