JP2007051128A - アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法 - Google Patents
アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007051128A JP2007051128A JP2006173562A JP2006173562A JP2007051128A JP 2007051128 A JP2007051128 A JP 2007051128A JP 2006173562 A JP2006173562 A JP 2006173562A JP 2006173562 A JP2006173562 A JP 2006173562A JP 2007051128 A JP2007051128 A JP 2007051128A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- aralkyloxy
- heteroaralkyloxy
- aniline
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【課題】温和な条件下、簡便な方法によって、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、脱アラルキル化又は脱ヘテロアラルキル化をさせることなく、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを提供する。
【解決手段】金属触媒の存在下、一般式（１）
（Ａｒはアリール基又はヘテロアリール基、Ｚは二価の芳香族基を示す。）で示されるアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
でアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法。
【選択図】 なし
【解決手段】金属触媒の存在下、一般式（１）
（Ａｒはアリール基又はヘテロアリール基、Ｚは二価の芳香族基を示す。）で示されるアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
でアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法。
【選択図】 なし
Description
本発明は、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、脱アラルキル化又は脱ヘテロアラルキル化をさせることなく、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを製造する方法に関する。アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンは、例えば、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
従来、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを製造する方法としては、例えば、塩化スズを使用する方法（例えば、非特許文献１参照）、鉄及び塩化鉄を使用する方法（例えば、非特許文献２参照）や鉄及び塩酸を使用する方法（例えば、非特許文献３参照）が開示されている。しかしながら、これらの方法では、金属類を反応液から取り除くために煩雑な操作を行わなければならず、工業的に好適なアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法としては不利であった。
J.Org.Chem.,66(8),2881(2001) J.Med.Chem.,45(17),3772(2002) Tetrahedron,51(19),5617(1995)
J.Org.Chem.,66(8),2881(2001) J.Med.Chem.,45(17),3772(2002) Tetrahedron,51(19),5617(1995)
本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、温和な条件下、簡便な方法によって、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、脱アラルキル化又は脱ヘテロアラルキル化をさせることなく、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを提供することにある。
本発明の課題は、金属触媒の存在下、一般式（１）
で示されるアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
でアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法によって解決される。
本発明により、温和な条件下、簡便な方法によって、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、脱アラルキル化又は脱ヘテロアラルキル化をさせることなく、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを提供することができる。
本発明の反応で使用するアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンは、前記の一般式（１）で示される。その一般式（１）において、Ａｒは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基であり、アリール基としては、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等；ヘテロアリール基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリニル基、カルバゾリル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
前記のアリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していても良い。その置換基としては、炭素原子を介して出来る置換基、酸素原子を介して出来る置換基、窒素原子を介して出来る置換基、硫黄原子を介して出来る置換基、ハロゲン原子等が挙げられる。
前記炭素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基等のアルケニル基；キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等の複素環基；フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基；アセチル基、プロピオニル基、アクリロイル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、トルオイル基等のアシル基（アセタール化されていても良い）；カルボキシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基；シアノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
前記酸素原子を介して出来る置換基としては、例えば、ヒドロキシル基；メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキシル基、ベンジルオキシル基等のアルコキシル基；フェノキシル基、トルイルオキシル基、ナフチルオキシル基等のアリールオキシル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
本発明の反応において使用する金属触媒としては、例えば、白金／炭素、硫化白金／炭素、パラジウム−白金／炭素、酸化白金が挙げられるが、硫黄により活性を低下させた白金／炭素（例えば、硫化白金／炭素）が好適に使用される。なお、これらの金属触媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良く、含水品でも無水品でも構わない。
前記金属触媒の使用量は、金属原子換算で、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼン1gに対して、好ましくは0.1〜1000mg、更に好ましくは0.5〜500mgである。
本発明の反応で使用する水素の量は、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼン1モルに対して、好ましくは2〜50モル、更に好ましくは2〜10モルである。
