JP4466997B2 - 多孔質ガラス母材の製造装置 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 31
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 title claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 23
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 18
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- -1 as shown in FIG. 1A Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
-
- G—PHYSICS
- G07—CHECKING-DEVICES
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- G07F17/00—Coin-freed apparatus for hiring articles; Coin-freed facilities or services
- G07F17/26—Coin-freed apparatus for hiring articles; Coin-freed facilities or services for printing, stamping, franking, typing or teleprinting apparatus
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Description
また、特許文献1の方法では、反応室の側壁に対するススの付着を低減させることはできない。
吸気口のうちの1つは、排気口と同じ側の壁面に設け、吸気口の最下部と排気口の最上部との間隔が30mm以上あるようにするのが好ましい。
吸気口から吸入される気流が沿って流れる反応室の上面及び側面は、平面で構成するのがよい。
また、吸気口を堆積用バーナが設置されている側の側壁の左右端縁に沿ってスリット状に設けることにより、反応室内の気流を安定させ、さらに反応室側壁へのスス付着をも大幅に抑制することができる。
図4(a)は製造装置の上面図(バーナは省略)であり、(b)はその概略縦断面図、(c)は右側面図(バーナは省略)である。
この装置には、図4(b)に示すように、対向する左右の側壁の上部に、天井に沿って吸気口5aが設けられ、左側の吸気口5aの下端と排気口6の上端との間は30mm離されている。さらに右側の側壁には、図4(c)において網線部で示すように、天井に沿って設けられた吸気口5aに加えて、左右の端縁に沿ってそれぞれスリット状に吸気口5bが設けられている。
2. バーナ、
2a. コア用バーナ、
2b. コア加熱用バーナ、
2c. クラッド用バーナ、
3. シャフト、
4. 多孔質ガラス母材、
5. 吸気口、
5a. 天井に沿う吸気口、
5b. 側壁端縁に沿う吸気口、
6. 排気口、
7. 上部反応室、
8. 下部反応室、
9. 上室。
Claims (5)
- 垂直に配置された出発部材に、原料ガスの火炎加水分解反応により生成したガラス微粒子を堆積させて多孔質ガラス母材を製造する装置において、堆積用バーナを備えた反応室の側壁の上部に、該反応室の天井に沿って複数の吸気口を有し、該吸気口が多孔質ガラス母材を挟んで対向する壁面に設けられていることを特徴とする多孔質ガラス母材の製造装置。
- 堆積用バーナが設置されている側の側壁と対向する側壁に、排気口を有する請求項1に記載の多孔質ガラス母材の製造装置。
- 排気口が設けられた壁面の幅が、吸気口が設けられた対向する壁面の幅よりも狭い請求項2に記載の多孔質ガラス母材の製造装置。
- 吸気口のうちの1つが、排気口と同じ側の壁面に設けられ、吸気口の最下部と排気口の最上部との間隔が30mm以上ある請求項1又は2に記載の多孔質ガラス母材の製造装置。
- 吸気口から吸入される気流が沿って流れる反応室の上面及び側面が、平面で構成されている請求項1乃至4のいずれかに記載の多孔質ガラス母材の製造装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004094496A JP4466997B2 (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
KR1020050003786A KR101261095B1 (ko) | 2004-03-29 | 2005-01-14 | 다공질 유리 모재의 제조 장치 |
PCT/JP2005/003926 WO2005092803A1 (ja) | 2004-03-29 | 2005-03-07 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
US10/594,529 US7987686B2 (en) | 2004-03-29 | 2005-03-07 | Manufacturing apparatus of porous glass base material |
CN200580010168XA CN1938234B (zh) | 2004-03-29 | 2005-03-07 | 多孔质玻璃母材的制造装置 |
TW094109655A TW200536798A (en) | 2004-03-29 | 2005-03-28 | Equipment for producing porous glass base material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004094496A JP4466997B2 (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005281025A JP2005281025A (ja) | 2005-10-13 |
JP4466997B2 true JP4466997B2 (ja) | 2010-05-26 |
Family
ID=35056112
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004094496A Expired - Lifetime JP4466997B2 (ja) | 2004-03-29 | 2004-03-29 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7987686B2 (ja) |
JP (1) | JP4466997B2 (ja) |
KR (1) | KR101261095B1 (ja) |
