JPS5915093B2 - 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 - Google Patents
無水石英系光フアイバ母材の製造装置Info
- Publication number
- JPS5915093B2 JPS5915093B2 JP13404679A JP13404679A JPS5915093B2 JP S5915093 B2 JPS5915093 B2 JP S5915093B2 JP 13404679 A JP13404679 A JP 13404679A JP 13404679 A JP13404679 A JP 13404679A JP S5915093 B2 JPS5915093 B2 JP S5915093B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- optical fiber
- temperature
- dehydration treatment
- anhydrous silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0148—Means for heating preforms during or immediately prior to deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、無水石英系光ファイバ母材の製造装置に関す
る。
る。
周知の如く、ＶＡＤ法による無水石英系光ファイバ母材
は、多孔質ガラスラリフォームに塩素含有ガスによる脱
水酸基処理を施すことによつて製造されている。
は、多孔質ガラスラリフォームに塩素含有ガスによる脱
水酸基処理を施すことによつて製造されている。
そして、多孔質ガラスラリフォームを製造し、脱水酸基
処理を施しつつ連続的に透０ 明ガラス化する方法も提
案されている。この方法において水酸基の含有量を確実
に低下させるためには、多孔質ガラスラリフォームをガ
ラス化或いは収縮しない温度（例えば比屈折率差１％を
越えるドーパント含有量の場合、９００℃以下）で２１
５〜５時間の長時間処理しなければならない。このため
、従来の無水石英系光ファイバ母材の製造装置は、多孔
質ガラスラリフォームを形成する反応容器と、多孔質ガ
ラスラリフォームをガラス化或いは収縮させずに水酸基
を除去する脱水処理炉と、ｎ 透明ガラス化を行う透明
ガラス化炉とを具備するものである。ところで、多孔質
ガラスラリフォームに塩素含有ガスによる脱水酸基処理
を７００〜９００℃の温度で施すと多孔質ガラスラリフ
ォーム内の水酸基は大部分除去されるが、この多孔質ク
５ ガラスラリフォームは透明ガラス炉に入つて透明ガ
ラス化されるまでに、上記脱水処理温度よりも低温度の
低温領域を通過することになる。そして、脱水処理され
た状態の多孔質ガラスラリフォームは非常に大きな吸着
能を有していることから、脱３０水処理で除去しきれず
に残留している水酸基がそのまま吸着した状態で透明ガ
ラス化されてしまうとともに、製造装置内に導入される
不活性ガスや塩素含有ガス等に含まれる極微量の水分が
吸着されて透明ガラス化されてしまうことになる。した
３５がつて、従来の光ファイバ母材の製造装置では、光
ファイバ母材中の水分量を０．８解程度以下とすること
は不可能であり、無水の光ファイバ母材を確実に形成す
ることができなかつた。本発明は上記事情に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、無水石英系光フ
アイバ母材を確実に形成できる等の利点を有する無水石
英系光フアイバ母材の製造装置を提供することにある。
処理を施しつつ連続的に透０ 明ガラス化する方法も提
案されている。この方法において水酸基の含有量を確実
に低下させるためには、多孔質ガラスラリフォームをガ
ラス化或いは収縮しない温度（例えば比屈折率差１％を
越えるドーパント含有量の場合、９００℃以下）で２１