本発明の反応は溶媒の存在、非存在下で行うことができるが、使用する溶媒としては、反応を阻害するものでなければ特に限定されず、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類；酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エステル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類が挙げられるが、好ましくはエステル類、エーテル類が使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
前記溶媒の使用量は、反応液の均一性や攪拌性等によって適宜調節するが、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼン1gに対して、好ましくは0〜100g、更に好ましくは0〜30gである。
本発明の反応は、例えば、水素ガスの存在下（不活性ガスで希釈されていても良い）にて、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼン、金属触媒及び溶媒を混合して攪拌させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは0〜300℃、更に好ましくは20〜200℃であり、反応圧力は、好ましくは0.1〜10MPa、更に好ましくは0.1〜2MPaである。
本発明の反応によって、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンが得られるが、これは、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な方法によって単離・精製される。
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
実施例１（2-ベンジルオキシアニリンの合成）
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積100mlのガラス製容器に、ニトロベンゼン3.0g(13.09mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.15g及び酢酸ブチル30mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝4：1（容量比））し、茶色液体として、2-ベンジルオキシアニリン2.46gを得た（単離収率；94.6％）。
2-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積100mlのガラス製容器に、ニトロベンゼン3.0g(13.09mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.15g及び酢酸ブチル30mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝4：1（容量比））し、茶色液体として、2-ベンジルオキシアニリン2.46gを得た（単離収率；94.6％）。
2-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；3.85(2H,brS)、5.11(2H,S)、6.70〜6.90(3H,m)、7.32〜7.48(4H,m)
CI-MS(m/e)；200(M+)
CI-MS(m/e)；200(M+)
実施例２（3-ベンジルオキシアニリンの合成）
実施例１において、2-ベンジルオキシニトロベンゼンを、3-ベンジルオキシニトロベンゼンに変えたこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、ベージュ色固体として、3-ベンジルオキシアニリン1.80gを得た（単離収率；69.2％）。
3-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
実施例１において、2-ベンジルオキシニトロベンゼンを、3-ベンジルオキシニトロベンゼンに変えたこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、ベージュ色固体として、3-ベンジルオキシアニリン1.80gを得た（単離収率；69.2％）。
3-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；3.66(2H,brs)、5.04(2H,s)、6.31〜6.44(3H,m)、7.05〜7.11(1H,m)、7.30〜7.46(5H,m)
CI-MS(m/e)；200(M+)
CI-MS(m/e)；200(M+)
実施例３（4-ベンジルオキシアニリンの合成）
実施例１において、2-ベンジルオキシニトロベンゼンを、4-ベンジルオキシニトロベンゼンに変えたこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、茶色固体として、4-ベンジルオキシアニリン2.29gを得た（単離収率；88.0％）。
4-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
実施例１において、2-ベンジルオキシニトロベンゼンを、4-ベンジルオキシニトロベンゼンに変えたこと以外は、実施例１と同様に反応を行った。その結果、茶色固体として、4-ベンジルオキシアニリン2.29gを得た（単離収率；88.0％）。
4-ベンジルオキシアニリンの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；3.44(2H,brs)、5.01(2H,s)、6.63〜6.68(2H,m)、6.81〜6.86(2H,m)、7.30〜6.68(5H,m)
CI-MS(m/e)；200(M+)
CI-MS(m/e)；200(M+)
実施例４（4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロアニリンの合成）
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積100mlのガラス製容器に、4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロニトロベンゼン3.0g(10.65mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.15g及び酢酸ブチル30mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝4：1（容量比））し、茶色固体として、4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロアニリン2.36gを得た（単離収率；88.0％）。
4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロアニリンの物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積100mlのガラス製容器に、4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロニトロベンゼン3.0g(10.65mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.15g及び酢酸ブチル30mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝4：1（容量比））し、茶色固体として、4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロアニリン2.36gを得た（単離収率；88.0％）。
4-(3-フルオロベンジルオキシ)-3-クロロアニリンの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；3.51(2H,brs)、5.04(2H,s)、6.49〜6.53(1H,m)、6.77〜6.80(2H,m)、6.97〜7.04(1H,m)、7.19〜7.23(2H,m)、7.31〜7.38(1H,m)
CI-MS(m/e)；252(M+)
CI-MS(m/e)；252(M+)
実施例５（3-アミノ-2-ベンジルオキシピリジンの合成）
攪拌装置、温度計及び還流管を備えた内容積100mlのガラス製容器に、3-ニトロ-2-ベンジルオキシピリジン2.0g(8.68mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.10g及び酢酸ブチル20mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝1：1（容量比））し、茶色固体として、3-アミノ-2-ベンジルオキシピリジン0.80gを得た（単離収率；46.2％）。
