JP4513991B2 - 液滴噴射装置およびその製造方法、液滴噴射ヘッド並びにプリンタ - Google Patents
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Description
変形可能な基板と、
前記基板の上方に設けられ、開口部を有する磁石体と、
前記基板の上方に設けられ、かつ、前記磁石体を取り囲むように配置されたコイルと、
を含む。
前記磁石体は、上下方向に分割して配置された複数の単位磁石体からなり、
前記コイルは、上下方向に分割して配置された単位コイルからなり、
上下方向に隣り合う前記単位コイルは上下方向に磁性材料からなるコネクタによって接続されていることができる。
前記基板の上方に設けられ、前記コイルが固定される固定部を含むことができる。
前記磁石体の上下動に伴って前記基板が振動することができる。
前記基板の上方に、磁石体と、前記磁石体を取り囲むように配置されたコイルと、を含むアクチュエータの製造方法であって、
前記基板の上方に、前記磁石体の一部を構成する単位磁石体を形成する工程と、
前記基板の上方に、前記コイルの一部を構成する単位コイルを形成する工程と、
前記単位磁石体および前記単位コイルを覆うように、前記基板の上方に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層に前記単位コイルに接続されるコネクタを形成する工程と、を含み、
前記単位磁石体、前記単位コイル、前記絶縁層および前記コネクタを形成する工程を繰り返して、前記単位磁石体および前記単位コイルを上下方向に前記絶縁層を介在させて積層する工程を有する。
さらに、前記基板の下方に、キャビティを有する圧力室が設けられ、
前記圧力室の底壁にノズル孔を有する。
1.1.アクチュエータおよび液滴噴射装置
図1および図2は、本実施形態に係るアクチュエータおよびこれを有する液滴噴射装置を示す模式図である。図1は、液滴噴射装置100の平面図であり、図2は、図1のA−A線に沿った断面図である。
図3および図4は、本実施形態に係る液滴噴射装置110を適用した液滴噴射ヘッド1000を模式的に示す。図3は、液滴噴射ヘッド1000の平面図であり、図4は、図3のB−B線に沿った断面図である。図1および図2に示した部材と実質的に同一の部材には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。なお、図3では、隣り合う液滴噴射装置110の固定部40が分離して示されているが、図4に示すように、隣り合う固定部40は、一体的に形成することができる。
2.1.アクチュエータおよび液滴噴射装置
図5および図6は、本実施形態に係るアクチュエータ200およびこれを有する液滴噴射装置210を示す模式的に断面図である。図6(A)〜図6(D)は、図5に示す、4層の単位磁石体および単位コイルを基板10側から順に示す平面図である。図5および図6において、図1および図2で示す部材と実質的に同じ部材には同じ符号を付す。
まず、アクチュエータ200の製造方法について述べる。
次に、本発明に係る液体噴射ヘッドを有する実施形態に係るプリンタについて説明する。ここでは、本実施形態に係るプリンタ300がインクジェットプリンタである場合について説明する。
26 単位磁石体、30 コイル、36 単位コイル、38 コネクタ、40 固定部、50 圧力室、56 ノズル孔、58 キャビティ、60 層間絶縁層、62 絶縁層、100,200 アクチュエータ、110,210 液滴噴射装置、1000 液滴噴射ヘッド
Claims (11)
- 基板と、前記基板の上方に設けられ、開口部を有する磁石体と、前記基板の上方に設けられ、かつ、前記磁石体を取り囲むように配置されたコイルと、を含むアクチュエータと、
前記基板の下方に設けられた、キャビティを有する圧力室と、
前記圧力室の底壁に設けられたノズル孔と、を有する、液滴噴射装置。 - 請求項1において、
前記磁石体は、上下方向に分割して配置された複数の単位磁石体からなり、
前記コイルは、上下方向に分割して配置された単位コイルからなり、
上下方向に隣り合う前記単位コイルは上下方向にコネクタによって電気的に接続されている、液滴噴射装置。 - 請求項2において、
前記単位磁石体および前記単位コイルの上下方向の相互間には層間絶縁層が設けられている、液滴噴射装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかにおいて、
前記基板の上方に設けられ、前記コイルが固定される固定部を含む、液滴噴射装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかにおいて、
前記磁石体の上下動に伴って前記基板が振動する、液滴噴射装置。 - 請求項1ないし請求項5のいずれかにおいて、
前記基板は開口部を有し、該開口部は、前記磁石体の前記開口部および前記キャビティに連通している、液滴噴射装置。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかにおいて、
前記アクチュエータの平面形状は六角形である、液滴噴射装置。 - 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の液滴噴射装置の製造方法であって、
前記基板の上方に、前記磁石体の一部を構成する単位磁石体を形成する工程と、
前記基板の上方に、前記コイルの一部を構成する単位コイルを形成する工程と、
前記単位磁石体および前記単位コイルを覆うように、前記基板の上方に絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層に前記単位コイルに接続されるコネクタを形成する工程と、を含み、
前記単位磁石体、前記単位コイル、前記絶縁層および前記コネクタを形成する工程を繰り返して、前記単位磁石体および前記単位コイルを上下方向に前記絶縁層を介在させて積層する工程を有する、液滴噴射装置の製造方法。 - 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の液滴噴射装置を複数有する、液滴噴射ヘッド。
- 請求項9において、
前記複数の液滴噴射装置は、平面視において、ハニカム状に配置された、液滴噴射ヘッド。 - 請求項9または請求項10に記載の液滴噴射ヘッドを含む、プリンタ。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57144766A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-07 | Seiko Epson Corp | Liquid ink injector |
JPH0644384U (ja) * | 1992-11-12 | 1994-06-10 | ティーディーケイ株式会社 | 可動磁石式アクチュエータ |
JPH091793A (ja) * | 1995-06-20 | 1997-01-07 | Nec Corp | インクジェット式プリントヘッド |
JPH10508808A (ja) * | 1996-02-01 | 1998-09-02 | スペクトラ インコーポレイテッド | 高解像度マトリクスインクジェット装置 |
JP2004181277A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Sony Corp | 液滴吐出装置、検査用チップ処理装置、プリンタ装置、液滴吐出方法及びこれを用いた印刷方法、検査用チップ処理方法、有機elパネルの製造方法、導電体パターンの形成方法、電界放出型ディスプレイの製造方法 |
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US5434549A (en) | 1992-07-20 | 1995-07-18 | Tdk Corporation | Moving magnet-type actuator |
EP0605903B1 (en) * | 1993-01-07 | 1997-06-11 | TDK Corporation | Movable magnet type pump |
JP2001112228A (ja) | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁石可動型リニアアクチュエータ |
JP2001268883A (ja) | 2000-03-16 | 2001-09-28 | Nikon Corp | コイル配線用コネクタ、リニアモータ、ステージ装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法 |
BR0312139A (pt) * | 2002-06-13 | 2005-04-05 | Procter & Gamble | Composição amaciante para tecidos lìquida, método para a formulação da mesma, uso de sistema de ativos amaciantes, bem como processo para a preparação de ativos amaciantes catiÈnicos |
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JP2005130603A (ja) | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | リニア電磁アクチュエータ |
US20050130603A1 (en) * | 2003-12-11 | 2005-06-16 | Maclean Kenneth G. | Low noise transceiver |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57144766A (en) * | 1981-03-02 | 1982-09-07 | Seiko Epson Corp | Liquid ink injector |
JPH0644384U (ja) * | 1992-11-12 | 1994-06-10 | ティーディーケイ株式会社 | 可動磁石式アクチュエータ |
JPH091793A (ja) * | 1995-06-20 | 1997-01-07 | Nec Corp | インクジェット式プリントヘッド |
JPH10508808A (ja) * | 1996-02-01 | 1998-09-02 | スペクトラ インコーポレイテッド | 高解像度マトリクスインクジェット装置 |
JP2004181277A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Sony Corp | 液滴吐出装置、検査用チップ処理装置、プリンタ装置、液滴吐出方法及びこれを用いた印刷方法、検査用チップ処理方法、有機elパネルの製造方法、導電体パターンの形成方法、電界放出型ディスプレイの製造方法 |
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