JP4487108B2 - リソグラフィ投影装置、ガスパージ方法、デバイス製造方法およびパージガス供給システム - Google Patents
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Description
− 放射線の投影ビームを提供する放射線システムと、
− パターニング手段を支持する支持構造とを有し、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、
− パージガスをリソグラフィ投影装置の少なくとも一部に提供する少なくとも1つのパージガス供給システムとを有するリソグラフィ投影装置に関する。
− マスク。マスクの概念はリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。放射線ビームにこのようなマスクを配置することにより、マスクに照射する放射線の、マスクパターンに従う選択的透過(透過性マスクの場合)や選択的反射(反射性マスクの場合)を引き起こす。マスクの場合、その支持構造は一般的に、入射する放射線ビームの所望する位置にマスクを保持しておくことが可能であり、かつ、所望に応じて、ビームに対して運動させることの可能なマスクテーブルである。
− プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例として、粘弾性制御層および反射面を有するマトリクスアドレス可能面があげられる。こうした装置の基本的原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、回折光のみを残して上記非回折光を反射ビームからフィルタで除去することが可能である。この方法において、ビームはマトリクスアドレス可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。プログラマブルミラーアレイの代替実施形態は小さな複数のミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーの各々は、適した局部電界を適用することによって、もしくは圧電起動手段を用いることによって、軸線を中心に個々に傾斜可能である。この場合も、ミラーはマトリクスアドレス可能であり、したがってアドレスされたミラーはアドレスされていないミラーとは異なる方向に入射の放射線ビームを反射する。このようにして、反射されたビームはマトリクスアドレス可能ミラーのアドレスパターンに従いパターン形成される。必要とされるマトリクスアドレス指定は適切な電子手段を用いて実行される。前述の両方の状況において、パターニング手段は1つまたは複数のプログラマブルミラーアレイを有することができる。本明細書で言及したようなミラーアレイに関するさらなる情報は、例えば、米国特許第US5,296,891号および同第US5,523,193号、並びに、PCT特許種出願第WO98/38597および同WO98/33096で収集することができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。プログラマブルミラーアレイの場合、前記支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルとして実現され、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
− プログラマブルLCDアレイ。このような構成の例が米国特許第US5,229,872号で与えられ、これは参照により本明細書に組み込まれる。上記同様、この場合における支持構造も、例えばフレームもしくはテーブルとして実現してよく、これも必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
− 放射線の投影ビームBP(例えばUV放射線またはEUV放射線)を供給する放射線システムEx、ILを有し、この特定の場合、放射線システムは放射線ソースLAも有し、さらに、
− マスクMA(例えばレチクル)を保持するマスクホルダが設けられ、品目PLに対して正確にマスクを位置決めするために第一位置決め手段PMに接続された第一オブジェクトテーブル(マスクテーブル)と、
− 基板W(例えばレジスト塗布したシリコンウェハ)を保持する基板ホルダが設けられ、品目PLに対して正確に基板を位置決めするために第二位置決め手段PWに接続された第二オブジェクトテーブル(基板テーブル)と、
− マスクMAの照射部分を基板Wの目標部分C(例えば1つまたは複数のダイを有する)に描像する投影システム(「レンズ」)PL(例えばミラーグループ)とを有する。
− ステップモードでは、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。
− 走査モードでは、基本的に同一シナリオが適用されるが、、所定の目標部分Cは1回の「フラッシュ」では露光されない。代わって、マスクテーブルMTが、速度vにて所定方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に運動可能であり、したがってビームPBがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、MはレンズPLの倍率(一般的にM=1/4あるいは1/5)である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Cを露光することが可能となる。
Claims (12)
- リソグラフィ投影装置(1)であって、
− 放射線の投影ビームを提供する放射線システムと、
− パターニング手段を支持する支持構造とを有し、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブル(WT)と、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システム(PL)と、
− パージガスをリソグラフィ投影装置の少なくとも一部に提供する少なくとも1つのパージガス供給システム(100)とを有し、
前記パージガス供給システムが、
− ほぼ水分がないパージガスに水分を追加するために配置構成された加湿器デバイス(150)を有するパージガス混合気生成装置(120)を有し、前記パージガス混合気生成装置(120)は、パージガス混合気を生成するように配置構成され、前記パージガス混合気は、少なくとも1つのパージガスおよび前記水分を有し、
− 前記パージガス混合気を前記基板テーブルに供給するために、前記パージガス混合気生成装置に接続されたパージガス混合気出口(130)を有し、
前記パージガス供給システム(100)がさらに、前記ほぼ水分がないパージガスをリソグラフィ投影装置の別の部分に提供するように配置構成されたパージガス出口(131、132)を有するリソグラフィ投影装置(1)。 - 前記加湿器デバイス(150)が、
少なくとも1つのガス入口(1521、1522)およびガス出口(153)がある液体容器(151)を有し、前記ガス入口およびガス出口が、加湿接続部を介して相互に接続され、したがってパージガスが加湿接続部を通って流れると、前記パージガスが、液体容器中に存在する液体(154)を通って送られ、前記パージガスが加湿される、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置(1)。 - さらに、液体(154)を通して送られた加湿パージガスに加湿していないパージガスを混合し、それによって前記パージガス混合気を獲得するために、ガス出口に接続された乾性ガス入口(1522)を有する、請求項2に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- 前記加湿接続部は、前記パージガスが前記水分で飽和状態まで加湿されるように、前記液体(154)を通して前記パージガスを供給する飽和接続部である、請求項2または3に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- さらに、パージガス混合気中に存在する水分の量を少なくとも制御するために、前記液体容器(151)に接続された制御デバイス(157)を有する、請求項2乃至4のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- 前記パージガス混合気生成装置(120)がさらに、パージガス、混合気またはパージガス混合気のうち少なくとも1つから少なくとも1つの望ましくない成分を除去するために、再生可能なフィルタデバイス(1283、1284)を有する、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- 並列に接続された2つの再生可能フィルタデバイス(1283、1284)を有し、フィルタデバイスが、連続的フィルタリングを可能にするために交互に再生可能である、請求項6に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記パージガス混合気が水蒸気を含む、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- 前記パージガス混合気が、少なくとも20%のRh、好ましくは70%以下のRhの水蒸気を含む、請求項8に記載のリソグラフィ投影装置(1)。
- パージガスを、
− 放射線の投影ビームを提供する放射線システムと、
− パターニング手段を支持する支持構造とを有し、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブル(WT)と、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システム(PL)と、
を有するリソグラフィ投影装置(1)の少なくとも一部に提供する方法であって、
ほぼ水分がないパージガスに水分を加えることによって、少なくとも1つのパージガスおよび水分を有するパージガス混合気を生成するステップと、
前記パージガス混合気を前記基板テーブルに供給するステップと、
前記ほぼ水分がないパージガスをリソグラフィ投影装置の別の部分に提供するステップとを含む方法。 - デバイス製造方法であって、
放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
請求項10に記載の方法を前記基板の少なくとも一部に適用するステップと、
放射線の投影ビームを提供するステップと、
投影ビームの断面にパターンを与えるために、パターニング手段を使用するステップと、
パターン形成した放射線ビームを放射線感光材料の層の目標部分に投影するステップと、
パージガスに水分を加えることによって、少なくとも1つのパージガスおよび水分を有するパージガス混合気を生成するステップと、
デバイス製造方法で使用する構成要素の表面付近にパージガス混合気を供給するステップとを含む方法。 - パージガスをリソグラフィ投影装置(1)の基板テーブルに提供するパージガス供給システム(100)であって、
ほぼ水分がないパージガスに水分を加えるように配置構成された加湿器デバイス(150)を有するパージガス混合気生成装置(120)を有し、前記パージガス混合気生成装置(120)は、パージガス混合気を生成するように配置構成され、パージガス混合気は少なくとも1つのパージガスおよび前記水分を有し、さらに、
パージガス混合気を前記基板テーブルに供給するパージガス混合気出口(130)を有し、
前記パージガス供給システム(100)がさらに、前記ほぼ水分がないパージガスをリソグラフィ投影装置の別の部分に提供するように配置構成されたパージガス出口(131、132)を有するパージガス供給システム。
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