3-アミノ-2-ベンジルオキシピリジンの物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計及び還流管を備えた内容積100mlのガラス製容器に、3-ニトロ-2-ベンジルオキシピリジン2.0g(8.68mmol)、3質量％硫化白金／炭素（50％含水品）0.10g及び酢酸ブチル20mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら60℃で3時間反応させた。反応終了後、反応液を濾過し、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝1：1（容量比））し、茶色固体として、3-アミノ-2-ベンジルオキシピリジン0.80gを得た（単離収率；46.2％）。
3-アミノ-2-ベンジルオキシピリジンの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；4.28(2H,brs)、5.16(2H,s)、6.01〜6.06(1H,m)、6.49〜6.52(1H,m)、6.70〜6.73(1H,m)、7.24〜7.36(5H,m)
CI-MS(m/e)；201(M+)
CI-MS(m/e)；201(M+)
実施例６（2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルの合成）
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積20mlのガラス製容器に、4-ベンジルオキシ-5-メトキシ-2-ニトロ安息香酸メチル4.0g(12.6mmol)、3質量％硫化白金／炭素（60％含水品）0.2g及びジメトキシエタン20mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら室温で7時間反応させた。反応終了後、反応液を10日放置した後、濾過し、反応液を減圧下で濃縮して、薄茶色固体として、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチル3.17gを得た（単離収率；87％）。
2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルの物性値は以下の通りであった。
攪拌装置、温度計、還流冷却器及び水素を充填した風船を備えた内容積20mlのガラス製容器に、4-ベンジルオキシ-5-メトキシ-2-ニトロ安息香酸メチル4.0g(12.6mmol)、3質量％硫化白金／炭素（60％含水品）0.2g及びジメトキシエタン20mlを加え、水素雰囲気にて、攪拌しながら室温で7時間反応させた。反応終了後、反応液を10日放置した後、濾過し、反応液を減圧下で濃縮して、薄茶色固体として、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチル3.17gを得た（単離収率；87％）。
2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルの物性値は以下の通りであった。
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；3.81(3H,s)、3.83(3H,s)、5.09(2H,s)、5.37(2H,brs)、6.15(1H,s)、7.31〜7.41(6H,m)
CI-MS(m/e)；287(M+)
CI-MS(m/e)；287(M+)
実施例７（2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルの合成）
実施例６において、3質量％硫化白金／炭素を、5質量％白金／アルミナに変えたこと以外は、実施例６と同様に反応を行った。その結果、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルが2.17g生成していた（反応収率；54.6％）。
実施例６において、3質量％硫化白金／炭素を、5質量％白金／アルミナに変えたこと以外は、実施例６と同様に反応を行った。その結果、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルが2.17g生成していた（反応収率；54.6％）。
実施例８（2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルの合成）
実施例６において、3質量％硫化白金／炭素を、5質量％ロジウム／炭素に変えたこと以外は、実施例６と同様に反応を行った。その結果、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルが3.15g生成していた（反応収率；79.2％）。
実施例６において、3質量％硫化白金／炭素を、5質量％ロジウム／炭素に変えたこと以外は、実施例６と同様に反応を行った。その結果、2-アミノ-4-ベンジルオキシ-5-メトキシ安息香酸メチルが3.15g生成していた（反応収率；79.2％）。
本発明は、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させ、脱アラルキル化又は脱ヘテロアラルキル化をさせることなく、アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンを製造する方法に関する。アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンは、例えば、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。
Claims (3)
- 金属触媒の存在下、一般式（１）
で示されるアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するニトロベンゼンと水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
でアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法。 - 金属触媒の金属が、白金である請求項１記載のアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法。
- 金属触媒が、硫黄により活性を低下させた白金／炭素である請求項１記載のアラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有するアニリンの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006173562A JP4984676B2 (ja) | 2005-07-22 | 2006-06-23 | ベンジルオキシ基を有するアニリンの製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005212693 | 2005-07-22 | ||
| JP2005212693 | 2005-07-22 | ||
| JP2006173562A JP4984676B2 (ja) | 2005-07-22 | 2006-06-23 | ベンジルオキシ基を有するアニリンの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007051128A true JP2007051128A (ja) | 2007-03-01 |
| JP4984676B2 JP4984676B2 (ja) | 2012-07-25 |
Family
ID=37915820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006173562A Expired - Fee Related JP4984676B2 (ja) | 2005-07-22 | 2006-06-23 | ベンジルオキシ基を有するアニリンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4984676B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008087736A1 (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Ube Industries, Ltd. | アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有する芳香族アミンの製法 |