CN (1) | CN1938234B (ja) |
TW (1) | TW200536798A (ja) |
WO (1) | WO2005092803A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4444941B2 (ja) | 2006-11-22 | 2010-03-31 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
CN101652331B (zh) | 2007-02-28 | 2013-05-08 | 信越化学工业株式会社 | 多孔质玻璃母材的制造装置 |
CN102583977B (zh) * | 2012-03-02 | 2015-01-21 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种间接合成石英玻璃的方法及其专用设备以及一种石英玻璃 |
JP2016188149A (ja) * | 2015-03-30 | 2016-11-04 | 株式会社フジクラ | 光ファイバ母材の製造装置及び光ファイバ母材の製造方法 |
KR102636792B1 (ko) * | 2023-07-05 | 2024-02-15 | 비씨엔씨 주식회사 | 배기기능 개선을 통해 증착물의 표면결함을 방지할수 있는 합성쿼츠 제조설비 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5915093B2 (ja) * | 1979-10-17 | 1984-04-07 | 日本電信電話株式会社 | 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 |
JPS6453728A (en) | 1987-08-21 | 1989-03-01 | Fumio Tanaka | Method for indicating character in relief to prototype of wax pattern by lost wax method |
JPS6453728U (ja) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | ||
CN1260154C (zh) * | 1991-01-10 | 2006-06-21 | 古河电气工业株式会社 | 多孔光纤母体的制造装置和制造方法 |
JPH11268926A (ja) | 1998-03-23 | 1999-10-05 | Fujikura Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP2000109327A (ja) * | 1998-10-02 | 2000-04-18 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ガラス微粒子堆積装置 |
JP2002326833A (ja) * | 2001-05-02 | 2002-11-12 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材の製造装置及びそれを用いた光ファイバ母材の製造方法 |
CN1274617C (zh) * | 2001-06-25 | 2006-09-13 | 皮雷利&C.有限公司 | 用化学蒸汽沉积法制造光纤预型的装置和方法 |
JP2003034540A (ja) * | 2001-07-18 | 2003-02-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体製造装置 |
WO2003062159A1 (fr) * | 2002-01-24 | 2003-07-31 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Procede de fabrication d'un corps sedimentaire constitue de particules de verre et procede de fabrication de materiau a base de verre |
CN1318332C (zh) * | 2002-10-21 | 2007-05-30 | 富通集团有限公司 | 一种光纤预制件的制造方法及其装置 |
-
2004
- 2004-03-29 JP JP2004094496A patent/JP4466997B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-01-14 KR KR1020050003786A patent/KR101261095B1/ko active IP Right Grant
- 2005-03-07 CN CN200580010168XA patent/CN1938234B/zh active Active
- 2005-03-07 WO PCT/JP2005/003926 patent/WO2005092803A1/ja active Application Filing
- 2005-03-07 US US10/594,529 patent/US7987686B2/en active Active
- 2005-03-28 TW TW094109655A patent/TW200536798A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1938234B (zh) | 2010-09-08 |
US7987686B2 (en) | 2011-08-02 |
US20070209397A1 (en) | 2007-09-13 |
KR20050096846A (ko) | 2005-10-06 |
JP2005281025A (ja) | 2005-10-13 |
TW200536798A (en) | 2005-11-16 |
WO2005092803A1 (ja) | 2005-10-06 |
CN1938234A (zh) | 2007-03-28 |
KR101261095B1 (ko) | 2013-05-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060220 |
|
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|
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|
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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