JP3759533B2 - 光学素子の製造装置及び製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本実施例1の光学素子の製造方法及び製造装置を示す、光学素子の製造装置の正面図である。
以下、本発明の他の実施例について図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の他の実施例について図面を参照しながら説明する。
以下、本発明の他の実施例について図面を参照しながら説明する。図4は本実施例4の光学素子の製造方法及び製造装置を示す光学素子の製造装置の正面図である。
2 チャンバー
3 第1の加熱ステージ
4 第2の加熱ステージ
5 加圧成形ステージ
6 冷却ステージ
7 ヒーター
8 均熱手段
9 シャフト
10 断熱板
11 第1の成形ブロック
14 上成形型
15 下成形型
16 胴型
17 光学素子素材
18 調整用胴型
19 供給ステージ
20 投入プッシャー
21 取り出しステージ
22 入口シャッター
23 出口シャッター
24 離型治具
25 溝
26 薄膜
27 温度制御ブロック
28 光学素子素材供給装置
Claims (14)
- 温度制御可能な一対のステージを複数具備し、加圧成形可能な光学素子の製造装置において、
前記複数のステージの少なくとも1つには、前記ステージに滞留する一対の成形型と胴型からなる成形ブロックと温度制御手段を備え、
前記成形ブロックと温度制御手段との間に、直接前記成形ブロックに当接する均熱板を備えたことを特徴とする光学素子の製造装置。 - 前記均熱板の表面温度分布が、設定温度の2.5%以内になるように均熱板の材料又は大きさが選択されている請求項1に記載の光学素子の製造装置。
- 前記均熱板は、タングステンカーバイド鋼(WC)を主成分とする超硬合金である請求項1に記載の光学素子の製造装置。
- 前記均熱板の少なくとも成形ブロックと当接する表面は、金属、セラミックス又はサーメットの薄膜の何れかで被覆されている請求項1又は3に記載の光学素子の製造装置。
- 前記均熱板の表面に被覆する薄膜は、白金(Pt)、炭化珪素(SiC)、窒化珪素(Si3N4)、アルミナ(Al2O3)、チタンカーバイト(TiC)、又は窒化チタン(TiN)の何れかを主成分とする薄膜である請求項4に記載の光学素子の製造装置。
- 前記均熱板の成形ブロックの上成形型との接触面に溝を設け、前記溝内に上下動可能な離型治具を収納し、前記離型治具の自重により前記上成形型を前記均熱板より離型する請求項1〜5のいずれかに記載の光学素子の製造装置。
- 前記上成形型とステージの接触面の密着力をFとし、前記上成形型の自重をW1とし、離型治具を自重をW2とした場合、F<W1+W2の関係式が成り立つ様に離型治具の自重を設定する請求項6に記載の光学素子の製造装置。
- 温度制御可能な一対のステージを複数具備し、加圧成形可能な光学素子の製造方法において、
前記複数のステージの少なくとも1つには、前記ステージに滞留する一対の成形型と胴型からなる成形ブロックと温度制御手段を備え、
前記成形ブロックと温度制御手段との間に、直接前記成形ブロックに当接する均熱板を備えた光学素子の製造装置を用いて、
一対の成形型と胴型で構成されている成形ブロックの前記成形型間に、光学素子素材を載置し、
前記光学素子素材を載置した前記成形型を加熱炉内に搬入し、前記光学素子素材を加熱軟化し、加圧成形し、
加圧成形した前記光学素子素材を冷却し加熱炉外へ搬出し、前記成形ブロックより光学素子を取り出すことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記均熱板の表面温度分布が、設定温度の2.5%以内になるように均熱板の材料又は大きさが選択されている請求項8に記載の光学素子の製造方法。
- 前記均熱板は、タングステンカーバイド鋼(WC)を主成分とする超硬合金である請求項8に記載の光学素子の製造方法。
- 前記均熱板の少なくとも成形ブロックと当接する表面は、金属、セラミックス又はサーメットの薄膜の何れかで被覆されている請求項8〜10のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
- 前記均熱板の表面に被覆する薄膜は、白金(Pt)、炭化珪素(SiC)、窒化珪素(Si3N4)、アルミナ(Al2O3)、チタンカーバイト(TiC)、窒化チタン(TiN)の何れかを主成分とする薄膜である請求項11に記載の光学素子の製造方法。
- 前記均熱板の成形ブロックの上成形型との接触面に溝を設け、前記溝内に上下動可能な離型治具を収納し、前記離型治具の自重により前記上成形型を前記均熱板より離型する請求項8〜12のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
- 上成形型とステージの接触面の密着力をFとし、前記上成形型の自重をW1とし、離型治具を自重をW2とした場合、F<W1+W2の関係式が成り立つ様に離型治具の自重を設定する請求項13に記載の光学素子の製造方法。
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