| CN108285421A (zh) * | 2018-01-26 | 2018-07-17 | 黑龙江鑫创生物科技开发有限公司 | 一种微通道反应器合成拉帕替尼中间体的方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143731A (ja) * | 1974-10-08 | 1976-04-14 | Mitsubishi Chem Ind | |
| JPH07109260A (ja) * | 1993-10-12 | 1995-04-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ５−アミノ−２−ニトロピリジン誘導体及び２，５−ジアミノ−３−ヒドロキシピリジン誘導体の製造方法 |
| JP2001503772A (ja) * | 1996-11-11 | 2001-03-21 | セプラクール，インコーポレイテッド | フォルモテロールの光学的に純粋な異性体の製造方法 |
| JP2002348268A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Ntt Advanced Technology Corp | 含フッ素芳香族化合物およびその製造方法 |
| JP2003012647A (ja) * | 2000-10-04 | 2003-01-15 | Shionogi & Co Ltd | ２，３−ジアミノピリジンの製造方法 |
| WO2003064399A1 (fr) * | 2002-01-28 | 2003-08-07 | Ube Industries, Ltd. | Procede de production de derive de quinazolin-4-one |
-
2006
- 2006-06-23 JP JP2006173562A patent/JP4984676B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5143731A (ja) * | 1974-10-08 | 1976-04-14 | Mitsubishi Chem Ind | |
| JPH07109260A (ja) * | 1993-10-12 | 1995-04-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ５−アミノ−２−ニトロピリジン誘導体及び２，５−ジアミノ−３−ヒドロキシピリジン誘導体の製造方法 |
| JP2001503772A (ja) * | 1996-11-11 | 2001-03-21 | セプラクール，インコーポレイテッド | フォルモテロールの光学的に純粋な異性体の製造方法 |
| JP2003012647A (ja) * | 2000-10-04 | 2003-01-15 | Shionogi & Co Ltd | ２，３−ジアミノピリジンの製造方法 |
| JP2002348268A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Ntt Advanced Technology Corp | 含フッ素芳香族化合物およびその製造方法 |
| WO2003064399A1 (fr) * | 2002-01-28 | 2003-08-07 | Ube Industries, Ltd. | Procede de production de derive de quinazolin-4-one |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008087736A1 (ja) * | 2007-01-19 | 2008-07-24 | Ube Industries, Ltd. | アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有する芳香族アミンの製法 |
| JPWO2008087736A1 (ja) * | 2007-01-19 | 2010-05-06 | 宇部興産株式会社 | アラルキルオキシ又はヘテロアラルキルオキシ基を有する芳香族アミンの製法 |
| CN108285421A (zh) * | 2018-01-26 | 2018-07-17 | 黑龙江鑫创生物科技开发有限公司 | 一种微通道反应器合成拉帕替尼中间体的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4984676B2 (ja) | 2012-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4984676B2 (ja) | ベンジルオキシ基を有するアニリンの製法 | |
| US20030181731A1 (en) | Process for producing 5-fluorooxyindole and for producing intermediates therefor | |
| EP2123627B1 (en) | Process for producing aromatic amine having aralkyloxy or heteroaralkyloxy group | |
| JP4032861B2 (ja) | β−オキソニトリル誘導体又はそのアルカリ金属塩の製法 | |
| JP5205971B2 (ja) | テトラヒドロピラン化合物の製造方法 | |
| JP5507147B2 (ja) | ピリミジニルアルコール誘導体の製造方法及びその合成中間体 | |
| JP4538993B2 (ja) | β−ケトニトリル誘導体の製法 | |
| JP4165110B2 (ja) | ４−オキシピリミジン誘導体の製法 | |
| JP4937442B2 (ja) | ５−フルオロオキシインドールの製造法 | |
| WO2007072841A1 (ja) | ２－オキシインドール化合物の製法 | |
| JP4487674B2 (ja) | テトラヒドロピラニル−４−カルボキシレート化合物の製法 | |
| JP4507390B2 (ja) | １−アルキル−１−置換−３−有機スルホニルオキシアゼチジニウム塩及びその製法 | |
| JP3918468B2 (ja) | ３，３−ビス（アルコキシカルボニル−メチルチオ）プロピオニトリル及びその製造方法 | |
| JP4923698B2 (ja) | ４−アミノテトラヒドロピラン化合物の製法 | |
| JPWO2005063678A1 (ja) | フェニル酢酸誘導体の製造方法 | |
| WO2006115237A1 (ja) | ４－アミノ－２－アルキルチオ－５－ピリミジンカルバルデヒドの製法 | |
| JP4517337B2 (ja) | ４−置換キナゾリン化合物の製法 | |
| JP2009040790A (ja) | ５−フルオロオキシインドールの製造法 | |
| JPH11171876A (ja) | ２，４−オキサゾリジンジオン類の製造方法 | |
| JP2006347888A (ja) | ２−アラルキル又はヘテロアラルキルマロン酸化合物の製法 | |
| JP2006342102A (ja) | アリール又はヘテロアリール化合物の製法 | |
| JP2007290994A (ja) | ４−ｎ−置換アミノテトラヒドロピランの製法 | |
| JP2001328993A (ja) | 光学活性ホスフィン化合物 | |
| JP2004323457A (ja) | ４−アミノ−１−メチル−３−ｎ−プロピルピラゾール−５−カルボン酸アミドの製法 | |
| JP2004307389A (ja) | １−メチル−４−ニトロソ−３−ｎ−プロピルピラゾール−５−カルボン酸アミド及びその製法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090529 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100510 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111212 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120117 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120316 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20120316 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120416 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150511 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |