JP4559315B2 - 光学素子の成形方法 - Google Patents

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Description

本発明は、光学素子の成形方法に関し、特に、ガラスやプラスチック等の成形素材を使用して、レンズやプリズムなどを型成形によって製造する技術に関する。
たとえば、特許文献1および特許文献2に記載されているように、レンズやプリズムなどの光学素子の製造分野では、非球面等の複雑な光学面形状を有する光学素子の量産化が比較的容易な、型成形による製造技術が一般化している。
たとえば、特許文献1では、被成形ガラスを挟んで対向して配置された一対の成形用型の背後をヒータを内蔵した型ブロックで保持し、型ブロックをプランジャで押圧することで、被成形ガラスの加熱、押圧成形および冷却を一対の成形用型(成形工程)の内部で完結させる構成の光学素子の成形方法が開示されている。
この特許文献1の従来技術では、成形用型や型ブロックの全体を昇温ないし冷却する操作を反復する必要があるため、昇温および降温の1成形サイクルに多大な時間を要し、成形工程の能率が低下する。また成形サイクルを短縮すべく、冷却途中で早期に成形型を開いたり、加圧せずに成形型を解放して冷却すると必要な成形精度が得られない、という技術的課題があった。
このため、特許文献2では、成形サイクルの各段階を、加熱ステージおよび設定温度の異なる複数の加圧ステージで構成し、押型および胴型からなる型セットを、前記各ステージ間を逐次移動させることで、加熱、成形、冷却の一連の成形工程が完結する構成として、各ステージにおける加熱/冷却の反復を不要にして、成形工程の能率向上および成形精度の向上を実現しようとしている。すなわち、この特許文献2では、温度一定な成形ステージが多数あり、成形素材の加熱工程後に、この成形素材を次々に温度の低い成形ステージに移していき、成形するようにしていた。
しかし、成形で高い面精度を確保するためには、成形素材を型内に保持したままで連続的な温度変化と連続的な荷重の付与が必要であるにもかかわらず、上述の特許文献の従来技術では、設定温度が異なる値に設定された複数のステージ間を段階的に型セットが移動するため、温度の変化が段階的であってスムーズでない上に、ステージ間を移動する際に成形型の押圧荷重が解除される。このため、成形型の温度や押圧荷重の連続的で滑らかな変化を実現することが出来ず、成形品の高精度な面精度を確保するのに不向きであった。
この場合、強いて設定温度の滑らかな変化を実現するためには、設定温度の差が小さな多数のステージを配置することが考えられるが、成形装置の構造の複雑化、規模の増大を招き、成形設備の価格が高騰し、成形される光学素子の価格の増大をもたらす。
更に、上述のように、ステージ数を増やす対策では、最終ステージにおける成形製品の取り出しの時間的間隔を短縮して生産効率を向上させるためには、増加したステージ数分だけ、高価な型セットを準備して連続的に各ステージ間を移動させる必要があり、さらにコスト高となる。
特公平3−52414公報 特公平5−47488公報
本発明の目的は、設定温度の異なる工程の数を必要以上に増加させることなく、低コストで高精度の成形製品を得ることが可能な成形技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、型セットの数を必要以上に増加させることなく、低コストにて高精度の成形品を高スループットにて製造することが可能な成形技術を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、成形時に成形素材が一定の中心肉厚に到達したことを条件として、所定の制御温度に切り替えるようにして、制御温度の切り替え時点から成形完了までの成形素材の変形量を均一化した成形技術を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、成形時に成形素材の変形速度を適正にコントロールすることで、成形時間のばらつきを抑制し、常に良好な転写精度を得られるようにした成形技術を提供することにある。
本発明は、成形素材を挟んで対向する一対の成形型および前記成形型が挿嵌されるスリーブを含む型セットを、各々が互いに異なる温度に設定された加熱工程、成形工程および冷却工程を順に移動せしめつつ前記成形素材を成形する光学素子の成形方法であって、
前記成形工程および冷却工程の少なくとも一つ、前記型セットを一対の前記熱伝導体で挟持してから解放するまでの過程で、前記熱伝導体の設定温度を、高温側から低温側へと減少方向に変化させる変化工程を有する。
また、上記の光学素子の成形方法において、前記成形工程は、前記変化工程を有する。
さらに、上記の光学素子の成形方法において、前記成形工程では、前記型セットの前記成形型に対する荷重を漸増させる。
また、上記の光学素子の成形方法において、前記熱伝導体の設定温度は、前記型セットの解放後に、初期設定温度に復帰させられる。
また、上記の光学素子の成形方法において、前記成形工程では、前記型セットの押圧成形を開始した後、前記一対の成形型の型間距離が所定値に達した時点から前記変化工程を開始する。
また、上記の光学素子の成形方法において、前記成形工程では、前記型セットの押圧成形を開始した後、前記一対の成形型の型間距離の変化速度を検出して、前記変化速度が所定の速度よりも遅いときは前記熱伝導体の温度を上昇させ、速いときは前記熱伝導体の温度を下降させる。
本発明によれば、まず、互いに設定温度が異なる個々の工程間で型セットを移動させることで、一つの工程において型成形に必要な広い温度範囲での昇温ないし冷却を行う必要がない。そして、設定温度が互いに異なる個々の工程において熱伝導体で型セットを挟持し、当該工程で必要な温度範囲において、型セットの昇温ないし冷却を行う。このため、一つ工程で型成形に必要な広い温度範囲での昇温ないし冷却を行う場合に比較して、温度変更が必要な機構部の体積を小さく抑えることができる。そのため、加熱、成形、冷却の各工程において、型セットを温度変化させるときに温度変更の所要時間を短縮することができる。ひいては、1台あたりの生産設備による光学素子又は熱可塑性素材の成形個数を多くすることが出来る。
さらに、成形工程および冷却工程のうちの少なくとも一つの工程において、型セットを一対の熱伝導体で挟持してから解放するまでの過程で、前記熱伝導体の設定温度を、高温側から低温側へと減少方向に変化させる変化工程を有するので、例えば成形工程では、成形素材における段階的な温度変化や断続的な荷重の解放が発生しないので、成形型の成形面を高精度に成形素材に転写して、成形品における面精度を確保することが可能となり、また、例えば冷却工程では、急激な冷却による成形品のヒビ、割れ、カン等の発生が防止される等の利点を有する。
また、互いに設定温度の異なる複数の工程と、個々の工程での温度変化を組み合わせるので、微妙な温度変化を与える等の目的で、成形工程を、設定温度が僅かに異なる多数の工程に分割する必要がない。このため、工程数に応じた型セット数の増加も極力抑制でき、成形装置の価格高騰を抑えられるとともに、準備する型セットの数も最小限とすることができる。
本発明によれば、一定のタイミングで成形時の熱可塑性素材の制御温度を切り替えるのではなく、最終の成形過程において押込み量(成形量)を略一定とするために、転写性の向上が図られる。すなわち、成形当初は熱可塑性素材の軟化点に近い温度(熱可塑性素材が柔らかい状態)まで加熱する。この加熱された熱可塑性素材を、予め所定の位置まで押込んでいき(初期変形させ)、熱可塑性素材が所定の中心肉厚に到達したら、その時点を基準として最終成形に移行すべく、所定の制御温度に切り替える。これにより、最終の成形過程での押込み量を略同じ制御温度で成形することが可能となり、押込量不足や押込量過多による転写不良や肉厚不良が抑制される。
本発明によれば、熱可塑性素材の変形速度を適正にコントロールすることで、成形時間がばらつくのを抑制し、良好な転写精度が得られるようになる。すなわち、変形可能な粘度に加熱軟化した熱可塑性素材を押圧成形する際、検知手段により一対の成形型の型間距離を連続的に検知して、成形時における型間距離の変化速度を演算する。そして、その変化速度が、予め設定した目標設定速度に対して遅いときは、成形工程での制御温度を上昇させて目標設定速度に近づける。また、その変化速度が、予め設定した目標設定速度に対して速いときは、成形工程での制御温度を下降させて目標設定速度に近づける。これにより、成形時間の大幅な変動や、熱可塑性素材の粘土の不適正等、熱可塑性素材のばらつき等に起因する成形品質への影響を抑制可能となる。
本発明によれば、設定温度の異なる工程の数を必要以上に増加させることなく、低コストで高精度の成形製品を得ることが可能となる。
また、型セットの数を必要以上に増加させることなく、低コストにて高精度の成形品を高スループットにて製造することが可能となる。
更に、本発明によれば、熱可塑性素材の体積バラツキや、装置コンディションによる加熱能力のバラツキに影響されることなく、略同一の押込み量(成形量)を略同じ制御温度で変形成形できるので、成形終了時に所望の厚さまで熱可塑性素材を変形成形できなかったり、押込み量不足による転写不良が生じるのを防止することができる。
更にまた、本発明によれば、成形時間がみだりに変動するのを防止することができると共に、所望の厚さまで熱可塑性素材を変形成形できなかったり、熱可塑性素材の粘度の不適正による転写精度の低下を防止することができる。これにより、熱可塑性素材や装置状態のばらつきに起因する成形品品質への影響を改善することができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の一実施の形態である成形方法を実施する成形装置の構成の一例を示す概念図であり、図2は、本実施の形態の成形装置の熱伝導体の一つを取り出して示す断面図、図3は、本実施の形態の成形装置に供される型セットの構成の一例を示す断面図、図4および図5は、本実施の形態の成形方法および成形装置の作用の一例を示す線図である。
まず、図3を参照して、本実施の形態にて用いられる型セット1の構成について説明する。本実施の形態の型セット1は、上型2、下型3、スリーブ4を含んでいる。上型2および下型3は、スリーブ4の内部で、それぞれの成形面2aおよび成形面3aが対向するように当該スリーブ4の両端側から挿嵌され、上型2はスリーブ4の軸方向に摺動可能になっている。上型2の成形面2aと下型3の成形面3aの間には、たとえばガラスやポリエチレン、ポリカーボネイト等の熱可塑性素材で造られた成形素材5が配置されている。本実施の形態の場合、上型2および下型3は、一例としてタングステンカーバイド(WC)等の超硬合金を研磨して製作されている。また、成形素材5は、たとえば略球体形状を呈する市販の光学ガラス(たとえば、株式会社オハラ製のS−LAH58)で構成されている。
一方、図1に例示されるように、本実施の形態の成形装置6は、加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20を備えている。
加熱工程部18は、上下に対向する一対の熱伝導体としての上伝熱板8および下伝熱板9と、上伝熱板8を上下(対向)方向に駆動する駆動手段としてのエアシリンダ15を含んでいる。エアシリンダ15による上伝熱板8の昇降動作により、加熱工程部18における型セット1の挟持、挟圧、解放等の動作が行われる。上伝熱板8および下伝熱板9には、温度調節器24および温度調節器25がそれぞれ接続されており、上伝熱板8および下伝熱板9の温度制御が行われる。
成形工程部19は、上下に対向する一対の熱伝導体としての上伝熱板10および下伝熱板11と、上伝熱板10を上下(対向)方向に駆動する駆動手段としてのエアシリンダ16を含んでいる。エアシリンダ16による上伝熱板10の昇降動作により、成形工程部19における型セット1の挟持、挟圧、解放等の動作が行われる。上伝熱板10および下伝熱板11には、温度調節器26および温度調節器27がそれぞれ接続されており、上伝熱板10および下伝熱板11の温度制御が行われる。
冷却工程部20は、上下に対向する一対の熱伝導体としての上伝熱板12および下伝熱板13と、上伝熱板12を上下(対向)方向に駆動する駆動手段としてのエアシリンダ17を含んでいる。エアシリンダ17による上伝熱板12の昇降動作により、冷却工程部20における型セット1の挟持、挟圧、解放等の動作が行われる。上伝熱板12および下伝熱板13には、温度調節器28および温度調節器29がそれぞれ接続されており、上伝熱板12および下伝熱板13の温度制御が行われる。
加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20の各々を構成する一対の上伝熱板8と下伝熱板9、および上伝熱板10と下伝熱板11、および上伝熱板12と下伝熱板13は、成形室7に収容されている。
複数の温度調節器24〜温度調節器29、およびエアシリンダ15〜エアシリンダ17は、型セット1の移動タイミングを制御している動作制御盤30の指示により、個々の工程部での初期温度の設定、さらには温度変更および加圧等のタイミングの制御を行うようになっている。
すなわち、この動作制御盤30は、たとえばコンピュータで構成され、内部に設定されたプログラムにより、個々の工程部での、上伝熱板8〜下伝熱板13の初期温度等(後述の加熱工程温度T1、成形工程温度T2、成形初期温度Tms、成形終期温度Tme、冷却工程温度T3、冷却初期温度Tcs、冷却終期温度Tce)の設定、さらには加熱方向、冷却方向への温度変更およびエアシリンダ15〜エアシリンダ17による荷重Fの作用の有無等のタイミングの制御を行う機能を備えている。
図2に例示されるように、上伝熱板8〜下伝熱板13の各々は、板状の伝熱体23と、この伝熱体23の内部に埋設された内部ヒータ22で構成されている。本実施の形態の場合、伝熱体23は、熱伝導率の良いセラミックス(たとえば、窒化アルミニウム(AlN)/窒化ホウ素(BN)系のセラミックス)で構成され、加熱用の内部ヒータ22としては、セラミックヒータ(例えばSICセラミックヒータ)が使用されている。
そして、温度調節器24〜温度調節器29の各々は、内部ヒータ22に接続され、たとえば内部ヒータ22に対する通電量を制御することで伝熱体23の温度制御を行う。
このように、上伝熱板8〜下伝熱板13の各々を容積の小さな板状の伝熱体23で構成することにより、当該伝熱体23の温度は、内部ヒータ22による加熱/加熱停止により、良好な応答性にて制御される。
また、特に図示しないが、成形室7の内部には、加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20の間における型セット1の移動を行うための移動手段が設けられている。
以下、本実施の形態の成形方法および装置の作用の一例について説明する。
図4に示すように、本実施の形態における加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20の各々における初期設定温度は、それぞれ、加熱工程温度T1が830℃,成形工程温度T2が800℃,冷却工程温度T3が520℃に設定されているものとする。
図3に示す型セット1が、図示しない移動手段によって、成形室7内の加熱工程部18に投入されると、予め上述の加熱工程温度T1に温度が調節された上伝熱板8がエアシリンダ15の駆動により下降し、下伝熱板9との間で型セット1を挟持して伝熱する。このとき、上伝熱板8,下伝熱板9の830℃に対して、型セット1の内部の成形素材5の成形素材温度T0は、ほぼ60秒〜70秒で約780℃に達して軟化状態となる。
型セット1の加熱の完了後、エアシリンダ15の退避により上伝熱板8を上昇させて型セット1を解放し、解放された型セット1は図示しない移動手段によって成形工程部19に移動する。そして同様にエアシリンダ16の駆動により上伝熱板10を降下させて型セット1を下伝熱板11との間で挟持して伝熱し、加圧成形する。
このとき初期的には、上伝熱板8,下伝熱板9の成形工程温度T2(この場合、成形初期温度Tms:800℃)によって成形素材5の成形素材温度T0は750℃となる。一方、成形素材5は、この成形素材温度T0で軟化状態にあり、たとえば荷重F(たとえば20N(ニュートン))の印加により成形面2aおよび成形面3aの形状に塑性変形して成形されるが、冷却しないと硬化しないので、上伝熱板10,下伝熱板11の成形工程温度T2を成形初期温度Tms(この場合、800℃)から成形終期温度Tme(この場合、730℃)までなだらかに降下させることによって、成形素材5を除々に硬化させつつ加圧成形する。この成形工程部19で付与する荷重Fは、継続的に印加され、この荷重Fを、たとえば、2N(ニュートン)から20N(ニュートン)まで増圧しつつ成形する。
このようにして、たとえば、成形面2aと成形面3aの中心軸(光軸)における距離(すなわち、成形対象のレンズ等の光学素子の光軸における厚さ寸法)が所定の規定値になるまで、すなわち所望の中肉(なかにく:中心部の肉厚)まで、成形素材5を押込んだところで押し込み動作を停止し、上伝熱板10,下伝熱板11の温度が成形終期温度Tme(この場合、730℃)で成形素材温度T0が700℃となって硬化が完了し、成形工程を完了する。
そして、エアシリンダ16を退避して型セット1を解放し、図示しない移動手段によって冷却工程部20に移動させる。
そして、冷却工程部20では、エアシリンダ17の駆動により上伝熱板12を降下させて型セット1を下伝熱板13との間で挟持して所定の温度まで冷却する。このとき、上伝熱板12および下伝熱板13の冷却初期温度Tcs(この場合、520℃)により成形素材温度T0(成形素材5)は540℃まで冷却されて、さらに、上伝熱板12,下伝熱板13の温度を冷却終期温度Tce(この場合、430℃)までスムーズに低下させ、成形素材温度T0が、たとえば450℃となるようにして、急激な冷却による成形品のヒビ、割れ、カン(表面の微小欠落)の発生を防止する。
この冷却工程の完了後、エアシリンダ17を退避し上伝熱板12を上昇させ、型セット1を解放したのち、図示しない移動手段によって成形室7の外に排出する。型セット1の内部の成形素材5(成形品)は上型2および下型3をスリーブ4から抜去して取り出す。
本実施の形態によれば、成形素材5の加熱終了後の成形から硬化まで間において、成形素材5に対して連続的に荷重を付加しつつ、かつ温度をスムーズに下げて当該成形素材5を硬化させているので、成形素材5における段階的な温度変化や断続的な荷重の解放が発生しないので、成形面2aおよび成形面3aを高精度に成形素材5に転写して、成形品における面精度を確保することができる。
また、成形品の品質を優先する場合でも、滑らかな加熱や冷却を実現する目的で工程を設定温度の異なる多数の工程に必要以上に細分化する必要がなく、工程数の増加による成形装置の価格の高騰もなく、かつ、工程数に応じて高価な型セットを必要以上に多く準備する必要もない。
すなわち、設定温度の異なる工程の数を必要以上に増加させることなく、低コストで高精度の光学素子等の成形製品を得ることが可能となる。また、型セット1の数を必要以上に増加させることなく、低コストにて高精度の成形品を高スループットにて製造することが可能となる。
[変形例1]
成形素材5を成形するときに、連続的な荷重の付加と段階的でないスムーズな温度変化としたい温度範囲では、通常使用する熱可塑性の成形素材5を加熱して変形可能な硬さとし、その後、冷却して変形不能な硬さまで保持し続けることが望ましい。
その場合、軟化温度の上限(成形上限温度TH)は屈伏点At+30℃までに抑える必要があり、それ以上軟らかくしようとしても、成形素材5が変質して透明度が失われたり、小さく結晶化が発生して不良品となってしまう。
また、逆に冷却する温度の下限(成形下限温度TL)は転移点Tg−30℃で、それより温度を下げても成形素材5は硬化しきっており、逆に荷重によって表面的なキズや割れが発生する怖れがでてくる。
つまり、本変形例では、連続的かつスムーズに荷重および温度を変化させて成形する温度範囲は、素材の屈伏点Atと転移点Tgによって、上限(成形上限温度TH)はAt+30℃で、下限(成形下限温度TL)はTg−30℃の変形温度範囲内で成形する。これにより、成形素材5から得られる成形品の失透、結晶化、表層キズ、表層割れなどの不具合の発生を回避することができる。
[変形例2]
本変形例の場合、成形素材5の成形時における型セット1の温度の変更幅については、たとえば、100℃を超えるような比較的大きな温度変化を要する場合は、それぞれに異なる温度に設定された工程間の型セット1の移動により、当該型セット1に温度変化を与え、また、100℃に満たないような比較的小さな温度変化を要する場合は、各工程に装備した上下の伝熱板の設定温度の変更によって、型セット1に温度変化を与えるようにする。この基準で、工程間の移動による温度制御および工程内での温度制御を使い分けることにより、工程の細分化を防止し工程数の増加を抑制する。
本変形例において、上述の温度幅を100℃とした理由は以下の通りである。すなわち、本実施の形態では、上述の図2に例示したように、個々の上下の伝熱板を構成する内部ヒータ22に、比較的温度復帰レスポンスの良いセラミックヒータ(例えばSICセラミックヒータ)を使用し、それを内包する伝熱体23には熱伝導率の高いセラミックヒータ(例えばAlN―BNセラミック)を使用しており、温度変化量が100℃までなら比較的早く、たとえば70秒以内で再び元の初期設定温度に復帰させることができる、という結果が得られている。しかし、それ以上の温度差がついてしまうと復帰にそれ以上長い時間を要してしまい、複数の工程部からなるラインのバランスが崩れてしまう。
この70秒という値は、加熱工程部18において、市販のS−LAH58からなる成形素材5を常温から780℃まで昇温するのに要する時間とほぼ同等であり、工程バランスがとりやすいというメリットがあり、この70秒で復帰可能な温度範囲として、上述の100℃を採用している。
このような、本変形例における工程の分割設定方法によれば、成形装置の分割工程数を、明確な基準で決定することができ、必要以上に工程数が増加することを防止して、成形工程の設備価格の高騰を防止できるとともに、必要な型セット1の数を適度に抑制することができる。
[変形例3]
加熱軟化が完了した成形素材5を押圧変形させて成形する場合において、成形工程部19の温度変化は変形例1と変形例2に示す温度範囲において実施することが良好な転写性を実現する観点から有効である。さらに、成形素材5の加熱軟化後の成形工程における、上下の伝熱板、型セット1および成形素材5の温度変化は、上述の実施の形態に示すように、連続的かつスムーズに、高温側から低温側に、つまり成形素材5が軟らかい側から硬い側に変化しつつ、その間、常時、荷重Fを付加して変形させるのが、転写性のさらなる向上に有効である。
もし、低温で硬い成形素材5を除々に加熱して荷重Fを付加し、成形素材5を軟化して行き、変形を進行させて、その工程で最も成形素材5が軟らかくなった時点で目的の形状に達し、成形を完了したとすると、成形工程部19を終了するために荷重Fを解除して型セット1を取り出すときに成形素材5の表層が軟らかいために当該成形素材5が型内で動いてしまい、良好な転写性を得ることは不可能である。
よって本変形例では、温度を成形初期温度Tmsから成形終期温度Tmeまで低下させつつ、この温度変化に同期して荷重Fを同時に漸増するように付加することで、つまり成形素材5の硬化と変形を同時に進行させることで良好な面精度を実現する。
[変形例4]
本変形例では加熱工程部18の後の成形工程部19において、上伝熱板10、下伝熱板11、型セット1、成形素材5の温度を低下させつつ荷重Fを付加して、硬化と変形を同時に進行させ良好な転写性を得る。
当該成形工程部19の終了後において、次の成形品を成形するためには、低下させた温度を元の初期温度に回復させておく必要がある。そうすることで、次の成形品が成形工程部19に到来した時点で即座に成形工程を実施することが可能となる。
すなわち、図4、図5に例示されるように、加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20の各々における設定温度への復帰は、前の型セット1の成形工程が完了してから、次の型セット1の加熱工程が完了するまでの間に、成形工程温度T2、冷却工程温度T3の温度復帰が完了するように調整する。図5の成形工程部温度復帰時点A1と次の成形工程開始時点A2を近付けると、繰り返しピッチタイムの最短化が可能になる。そのとき、先行する型セットが成形工程中に、次の型セットが加熱に入っているという場合もある。また、冷却工程部復帰時点B1と次の冷却工程開始時点B2の前後関係を加味してA1とA2をできるだけ近接させる必要がある。
以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、加熱工程部18、成形工程部19および冷却工程部20の個々の工程において、工程部の全体を昇温ないし冷却せずに、上伝熱板8、下伝熱板9、上伝熱板10、下伝熱板11、上伝熱板12、下伝熱板13の各々を内部ヒータ22で選択的に加熱/冷却することで、型セット1のみを昇温ないし冷却するので、温度が変化する構成部位の体積を小さくすることができ、温度制御に際しての温度の変更所要時間を短縮することができる。ひいては、生産設備における単位時間当たりの生産個数(スループット)を大きくすることができる。
また、たとえば成形工程部19では、上伝熱板10および下伝熱板11の設定温度を変化させつつ荷重Fを連続的に付加して成形するため、荷重Fは途中で解放されることなく連続性を確保することができるとともに、温度変化においても、段階的ではなくスムーズな温度変化を維持できるので、成形素材5の連続的で滑らかな型成形を実現することができる。よって、成形面2aおよび成形面3aの成形素材5に対する転写精度が向上し、成形素材5から型成形にて高精度な成形品を得ることができる。
更に本実施の形態では、工程の分割数の決定に際して上述のような基準を設けることで、工程数の増加を極力抑制するので、成形装置6の価格高騰を抑えるとともに、準備する型セット1の数も最小限とすることができる。
なお、本発明は、上述の実施の形態に例示した構成に限らず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
(第2の実施の形態)
図6は、第2の実施の形態の成形装置を示している。同図において、図1に示した部材と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。また、前述と同様に、成形素材5も、ガラスやポリエチレン、ポリカーボネイト等の熱可塑性素材を用いた場合について説明する。
図6において、本実施の形態では、加熱工程部18において、870℃の伝熱板(熱伝導体)9上で加熱された型セット1は、移動アーム35によって成形工程部19に搬送される。この成形工程部19では、上下伝熱板(熱伝導体)10,11が830℃に加熱されており、ここでエアシリンダ(駆動手段)16により約2Nで挟持成形が開始される。そして、成形開始後、直径4.0mmの成形素材5の中心肉厚が3.8mmまで潰れたところで、上下伝熱板10,11の制御温度を切り替える。
このときの成形素材5の中心肉厚は、上下型2,3間の距離すなわち上下伝熱板10,11間の距離で測定される。上下伝熱板10,11間の距離は、エアシリンダ16のロッド16aに固定された検知片40の変位量を、成形室7のフレームに取付けたセンサ(検知手段)41にて検知して行う。そして、この検知信号に基づき、制御部(制御手段)42の高さ監視部46にて、内部に設定されたプログラムにより型セット1の型間距離が演算される。また、制御部42は、前述した高さ監視部46と、該高さ監視部46での演算結果に基づき加熱温度や加圧荷重等を制御する温度制御部43、荷重制御部44、動作制御部45を有している。以上により、センサ41からの検知信号は、高さ監視部46に取り込まれ、この高さ監視部46での演算結果に基づき、制御部42を介して型セット1に対する温度制御、荷重制御、動作制御が行われる。なお、前記センサ41としては、例えば光センサや磁気センサ等の非接触センサが用いられるが、これに限らず、例えばリニアポテンショメータ等の接触式センサであっても良い。
次に、図7(a)(b)に基づき、制御部42における制御内容を説明する。
図7(a)は、成形工程部19における成形温度と成形時間との関係を示す図であり、図7(b)は、高さ監視部46での演算内容を示すもので、押込み量(成形量)と成形時間との関係を示す図である。
同図(a)(b)において、前述したように、成形工程部19では、上下伝熱板(熱伝導体)10,11が830℃に加熱されていて、ここでエアシリンダ16により型セット1の挟持成形が開始される。このとき、エアシリンダ16のロッド16aの変位量は、センサ41によって検知されている。そして、成形開始位置(a点)では、球形の成形素材5の直径は4.0mmである。次いで、エアシリンダ16を駆動させて、約2Nで型セット1を押圧して成形素材5の挟持成形を行う。このとき、成形素材5の中心を通る肉厚が、3.8mmまで潰れたところで(b点)、制御部42により、上下伝熱板10,11の制御温度を800℃に切り替える。
更に、これと略同時に、エアシリンダ16による押圧荷重を約2Nから約15Nに増圧し、成形素材5を冷却硬化させつつ変形成形を行う。そして、成形素材5が変形して、その中心肉厚が1.2mmとなったところで変形成形を完了する(c点)。次いで、エアシリンダ16による押圧荷重をゼロとし、対向する上下伝熱板10,11を解放する。次に、移動アーム35によって型セット1を冷却工程部20に移動させる。
なお、本実施の形態で用いた成形素材5は、球状直径φ4mm、成形外径5mmの光学ガラス(OHARA製)S−LAH58である。
本実施の形態によれば、最終の変形成形量(b点からc点までの変形量)は、常に2.6mm(途中中心肉厚3.8mm―最終中心肉厚1.2mm)と毎回一定となり、この区間では温度・荷重も等しく与えることで、均等な成形条件を得ることができる。これにより、成形品の品質(成形品中心肉厚、転写精度)を安定させることができる。また、成形素材5の中心肉厚が1.2mmとなったところで、変形成形を完了するようにしたので、常に、最終の変形成形距離を一定に保つことができる。このため、変形成形時間が大幅に変動することもなく、また、押込み量(成形量)も一定化させることができるので、転写不良の発生も抑制することができる。
(第3の実施の形態)
図8は、第3の実施の形態の成形装置を示している。同図において、図1及び図6に示した部材と同一又は相当する部材には同一の符号を付して説明する。また、成形素材5も、ガラスやポリエチレン、ポリカーボネイト等の熱可塑性素材を用いた場合について説明する。
図8において、本実施の形態では、加熱工程部18において、型セット1は成形素材5の軟化点付近の温度870℃に加熱されて適度な粘度に軟化されている。この後、型セット1は、移動アーム35によって成形工程部19に搬送される。この成形工程部19では、上下伝熱板10,11が、制御温度を800℃に加熱されている。この状態で、エアシリンダ(駆動手段)16が駆動されて、約2Nで型セット1を押圧して成形素材5の挟持成形が開始される。
本実施の形態では、前記と同様に、上下型2,3の型間距離は上下伝熱板10,11間の距離で測定される。この上下伝熱板10,11間の距離は、エアシリンダ16のロッド16aに固定された検知片40を、成形室7のフレームに取付けたセンサ41にて連続的に検知することで行われる。そして、この検知信号が制御部(制御手段)42の速度監視部51に取り込まれ、この速度監視部51では、内部に設定されたプログラムにより、センサ41からの前記検知信号に基づき、上下型2,3の型間距離の変化速度を演算する。制御部42は、速度監視部51と、該速度監視部51にて演算された上下型2,3の型間距離の変化速度に基づき温度制御や荷重制御等を行う温度制御部43、荷重制御部44、動作制御部45を有している。なお、前記センサ41としては、例えば光センサや磁気センサ等の非接触センサが用いられるが、これに限らず、例えばリニアポテンショメータ等の接触式センサであっても良い。
次に、図9(a)(b)に基づき、制御部42における制御内容を説明する。
図9(a)は、速度監視部51での演算内容を示すもので、成形工程部19におけるロッド部16aの高さ位置と成形時間との関係を示す図であり、図9(b)は、制御温度と成形時間との関係を示す図である。同図(a)において、この速度監視部51では、エアシリンダ16による成形開始位置(荷重開始位置)o点より0.4秒後におけるロッド部16aの高さ位置a点と、成形開始位置o点より0.6秒後におけるロッド部16aの高さ位置b点に基づき、型セット1の型間距離の変化速度V=(a−b)mm/ΔT(0.2sec)を求める。なお、成形開始位置o点より0.4秒後におけるロッド部16aの高さ位置a点を基準としたのは、上伝熱板10が型セット1に当接するまでに必要十分な時間として設定したものである。図9(a)によると、o'点で上伝熱板10が型セット1に当接したことがわかる。
そして、この変化速度Vの値が、基準値V0=1.0mm/secよりも小さい場合(図9(a)のV1=(a−b1)mm/ΔT(0.2sec)参照)は、制御部42により、成形工程部19の上下伝熱板10,11の制御温度をプラス5℃だけ変更制御する。これは、成形素材5の硬度が高いので、制御温度を高めて素材硬度を適度に低下させて変化速度を高め、基準値V0に近づけるためである。
また、変化速度Vの値が、基準値V0=1.0mm/secより大きい場合(図9(a)のV2=(a−b2)mm/ΔT(0.2sec)参照)は、制御部42により、成形工程部19の上下伝熱板10,11の制御温度をマイナス5℃だけ変更制御する。これは、成形素材5の硬度が柔らかいので、制御温度を下げて素材硬度を適度に高くして変化速度を遅くし、基準値V0に近づけるためである。
この場合、この温度制御と略同時に、エアシリンダ16による成形荷重を初期の2Nから15Nに増圧して変形成形を行う。
更に、図示しないが、成形開始時点より1.0秒後と1.2秒後において、同様の変化速度Vを求め、その結果、2つめの基準値V02=2.0mm/secよりも小さい場合は、成形工程部19の上下伝熱板10,11の制御温度をプラス10℃分変更制御し、また、大きい場合はマイナス10℃分変更制御を行う。
なお、本実施の形態で用いた成形素材5は、球状直径φ4mm、成形外径5mmの光学ガラス(OHARA製)S−LAH58である。また、ポリエチレン、ポリカーボネイトについては、その材料の温度・粘度特性から、別途設定して同様の方法を実施することが可能である。
本実施の形態によれば、加熱完了後で成形工程部19に型セット1を搬送し、押圧変形を開始した段階で、成形素材5の硬さが硬すぎて変化速度Vが十分得られない場合は、制御温度を上げて硬化速度を緩和することで以後の変化速度Vの低下を抑制することができる。一方、成形素材5の硬さが柔らかすぎて変化速度Vが速すぎる場合は、制御温度を下げて硬化速度を早めることで、以後の変化速度Vの低下を促進することができる。
すなわち、本実施の形態によれば、成形時間がみだりに早くなったり遅くなったりすることを防止することができると共に、最終肉厚まで変形成形できなかったり、成形素材5の粘度の不適正による転写精度の低下を防止することができる。これにより、成形素材5や装置状態のばらつきに起因する成形品質への不具合を抑制することができる。
なお、上述した実施の形態の、フィードバックの分解能と回数については、適宜レンズの大きさや装置の仕様と環境によって自由に設定すれば、より適正な効果を得ることができる。また、変更された制御温度は、次の成形品の成形時における基準温度とすることで、連続的に同一部品の成形を行う場合は、次第に条件が適正化されるという利点を有する。
本発明の第1の実施の形態である成形方法を実施する成形装置の構成の一例を示す概念図である。 本発明の第1の実施の形態である成形装置の一部を取り出して示す断面図である。 本発明の第1の実施の形態である成形装置に供される型セットの構成の一例を示す断面図である。 本発明の第1の実施の形態である成形方法および成形装置の作用の一例を示す線図である。 本発明の第1の実施の形態である成形方法および成形装置の作用の一例を示す線図である。 本発明の第2の実施の形態の成形装置を示す図である。 (a)は、成形工程部における成形温度と成形時間との関係を示す図であり、(b)は、押込み量(成形量)と成形時間との関係を示す図である。 本発明の第3の実施の形態の成形装置を示す図である。 (a)は、成形工程部におけるロッド部の高さ位置と成形時間との関係を示す図であり、(b)は、制御温度と成形時間との関係を示す図である。
符号の説明
1 型セット
2 上型
2a 成形面
3 下型
3a 成形面
4 スリーブ
5 成形素材
6 成形装置
7 成形室
8 上伝熱板
9 下伝熱板
10 上伝熱板
11 下伝熱板
12 上伝熱板
13 下伝熱板
15 エアシリンダ
16 エアシリンダ
16a ロッド部
17 エアシリンダ
18 加熱工程部
19 成形工程部
20 冷却工程部
22 内部ヒータ
23 伝熱体
24 温度調節器
25 温度調節器
26 温度調節器
27 温度調節器
28 温度調節器
29 温度調節器
30 動作制御盤
35 移動アーム
40 検知片
41 センサ
42 制御部
46 高さ監視部
51 速度監視部
T0 成形素材温度
T1 加熱工程温度
T2 成形工程温度
T3 冷却工程温度
TH 成形上限温度
TL 成形下限温度
Tce 冷却終期温度
Tcs 冷却初期温度
Tme 成形終期温度
Tms 成形初期温度
Tg 転移点
At 屈伏点
F 荷重

Claims (6)

  1. 成形素材を挟んで対向する一対の成形型および前記成形型が挿嵌されるスリーブを含む型セットを、各々が互いに異なる温度に設定された加熱工程、成形工程、および冷却工程を順に移動せしめつつ前記成形素材を成形する光学素子の成形方法であって、
    記成形工程および前記冷却工程のうちの少なくとも一つ、前記型セットを一対の熱伝導体で挟持してから解放するまでの過程で、前記熱伝導体の設定温度を、高温側から低温側へと減少方向に変化させる変化工程を有する、光学素子の成形方法。
  2. 請求項1記載の光学素子の成形方法において、
    前記成形工程は、前記変化工程を有する、光学素子の成形方法。
  3. 請求項1又は2記載の光学素子の成形方法において、
    前記成形工程では、前記型セットの前記成形型に対する荷重を漸増させる、光学素子の成形方法。
  4. 請求項1乃至3のいずれか記載の光学素子の成形方法において、
    前記熱伝導体の設定温度は、前記型セットの解放後に、初期設定温度に復帰させられる、光学素子の成形方法。
  5. 請求項1乃至4のいずれか記載の光学素子の成形方法において、
    前記成形工程では、前記型セット押圧成形を開始した後、前記一対の成形型の型間距離が所定値に達した時点から前記変化工程を開始する、光学素子の成形方法。
  6. 請求項1乃至5のいずれか記載の光学素子の成形方法において、
    前記成形工程では、前記型セット押圧成形を開始した後、前記一対の成形型の型間距離の変化速度を検出して、前記変化速度が所定の速度よりも遅いときは前記熱伝導体の温度を上昇させ、速いときは前記熱伝導体の温度を下降させる、光学素子の成形方法。
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