JP3759190B2 - 光学素子の成形方法 - Google Patents

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    • Y02P40/50Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、レンズやプリズム等の光学素子の素材を複数個同時に加熱軟化し加圧成形し、異なる光学素子を同じ装置で同時に作製する光学素子の成形方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、成形型内に光学素子素材を収容して加熱軟化させ加圧成形し、高精度の光学素子を成形する方法が一般化する中、レンズコストを低減するために、複数の光学素子を同時に成形する方法や、成形サイクルを短くし連続的にプレス成形することができるレンズの成形方法が開示されている(例えば、特開昭61ー227929号公報、特開平4−164826号公報)。
【0003】
特開昭61ー227929号公報記載の発明においては、貫通穴が複数箇所配設された胴型プレートに成形型と光学素子素材を載置し、加熱し一挙に加圧成形する方法が開示されている。
【0004】
また、特開平4−164826号公報記載の発明においては、ガラス素材を挟持した一対の成形型と胴型からなる成形ブロックを、加熱、変形、冷却の各工程順に実施して行きレンズを成形する方法が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、前記従来技術には、以下のような問題があった。
【0006】
特開昭61ー227929号公報記載の発明においては、複数個の成形型および光学素子素材を1つの胴型プレートに載置することにより胴型プレートの体積が増大する結果、熱容量が増すことになり、昇温までに要する時間および熱分布が安定するまでに要する時間、また成形後における所定温度に降温する時間が非常に長くなり、成形装置の能率が上がらず、生産性が著しく低いという問題があった。
【0007】
特開平4−164826号公報記載の発明においては、加熱、変形、冷却の各工程に分割され生産効率の改善がなされたが、レンズ性能を確保するための必要な成形サイクル(成形タクト)が決まっているため、さらに生産数をアップするためには、いくつもの製造装置が必要となり、設備投資によってレンズコストを充分に下げることができなかった。また、異なるレンズを同時に生産する場合にも、別に製造装置が必要になり、レンズのコストが下がらない要因になっていた。
【0008】
さらに、特開平4−164826号公報記載の発明の製造装置おいては、加熱、変形、冷却の各ブロック(ステージ)はヒ−タ−を埋設しただけの構造で、ブロック表面の均熱や酸化に対する処置が無いため、複数個のレンズの同時成形や大口径のレンズの成形でレンズの性能が得られないことや、ブロック表面の酸化によるブロックの劣化で寿命が短く、度々メンテナンスや交換による費用が発生していた。
【0009】
また、成形ブロックの上成形型とブロックとの吸着あるいは密着によって上方に持ち上げられ成形作業に支障をきたすことを防ぐために、ブロック内に離型ピンや圧縮バネを埋設した構造の離型手段を採用しているが、離型ピンの位置に上成形型を配置する必要があるため複数個同時に成形する場合は、同時成形の数だけピンをブロックに埋設する必要が生じた。
【0010】
このため、同時に成形する数が離型ピンの数で限定されることや、同時成形の数だけ離型ピン、ピン挿入穴やバネ等が必要になりコストが高くなることや、断熱板に複数の穴加工を施す必要があるため断熱効果が小さくなり、ブロックの温度分布が悪くなる等の問題があった。
【0011】
本発明は、これらの問題点に着目してなされたもので、複数の独立した成形ブロックに必要な成形温度制御を短時間で遂行することができるとともに、安価で異なる高精度な光学素子を複数個同時に連続して成形することのできる光学素子の成形方法の提供を目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明の光学素子の成形方法は、一対の成形型と胴型と熱容量調整用胴型および光学素子素材で構成されている独立した異なる成形ブロックのそれぞれの熱容量を、成形中における前記成形ブロックの温度プロファイルが少なくとも前記光学素子素材の加圧成形温度から、前記光学素子素材の転移温度以下までの冷却工程の成形温度プロファイルに一致するように前記熱容量調整用胴型の熱容量によって調整する工程と、
前記光学素子素材を載置した前記成形ブロックを加熱炉内に搬入する工程と、
加熱手段により前記光学素子素材を加熱軟化する加熱工程と、
加熱軟化した前記光学素子素材を加圧成形する加圧成形工程と、
加圧成形した前記光学素子素材を冷却し加熱炉外へ搬出する冷却工程と、
前記成形ブロックより光学素子を取り出す工程を含むことを特徴とする。
【0013】
本発明の別の光学素子の成形方法は、一対の成形型と胴型と熱容量調整用胴型および光学素子素材で構成されている複数の独立した異なる成形ブロックを同時に加熱炉内に搬入するに際し、前記成形ブロックのそれぞれの熱容量を、成形中における前記成形ブロックの温度プロファイルが少なくとも前記光学素子素材の加圧成形温度から、前記光学素子素材の転移温度以下までの冷却工程の成形温度プロファイルに一致するように前記熱容量調整用胴型の熱容量によって調整する工程と、
前記光学素子素材を載置した前記成形ブロックを加熱炉内に搬入する工程と、
加熱手段により前記光学素子素材を加熱軟化する加熱工程と、
加熱軟化した前記光学素子素材を加圧成形する加圧成形工程と、
加圧成形した前記光学素子素材を冷却し加熱炉外へ搬出する冷却工程と、
前記成形ブロックより光学素子を取り出す工程を含むことを特徴とする。
【0014】
【作用】
本発明の光学素子の製造方法は、複数の独立した成形ブロック内に載置した光学素子素材を加熱炉内の均熱性の優れた同一の加熱手段により同時に加熱軟化し、加圧成形するため、昇温までに要する時間および熱分布が安定するまでに要する時間、また成形後における所定温度に降温する時間が短くてすむため、製造タクトが短い。
【0015】
また、光学素子素材によって、成形ブロックの熱容量を変え、適正な光学素子成形温度プロファイルに調整するため、同一の製造装置で異なる光学素子を連続して製造できる。製造装置も、複数個同時加圧成形に対応できる構造になり、安定に成形を行うことができる。
【0016】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【0017】
(実施例1)
図1は本実施例1の光学素子の製造方法及び製造装置を示す、光学素子の製造装置の正面図である。
【0018】
図1に示す光学素子の製造装置は、架台1上に加熱炉として使用するチャンバー2が設置されている。
【0019】
チャンバー2には、成形ブロック11を搬入する入口と冷却後の成形ブロックを搬出する出口が設けられ、それぞれに入口シャッター22と出口シャッター23を設置している。チャンバー入口には、供給ステージ19を設置し、チャンバー出口には取り出しステージ21を設置している。
【0020】
また、チャンバー2内に第1の加熱ステージ3、第2の加熱ステージ4、加圧成形ステージ5、冷却ステージ6を設け、各ステージは、上下一対で温度制御可能なヒーター7を取り付けた温度制御ブロック27を設け、下側の温度制御ブロック27は、断熱板10を介してチャンバー2に設置され、上側の温度制御ブロック27は断熱板10を介して、上下可動自由なシャフト9に設置され成形ブロック11を押圧する機能を有する。
【0021】
また、温度制御ブロック27の表面には、均熱手段8としてWCを主成分とする超硬合金を取り付けている(以降の説明に於て、チャンバーに固定された温度制御ブロック27と均熱手段8を下ステージ、シャフト9に固定された温度制御ブロック27と均熱手段8を上ステージと称し、上下一対を表わすときステージと称する。)。
【0022】
以下、前記均熱手段8を用いる効果を説明する。ステージの成形範囲(成形ブロックが当接する成形に必要な範囲)の中で、設定温度に対して何パーセントの温度分布(表面温度差/設定温度×100)になっているかで均熱の良否を判断した時、ステージの成形範囲内の温度差が2.5%内でないと、その影響から光学素子の性能が悪くなる。
【0023】
例えば、ステンレス鋼を同じステージに用いた場合の設定温度に対する温度分布は、図6の曲線41のように8%と悪く、広範囲の均熱性が得られないため、複数個の成形や大口径の成形ができないことがわかった。この時、前記均熱手段8を用いた場合では、図6の曲線40のように均熱性が向上し、ステージの成形範囲で設定温度に対し2.5%の温度分布が可能になった。
【0024】
また、前記均熱手段8の表面には、例えば、耐熱、耐酸化性に優れた白金(Pt)、炭化珪素(SiC)、窒化珪素(Si34)、アルミナ(Al23)、チタンカーバイト(TiC)、窒化チタン(TiN)を主成分とする薄膜26を形成している。前記、薄膜26を形成することによって、均熱手段8の酸化による劣化を防ぐ効果を有する。
【0025】
図5は、図1の加圧成形ステージ5のA断面図を示し、上ステージには、上成形型14と上ステージ(均熱手段8)との接触面に所望の溝25を設けて、離型治具24が自重で断熱板10にぶら下がるように設置されている。
【0026】
この離型治具24は、例えば 図7(a)に示すように上ステージの加圧面より少し突出するように設置して、成形ブロック11の上成形型14を加圧している時は、図7(b)に示す様にステージに設けた溝25に収納できるように、上下の可動を自由にしている。
【0027】
従来、特に加圧成形ステージでは、加圧力が大きいことと、ステージの成形温度を充分に速く伝達するようにステージ表面と成形ブロック表面を平滑に仕上げていることから、成形ブロックの上成形型と上ステージの密着性が高く、光学素子を成形した後の上ステージ上昇の際、上ステージと上成形型の密着力により、上成形型が成形ブロックから抜け出て上成形型を破損したり、成形を中断する等の問題があった。しかし、図7に示す離型治具24を設置することにより、前記密着力より大きな力(離型治具の自重)を上成形型14に付加することができるため、上成形型が成形ブロックより抜け出ることが防止でき前記トラブルを解決できた。
【0028】
以下、前記光学素子の製造装置を用いた、光学素子の製造方法を図面を参照しながら説明する。
【0029】
図1に示すように、光学素子素材供給ステージ19で、上成形型、下成形型、胴型で構成された成形ブロック11内に円柱状の光学素子素材17を供給装置28により載置し、独立した同一の成形ブロック11を図5に示すように2個並べる。
【0030】
そして、光学素子素材17が適正な成形温度プロファイルを辿るように、光学素子の製造装置の各ステージ温度と成形サイクルを設定(制御盤は図示省略)し、その後、搬入プッシャー20によりチャンバー2内に同一の成形ブロック11を2個同時に搬入し、同一の加熱手段の第1の加熱ステージ3、第2の加熱ステージ4で2個同時に予備加熱する。
【0031】
チャンバー内に設置された搬送部材(図示省略)により、成形ブロックは各ステージ間を設定された成形サイクルに従って順次移動し、一対の加圧成形ステージ5で2個の光学素子素材17を同時に加圧し、所望の形状の光学素子に変形する。
【0032】
この時、光学素子素材17が円柱形状の時は加圧成形ステージ5の加圧を、加圧途中少なくとも1回以上加圧力を減圧もしくは零にしながら光学素子素材17を変形させると、光学素子の成形面に凹み欠陥が生じることがない。
【0033】
加圧成形後、成形ブロック11は冷却ステージ6に搬送され所望の冷却温度まで冷却し、チャンバーの出口より搬出する。搬出された成形ブロックは、取り出しステージ21で成形ブロック11より光学素子を取り出す。
【0034】
以下、図1の製造装置を用いた具体例を述べる。均熱手段8に超硬合金(WC−Ni−Cr合金)を用い、その表面に白金−タンタル−レニウム合金(Pt−Ta−Re)の薄膜26を被覆した。
【0035】
光学素子素材17は、転移点温度530℃の円柱素材を用いた。第1の加熱ステージを550℃、第2の加熱ステージを575℃、加圧成形ステージを575℃、冷却ステージを510℃、に温度設定した。また、加圧成形ステージ5で、成形途中に7回の減圧を行った。
【0036】
図1に示す様にそれぞれ独立した同一の成形ブロック11を、2個ずつ90秒間隔で順次ステージを移動し光学素子を作製した結果、欠陥のない所望のレンズ性能の凸レンズを複数個同時に得ることができた。
【0037】
また、加圧成形ステージにおいて、成形ブロックの上成形型が上ステージに付着することもなく、装置の連続運転が安定に行えた。
【0038】
(実施例2)
以下、本発明の他の実施例について図面を参照しながら説明する。
【0039】
図2は本実施例2の光学素子の製造方法及び製造装置を示す光学素子の製造装置の正面図である。
【0040】
図2の光学素子の製造装置は実施例1と同じ構造の装置であり、以下前記装置を用い、異なる形状の成形ブロックで温度特性の同じ光学素材を連続して成形し、それぞれ所望の光学素子を製造する方法を説明する。
【0041】
本実施例2で説明する、異なる形状の成形ブロックは、図8に示す第1の成形ブロック11と第2の成形ブロック12aで、光学素子素材17の所望の光学素子成形温度プロファイルを図9(a)に示す。なお、図8(c)は本発明の実施例であり、図8(a),(b),(d)は参考例である。
【0042】
例えば、図8(a)に示した第1の成形ブロック11と、同図(b)に示した第2の成形ブロック12aのように、光学素子成形面の形状が違い、成形される光学素子の形状が異なっても、光学素子素材17の温度特性(少なくとも転移温度)が同じであれば、第1の成形ブロック11と第2の成形ブロック12aの熱容量を調整し同等にすることで、それぞれの成形ブロックで成形される光学素子の成形温度プロファイルを同じにすることができる。
【0043】
前記熱容量を同等に調整する方法として、片方の成形ブロック(例えば第2の成形ブロック12aとする)の大きさを変えて、熱容量をもう一方の成形ブロック(例えば第1の成形ブロック11とする)に合わせる方法がある。
【0044】
前記成形ブロックの大きさを変えるために、精密な形状を有する上成形型14や下成形型15に、加工を施すことや新たに作り直すことは難しくコストがかかるため、胴型16の大きさを調整することが望ましい。
【0045】
熱容量は、成形ブロック及び光学素子素材に使用する材料の比熱(J/(kg・℃))×前記材料の質量(kg)で簡単に算出できるため、例えば熱容量調整工程(熱容量調整ステージ(図示省略))において適正な成形ブロックの大きさに調整が容易にできる。
【0046】
前記光学素子の製造方法によれば、同じ製造装置で同じ成形条件で、第1の成形ブロック11と第2の成形ブロック12aを、混在させて成形を行ったとしても、前記どちらの成形ブロックにおいても、図9(a)に示す光学素子素材17の温度特性(転移温度34)に合った適正な成形温度プロファイル30に合わすことができるため、双方で同時に所望の光学素子が得られる。
【0047】
また、図1に示す製造装置と同様の装置を使用することで、実施例1同様に複数個同時に連続して製造することが可能である。
【0048】
以下図2の製造装置を用いた具体例を述べる。均熱手段8に超硬合金(WC−Co合金)を用い、その表面に窒化チタンアルミニウム合金(Ti−N−Al)の薄膜26を被覆した。
【0049】
本発明の実施例1と同様に、第1の加熱ステージを550℃、第2の加熱ステージを575℃、加圧成形ステージを575℃、冷却ステージを510℃、に温度設定した。また、加圧成形ステージで、成形途中に7回の減圧を行った。
【0050】
光学素子素材17を含めた図8(a)の第1の成形ブロック11と同図(b)の第2の成形ブロック12aの個々の熱容量を46J/℃に、熱容量調整ステージ(図示省略)でそれぞれ調整し、光学素子素材供給ステージ19で第1の成形ブロック11と第2の成形ブロック12aに転移点温度530℃の円柱状の光学素子素材17を載置し、上記成形条件で、それぞれ独立した成形ブロックを2個ずつ混在させて90秒間隔で上記成形条件で順次ステージを移動し光学素子を作製した結果、同じ温度特性で形状の異なる凸レンズ、凹レンズ、を複数個同時に欠陥のない所望のレンズ性能で作製することができた。
【0051】
(実施例3)
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
【0052】
図3は、本実施例3の光学素子の製造方法及び製造装置を示す光学素子の製造装置の正面図である。
【0053】
図3の光学素子の製造装置は、実施例1と同じ構造の装置であり、以下前記装置を用い、実施例2と同様に異なる形状の成形ブロックで、温度特性の同じ光学素材を連続して成形し、それぞれ所望の光学素子を製造する他の方法を説明する。
【0054】
本実施例3で説明する、異なる形状の成形ブロックは、図8(a)に示す第1の成形ブロック11と同図(c)に示す第2の成形ブロック12bで、光学素子素材17の所望の光学素子成形温度プロファイルを図9(a)に示す。図8(c)に示す第2の成形ブロック12bは、同図(b)に示す第2の成形ブロック12aと同じ形状の上成形型14、下成形型15を有するが、胴型は、胴型16とは別に調整用胴型18も有する。
【0055】
実施例2で説明した様に、例えば胴型16の大きさを変えて熱容量の調整する場合、加工を施すか別に胴型16を新たに作製する方法がある。
【0056】
しかし、胴型に加工を施す場合は熱容量を小さくする時に限られることや、胴型を新たに作製する場合に光学素子の仕様から、胴型と上下成形型に高精度な加工やはめあい精度を必要とする時は、製作コストが非常に高くなることがある。
【0057】
実施例2とは別な方法として、図8(b)の第2の成形ブロック12aの変わりに、同図(c)の第2の成形ブロック12bのように、熱容量の調整用胴型18を具備する成形ブロックにする方法がある。胴型16と調整用胴型18のはめあいの精度を緩くしてもレンズの性能には影響がなく、低コストで調整用胴型18を作製できる利点がある。
【0058】
また、調整用胴型18は光学素子と当接する部分がないので、ガラスとの反応や酸化等を考慮する必要がなく、素材の選択が自由で、上成形型14、下成形型15、胴型16等の構成材料よりも加工性が良く、安価な材料で製作できる利点もある。調整用胴型18の構成材料は、例えば、アルミニウム、鉄鋼、ステンレス鋼等でも構わない。
【0059】
実際に、図8(c)に示す第2の成形ブロック12bを、同図(b)に示す第2の成形ブロック12aの変わりに用いても、実施例2ですでに説明したように、成形する光学素子素材17の温度特性(転移温度34)が同じであれば、例えば、図8(a)に示す第1の成形ブロック11、同図(c)第2の成形ブロック12bの熱容量を調整し同等にすることで、前記どちらの成形ブロックにおいても、図9(a)に示す光学素子素材17の温度特性(転移温度34)に合った適正な成形温度プロファイル30に合わすことができるため、成形される光学素子の形状が異なっても、図3の製造装置で、前記双方の成形ブロック混在して成形しても所望の光学素子が得られる。
【0060】
また、図1に示す製造装置と同様の装置を使用することで、実施例1同様に複数個同時に連続して製造することが可能である。
【0061】
以下、図3の製造装置を用いた具体例を述べる。均熱手段8の母材及びその表面の薄膜26は、実施例2と同じ材質とした。
【0062】
本発明の実施例1と同様に、第1の加熱ステージを550℃、第2の加熱ステージを575℃、加圧成形ステージを575℃、冷却ステージを510℃、に温度設定した。また、加圧成形ステージで、成形途中に7回の減圧を行った。
【0063】
図8(a)の光学素子素材17を含む第1の成形ブロック11の熱容量を46J/℃、図8(c)の光学素子素材17を含む第2の成形ブロック12bの熱容量を29J/℃とし、熱容量調整ステージ(図示省略)において、熱容量17J/℃の調整用胴型18を第2の成形ブロック12bに装着し、素材供給ステージ19で転移点温度530℃の2種類の円柱形状の光学素子素材を、それぞれの成形ブロックに供給して上記成形条件において、2個ずつ混在して90秒間隔で順次ステージを移動し光学素子を作製した結果、同じ温度特性で形状の異なる凸レンズ、凹レンズ、を複数個同時に欠陥のない所望のレンズ性能で作製することができた。
【0064】
(実施例4)
以下、本発明の他の実施例について図面を参照しながら説明する。
【0065】
図4は本実施例4の光学素子の製造方法及び製造装置を示す光学素子の製造装置の正面図である。
【0066】
図4の光学素子の製造装置は、実施例1と同じ構造の装置であり、以下前記装置を用い異なる形状の成形ブロックで、異なる温度特性の光学素材を連続して成形し、それぞれ所望の光学素子を製造する方法を説明する。
【0067】
本実施例4で説明する、異なる形状の成形ブロックは、図8(a)に示す第2の成形ブロック12aと同図(d)に示す第3の成形ブロック13で、例えば第2の成形ブロック12aで成形する光学素子素材17は、図9(b)に示す第1の転移温度35(転移点33が高い方)の特性を有し、第3の成形ブロック13で成形する光学素子素材17は図9(b)に示す第2の転移温度36(転移点33が低い方)の特性を有する。
【0068】
前記転移点33が高い方の光学素子素材17の適正な成形温度プロファイルを図9(b)の31(太線)に示し、前記転移点33が低い方の光学素子素材17の適正な成形温度プロファイルを図9(b)の32(細線)に示す。
【0069】
温度特性の異なる光学素子をそれぞれ成形する場合、それぞれの光学素子の特性にあった成形温度プロファイルが必要で、基本的に、前記光学素子を成形する過程の中の冷却工程において、適正な冷却温度プロファイル(プレス温度から光学素子の転移点33以下までの温度履歴)で光学素子を冷却することにより、所望のレンズ性能を得ることができる。
【0070】
図8(a)の第2の成形ブロック12aと同図(d)の第3の成形ブロック13で成形する温度特性の異なる光学素子を、図4に示す製造装置で同じ成形条件で連続して作製するためには、前記成形ブロックの持つ熱容量を調整し、それぞれの光学素子が図9(b)に示す冷却工程の成形温度プロファイル31(転移点33が高い方)と成形温度プロファイル32(転移点33が低い方)で冷却をすることが重要である。
【0071】
例えば、第2の成形ブロック12aで第1の転移温度35の光学素子素材17を、図9(b)の成形温度プロファイル31で成形できるように、製造装置の温度条件や成形サイクル等の条件設定をし、その後に第3の成形ブロック13で第2の転移温度36の光学素子素材17を同一の製造装置、同一の成形条件で成形する場合、第3の成形ブロック13の熱容量を第2の成形ブロック12aと同じに調整すると、第3の成形ブロック13の光学素子は成形温度プロファイル31を辿ることになり光学素子の性能は出ない。
【0072】
しかし、第3の成形ブロック13の大きさを変え熱容量を小さく調整すれば、その分だけ早く冷却ステージで冷却され、冷却勾配を変えることができるため、転移点33が低い方の温度特性(転移温度36)に合った成形温度プロファイル32に合わせることが可能で、所望の光学素子の性能が得られる。従って、同一の製造装置で同一の成形サイクルで異なる温度特性の光学素子を連続して作製することが可能になる。
【0073】
熱容量は、成形ブロック及び光学素子素材に使用する材料の比熱(J/(kg・℃))×前記材料の質量(kg)で簡単に算出できるため、例えば熱容量調整工程(熱容量調整ステージ(図示省略))において光学素子素材の温度特性に従って、適正な成形ブロックの大きさに調整が容易にできる。
【0074】
以下図4の製造装置を用いた具体例を述べる。均熱手段8に超硬合金(WC−Co−Ni−Cr合金)を用い、その表面にサーメット(Ti−C−Mo−Ni)の薄膜26を被覆した。
【0075】
第1の加熱ステージを530℃、第2の加熱ステージを565℃、加圧成形ステージを565℃、冷却ステージを495℃、に温度設定した。また、加圧成形ステージで、成形途中に5回の減圧を行った。
【0076】
図8(b)の光学素子素材17を含めた第2の成形ブロック12aの熱容量を46J/℃に、同図(d)の光学素子素材17を含めた第3の成形ブロック13の熱容量を25J/℃に、熱容量調整ステージ(図示省略)でそれぞれ調整し、光学素子素材供給ステージ19で第2の成形ブロック12aに転移温度516℃の円柱状の光学素子素材17を、第3成形ブロック13に転移温度502℃の円柱の光学素子素材17を載置し、上記成形条件で、それぞれ独立した成形ブロックを1個ずつ混在させて90秒間隔で上記成形条件で順次ステージを移動し光学素子を作製した結果、温度特性の異なる凹レンズとメニスカスレンズを欠陥のない所望のレンズ性能で連続的に作製することができた。
【0077】
以上、本発明の実施例を詳細に説明したが、本発明は、各実施例記載の光学素子素材の温度特性や形状、光学素子を同時成形する数、光学素子の形状、成形ブロックの形状や熱容量、調整用胴型の材質や形状や熱容量、熱容量調整作業の手順や手段、製造装置の構造、製造装置の成形条件やステージの数、均熱手段の材質や形状、均熱手段に被覆する薄膜の材質、上ステージ表面の溝形状や本数、離型治具の形状や数、離型治具の設置方法、等に限定されるものではない。
【0078】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明の光学素子の製造方法及び製造装置は、複数の独立した成形ブロック内に載置した光学素子素材を加熱炉内の均熱性の優れた同一の加熱手段により同時に加熱軟化し、加圧成形するため、昇温までに要する時間および熱分布が安定するまでに要する時間、また成形後における所定温度に降温する時間が短くてすみ、製造タクトが短い。また、光学素子素材によって、成形ブロックの熱容量を変え、適正な光学素子成形温度プロファイルに調整するため、異なる光学素子を同時に製造できることから設備コストが安くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の光学素子の製造方法および製造装置を示す図
【図2】本発明の実施例2の光学素子の製造方法および製造装置を示す図
【図3】本発明の実施例3の光学素子の製造方法および製造装置を示す図
【図4】本発明の実施例4の光学素子の製造方法および製造装置を示す図
【図5】本発明の図1に示す光学素子の製造装置のA断面図
【図6】本発明の実施例の均熱手段の温度分布を表すグラフ
【図7】本発明の実施例の離型治具の断面図で(a)は、加圧を取り除いた状態の図
(b)は、加圧状態の図
【図8】(a)は、本発明の参考例における成形ブロックの一断面図
(b)は、本発明の参考例における成形ブロックの他の断面図
(c)は、本発明の実施例における成形ブロックの別の断面図
(d)は、本発明の参考例における成形ブロックの別の断面図
【図9】本発明の実施例の光学素子の成形温度プロファイルで、 ( )は本発明の一実施例における光学素子の成形温度特性図
(b)は、本発明の別の実施例における光学素子の成形温度特性図
【符号の説明】
1 架台
2 チャンバー
3 第1の加熱ステージ
4 第2の加熱ステージ
5 加圧成形ステージ
6 冷却ステージ
7 ヒーター
8 均熱手段
9 シャフト
10 断熱板
11 第1の成形ブロック
17 光学素子素材
19 供給ステージ
20 投入プッシャー
21 取り出しステージ
22 入口シャッター
23 出口シャッター
24 離型治具
25 溝
26 薄膜
27 温度制御ブロック
28 光学素子素材供給装置

Claims (9)

  1. 一対の成形型と胴型と熱容量調整用胴型および光学素子素材で構成されている独立した異なる成形ブロックのそれぞれの熱容量を、成形中における前記成形ブロックの温度プロファイルが少なくとも前記光学素子素材の加圧成形温度から、前記光学素子素材の転移温度以下までの冷却工程の成形温度プロファイルに一致するように前記熱容量調整用胴型の熱容量によって調整する工程と、
    前記光学素子素材を載置した前記成形ブロックを加熱炉内に搬入する工程と、
    加熱手段により前記光学素子素材を加熱軟化する加熱工程と、
    加熱軟化した前記光学素子素材を加圧成形する加圧成形工程と、
    加圧成形した前記光学素子素材を冷却し加熱炉外へ搬出する冷却工程と、
    前記成形ブロックより光学素子を取り出す工程を含むことを特徴とする光学素子の成形方法。
  2. 一対の成形型と胴型と熱容量調整用胴型および光学素子素材で構成されている複数の独立した異なる成形ブロックを同時に加熱炉内に搬入するに際し、前記成形ブロックのそれぞれの熱容量を、成形中における前記成形ブロックの温度プロファイルが少なくとも前記光学素子素材の加圧成形温度から、前記光学素子素材の転移温度以下までの冷却工程の成形温度プロファイルに一致するように前記熱容量調整用胴型の熱容量によって調整する工程と、
    前記光学素子素材を載置した前記成形ブロックを加熱炉内に搬入する工程と、
    加熱手段により前記光学素子素材を加熱軟化する加熱工程と、
    加熱軟化した前記光学素子素材を加圧成形する加圧成形工程と、
    加圧成形した前記光学素子素材を冷却し加熱炉外へ搬出する冷却工程と、
    前記成形ブロックより光学素子を取り出す工程を含むことを特徴とする光学素子の成形方法。
  3. 前記複数かつ同時に加熱炉内に搬入する成形ブロックは、少なくとも同一の光学素子素材、同一の光学素子異種の光学素子素材、または異種の光学素子を成形するための成形ブロックである請求項2に記載の光学素子の成形方法。
  4. 熱容量の調整は、前記熱容量調整用胴型の大きさを変えることによって行う請求項1または2記載の光学素子の成形方法。
  5. 熱容量の調整は、前記熱容量調整用胴型の構成母材を変えることによって行う請求項1または2記載の光学素子の成形方法。
  6. 加熱炉内の、加熱工程、加圧成形工程、冷却工程には、それぞれの温度制御可能な一対のステージを一つもしくは複数具備しており、前記ステージ間を成形ブロックが前記工程順に移動する請求項1または2記載の光学素子の成形方法。
  7. 複数のステージの少なくとも一つには、前記ステージに滞留する一対の成形型と胴型からなる成形ブロックと温度制御手段との間に、直接前記成形ブロックに当接するような均熱手段が設けられている請求項6に記載の光学素子の成形方法。
  8. 加熱軟化した光学素子素材を加圧成形する工程では、加圧途中少なくとも一回以上加圧力を減圧もしくは零にする請求項1または2記載の光学素子の成形方法。
  9. 光学素子素材は、円柱体である請請求項1または2記載の光学素子の成形方法。
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