５〜５時間の長時間処理しなければならない。このため
、従来の無水石英系光ファイバ母材の製造装置は、多孔
質ガラスラリフォームを形成する反応容器と、多孔質ガ
ラスラリフォームをガラス化或いは収縮させずに水酸基
を除去する脱水処理炉と、ｎ 透明ガラス化を行う透明
ガラス化炉とを具備するものである。ところで、多孔質
ガラスラリフォームに塩素含有ガスによる脱水酸基処理
を７００〜９００℃の温度で施すと多孔質ガラスラリフ
ォーム内の水酸基は大部分除去されるが、この多孔質ク
５ ガラスラリフォームは透明ガラス炉に入つて透明ガ
ラス化されるまでに、上記脱水処理温度よりも低温度の
低温領域を通過することになる。そして、脱水処理され
た状態の多孔質ガラスラリフォームは非常に大きな吸着
能を有していることから、脱３０水処理で除去しきれず
に残留している水酸基がそのまま吸着した状態で透明ガ
ラス化されてしまうとともに、製造装置内に導入される
不活性ガスや塩素含有ガス等に含まれる極微量の水分が
吸着されて透明ガラス化されてしまうことになる。した
３５がつて、従来の光ファイバ母材の製造装置では、光
ファイバ母材中の水分量を０．８解程度以下とすること
は不可能であり、無水の光ファイバ母材を確実に形成す
ることができなかつた。本発明は上記事情に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、無水石英系光フ
アイバ母材を確実に形成できる等の利点を有する無水石
英系光フアイバ母材の製造装置を提供することにある。
以下、図面を参照して、本発明を詳細に説明する。
第１図中１は無水石英系光フアイバ母材の製造装置本体
である。
である。
この製造装置本体１は、回転トラバース装置（図示せず
）により回転トラバースされる棒状基材２の下端に多孔
質ガラスプリフオーム３を形成する反応容器４と、多孔
質ガラスプリフオーム３内の水酸基を除去する脱水処理
炉５と、この脱水処理炉５の上方に設けられた予熱炉６
と、この予熱炉６の上方に設けられた透明ガラス化炉７
とを具備している。上記脱水処理炉５は、加熱管８とこ
の加熱管８の周囲に設けられた脱水処理用発熱体９とこ
の発熱体９を囲繞する反射板１０とから構成されている
。また、上記予熱炉６と透明ガラス化炉７とはそれぞれ
予熱用発熱体１１と透明ガラス化用発熱体１２を具備し
ており、これらの発熱体１１，１２はそれぞれ加熱管１
３の外側に埋設されていると共に反射板１４によつて囲
繞されている。なお、上記加熱管８の上部側には脱水処
理用ガスの流入口１５が形成されていると共に下部側に
は排気口１６が形成されている。
）により回転トラバースされる棒状基材２の下端に多孔
質ガラスプリフオーム３を形成する反応容器４と、多孔
質ガラスプリフオーム３内の水酸基を除去する脱水処理
炉５と、この脱水処理炉５の上方に設けられた予熱炉６
と、この予熱炉６の上方に設けられた透明ガラス化炉７
とを具備している。上記脱水処理炉５は、加熱管８とこ
の加熱管８の周囲に設けられた脱水処理用発熱体９とこ
の発熱体９を囲繞する反射板１０とから構成されている
。また、上記予熱炉６と透明ガラス化炉７とはそれぞれ
予熱用発熱体１１と透明ガラス化用発熱体１２を具備し
ており、これらの発熱体１１，１２はそれぞれ加熱管１
３の外側に埋設されていると共に反射板１４によつて囲
繞されている。なお、上記加熱管８の上部側には脱水処
理用ガスの流入口１５が形成されていると共に下部側に
は排気口１６が形成されている。
また、上記加熱管１３の頂部には雰囲気ガスの流入口１
７の付設された密閉部材１８が設けられている。この密
閉部材１８の上方には気密用の回転シール１９が設けら
れている。さらに、上記反応容器４の所定位置には、そ
れぞれ多孔質ガラスプリフオーム形成用の火炎バーナー
２０と、余剰反応物や廃ガスを排出させるガスを流入さ
せる流入口２１と、ガスを排気させる排気口２２とが設
けられている。次に、上記のように構成される装置の使
用方法について説明する。反応容器４において火炎バー
ナー２０からガラス原料や各種のガスを吹き出してＶＡ
Ｄ法により火炎処理して棒状基材２の下端に多孔質ガラ
スプリフオーム３を形成させつつ、脱水処理用ガスの流
入口１５から塩素含有ガスを流入させて６００〜１１０
０℃程度の温度の脱水処理炉５で脱水処理し、水分を含
む塩素含有ガスを排気口１６から排気させる。
７の付設された密閉部材１８が設けられている。この密
閉部材１８の上方には気密用の回転シール１９が設けら
れている。さらに、上記反応容器４の所定位置には、そ
れぞれ多孔質ガラスプリフオーム形成用の火炎バーナー
２０と、余剰反応物や廃ガスを排出させるガスを流入さ
せる流入口２１と、ガスを排気させる排気口２２とが設
けられている。次に、上記のように構成される装置の使
用方法について説明する。反応容器４において火炎バー
ナー２０からガラス原料や各種のガスを吹き出してＶＡ
Ｄ法により火炎処理して棒状基材２の下端に多孔質ガラ
スプリフオーム３を形成させつつ、脱水処理用ガスの流
入口１５から塩素含有ガスを流入させて６００〜１１０
０℃程度の温度の脱水処理炉５で脱水処理し、水分を含
む塩素含有ガスを排気口１６から排気させる。
同時に、雰囲気ガスの流入口１７からＨｅ等の雰囲気ガ
スを流入させつつ、脱水処理された多孔質ガラスプリフ
オーム３を８００〜１２００℃程度の温度の予熱炉６で
予熱し、予熱された多孔質ガラスプリフオーム３を１４
００〜１６００℃程度の温度の透明ガラス化炉７で透明
ガラス化して透明ガラス体３ａを形成する。なお、この
際装置本体１内に導入する塩素含有ガスや雰囲気ガスに
は、含有水分量ができるだけ少ないものを用いることが
肝要である。ところで、脱水処理炉５と透明ガラス化炉
７との間に脱水処理炉５の温度よりも高く透明ガラス化
炉７の温度よりも低い温度に設定された予熱炉６を設け
ているため、第２図に示すように脱水処理炉５から透明
ガラス化炉７に向かつて漸次温度が高くなるような温度
分布となる。但し、第２図中ａ点、ｂ点、ｃ点はそれぞ
れ脱水処理炉５、予熱炉６、透明ガラス化炉７の中心位
置を示す。そして、・脱水処理炉５の下部と透明ガラス
化炉７の上部との間にはガス流入口１５，１７と排気口
１６以外の開口部を形成せずに密閉系としているため、
外気中の水分が入るような不都合が生じることがない。
また、炉５，６，７内は、前記のように連続的に温度が
上昇する温度分布となつているため、脱水しきれずに多
孔質ガラスプリフオーム３に残留している水酸基が、さ
らに高温に加熱されて脱離してゆくとともに、雰囲気ガ
ス等の中に水分が入つていたとしてもこの水分が多孔質
ガラスプリフオーム３に吸着されるような不都合は生じ
ない。このため、確実に脱水された無水石英系光フアイ
バ母材が容易に形成される。以上説明したように、ＶＡ
Ｄ法により無水石英系光フアイバ母材を連続的に製造す
る本発明の装置においては、脱水処理炉と透明ガラス化
炉との間に脱水処理炉の温度よりも高く透明ガラス化炉
の温度よりも低い温度に設定された予熱炉を設けたもの
であるので、脱水処理炉から透明ガラス化炉に向かつて
漸次温度が高くなるような温度分布に設定でき、脱水処
理において脱水しきれずに残留している水酸基、水分が
脱離してゆくとともに、雰囲気ガス等に水分が含まれて
いたとしてもこの水分が多孔質ガラスプリフオームに吸
着する不都合も生じず、この状態のまま直ちに透明ガラ
ス化できる。
スを流入させつつ、脱水処理された多孔質ガラスプリフ
オーム３を８００〜１２００℃程度の温度の予熱炉６で
予熱し、予熱された多孔質ガラスプリフオーム３を１４
００〜１６００℃程度の温度の透明ガラス化炉７で透明
ガラス化して透明ガラス体３ａを形成する。なお、この
際装置本体１内に導入する塩素含有ガスや雰囲気ガスに
は、含有水分量ができるだけ少ないものを用いることが
肝要である。ところで、脱水処理炉５と透明ガラス化炉
７との間に脱水処理炉５の温度よりも高く透明ガラス化
炉７の温度よりも低い温度に設定された予熱炉６を設け
ているため、第２図に示すように脱水処理炉５から透明
ガラス化炉７に向かつて漸次温度が高くなるような温度
分布となる。但し、第２図中ａ点、ｂ点、ｃ点はそれぞ
れ脱水処理炉５、予熱炉６、透明ガラス化炉７の中心位
置を示す。そして、・脱水処理炉５の下部と透明ガラス
化炉７の上部との間にはガス流入口１５，１７と排気口
１６以外の開口部を形成せずに密閉系としているため、
外気中の水分が入るような不都合が生じることがない。
また、炉５，６，７内は、前記のように連続的に温度が
上昇する温度分布となつているため、脱水しきれずに多
孔質ガラスプリフオーム３に残留している水酸基が、さ
らに高温に加熱されて脱離してゆくとともに、雰囲気ガ
ス等の中に水分が入つていたとしてもこの水分が多孔質
ガラスプリフオーム３に吸着されるような不都合は生じ
ない。このため、確実に脱水された無水石英系光フアイ
バ母材が容易に形成される。以上説明したように、ＶＡ
Ｄ法により無水石英系光フアイバ母材を連続的に製造す
る本発明の装置においては、脱水処理炉と透明ガラス化
炉との間に脱水処理炉の温度よりも高く透明ガラス化炉
の温度よりも低い温度に設定された予熱炉を設けたもの
であるので、脱水処理炉から透明ガラス化炉に向かつて
漸次温度が高くなるような温度分布に設定でき、脱水処
理において脱水しきれずに残留している水酸基、水分が
脱離してゆくとともに、雰囲気ガス等に水分が含まれて
いたとしてもこの水分が多孔質ガラスプリフオームに吸
着する不都合も生じず、この状態のまま直ちに透明ガラ
ス化できる。
したがつて、実質上無水の石英系光フアイバ母材を容易
にかつ確実に形成できる。また、多孔質ガラスプリフオ
ームを、予熱炉を設けずに直接透明ガラス化炉で透明ガ
ラス化する場合には、多孔質ガラスプリフオームは実質
的に急激に加熱されることになり、熱の不均一、プリフ
オームの不均一等により、不均一に加熱され、この結果
プリフオームが湾曲したり、ねじれたりする不都合が時
折生ずるが、予熱炉を設ければ徐徐に加熱されることに
なり、このような事故を防ぐこともできる。
にかつ確実に形成できる。また、多孔質ガラスプリフオ
ームを、予熱炉を設けずに直接透明ガラス化炉で透明ガ
ラス化する場合には、多孔質ガラスプリフオームは実質
的に急激に加熱されることになり、熱の不均一、プリフ
オームの不均一等により、不均一に加熱され、この結果
プリフオームが湾曲したり、ねじれたりする不都合が時
折生ずるが、予熱炉を設ければ徐徐に加熱されることに
なり、このような事故を防ぐこともできる。
以下、実施例を示し、本発明の効果を明確にする。
実施例 １
第１図の装置を使用してＳｌＯ２−ＧｅＯ２（１０ｗｔ
％）−Ｐ２Ｏ５（０．５Ｗｔ％）系の多孔質ガラスプリ
フオーム３を６０ｍｍ／時で合成しつつ、発熱帯長３０
０ｍｍで温度８５０℃の脱水処理炉５で脱水処理すると
共に、発熱帯長１００ｍｍで温度１０５０℃の予熱炉６
で予熱し、かつ発熱帯長５０ｍｍで温度１４５０℃の透
明ガラス化炉７で透明ガラス化した。
％）−Ｐ２Ｏ５（０．５Ｗｔ％）系の多孔質ガラスプリ
フオーム３を６０ｍｍ／時で合成しつつ、発熱帯長３０
０ｍｍで温度８５０℃の脱水処理炉５で脱水処理すると
共に、発熱帯長１００ｍｍで温度１０５０℃の予熱炉６
で予熱し、かつ発熱帯長５０ｍｍで温度１４５０℃の透
明ガラス化炉７で透明ガラス化した。
なお、マツフル内径を８０ｍＩφとし、雰囲気ガスとし
てＨｅｌ５ｔ／分を流すと共に脱水処理用ガスとしてＣ
ｔ２ｌＯＯｃｃ／分とＨｅ５ｔ／分との混合ガスを流し
た。得られた透明ガラス体を紡糸して光フアイバを形成
し、この光フアイバ中の０Ｈ基の含有量を分光学的に測
定したところ、０．３ＰＰＩＩ１であつた。次に、上記
予熱炉６の温度を種々に変化させて同様に光フアイバを
作成し、その０Ｈ基を測定したところ、次表に示す結果
が得られた。
てＨｅｌ５ｔ／分を流すと共に脱水処理用ガスとしてＣ
ｔ２ｌＯＯｃｃ／分とＨｅ５ｔ／分との混合ガスを流し
た。得られた透明ガラス体を紡糸して光フアイバを形成
し、この光フアイバ中の０Ｈ基の含有量を分光学的に測
定したところ、０．３ＰＰＩＩ１であつた。次に、上記
予熱炉６の温度を種々に変化させて同様に光フアイバを
作成し、その０Ｈ基を測定したところ、次表に示す結果
が得られた。
この結果から、予熱炉６の温度を脱水処理炉５の温度よ
りも高くすることにより、得られる光フアイバ中の０Ｈ
基が効果的に低下することがわかる。
りも高くすることにより、得られる光フアイバ中の０Ｈ
基が効果的に低下することがわかる。
また、両炉５，６の温度を同じくしても従来の予熱炉を
設けない（低温領域が存在する）装置による光フアイバ
の０．８ｐＰＩｎよりも０Ｈ基含有量が低下することが
わかる。実施例 ２ 脱水処理炉の発熱帯長を１００ｍ１Ｌ、温度を１１００
℃、予熱炉の発熱帯長を１００ｍｍ１温度を１２００℃
、透明化炉の発熱帯長を５０ｍｍ、温度を１４５０℃と
し、他の条件を実１験例１と同一条件にして光フアイバ
を得た。
設けない（低温領域が存在する）装置による光フアイバ
の０．８ｐＰＩｎよりも０Ｈ基含有量が低下することが
わかる。実施例 ２ 脱水処理炉の発熱帯長を１００ｍ１Ｌ、温度を１１００
℃、予熱炉の発熱帯長を１００ｍｍ１温度を１２００℃
、透明化炉の発熱帯長を５０ｍｍ、温度を１４５０℃と
し、他の条件を実１験例１と同一条件にして光フアイバ
を得た。
この光フアイバの０Ｈ含有量を測定したところ、０．１
ＰＦ１であつた。以上のように、本発明装置を用いるこ
とによつて得られる光フアイバは、その残存する０Ｈ基
濃度を容易に０．５ｐｐＩｎ以下に低減化できる。
ＰＦ１であつた。以上のように、本発明装置を用いるこ
とによつて得られる光フアイバは、その残存する０Ｈ基
濃度を容易に０．５ｐｐＩｎ以下に低減化できる。
第１図は本発明の無水石英系光フアイバ母材の製造装置
の概略図、第２図は本発明の装置を使用した際の温度分
布を示すグラフである。 １・・・・・・装置本体、２・・・・・・棒状基材、３
・・・・・・多孔質ガラスプリフオーム、４・・・・・
・反応容器、５・・・・・・脱水処理炉、６・・・・・
・予熱炉、７・・・・・・透明ガラス化炉、１５・・・
・・・脱水処理用ガスの流人口、１６・・・・・・排気
口、１７・・・・・・雰囲気ガスの流入口。
の概略図、第２図は本発明の装置を使用した際の温度分
布を示すグラフである。 １・・・・・・装置本体、２・・・・・・棒状基材、３
・・・・・・多孔質ガラスプリフオーム、４・・・・・
・反応容器、５・・・・・・脱水処理炉、６・・・・・
・予熱炉、７・・・・・・透明ガラス化炉、１５・・・
・・・脱水処理用ガスの流人口、１６・・・・・・排気
口、１７・・・・・・雰囲気ガスの流入口。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ＶＡＤ法により無水石英系光ファイバ母材を連続的
に製造する装置において、脱水処理炉と透明ガラス化炉
との間に脱水処理炉の温度よりも高く透明ガラス化炉の
温度よりも低い温度に設定された予熱炉を設けたことを
特徴とする無水石英系光ファイバ母材の製造装置。 ２ 脱水処理炉、予熱炉、透明ガラス化炉で形成される
温度分布が、脱水処理炉から透明ガラス化炉に向つて漸
次上昇するように設定されてなることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の無水石英系光ファイバ母材の製
造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13404679A JPS5915093B2 (ja) | 1979-10-17 | 1979-10-17 | 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13404679A JPS5915093B2 (ja) | 1979-10-17 | 1979-10-17 | 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5659635A JPS5659635A (en) | 1981-05-23 |
| JPS5915093B2 true JPS5915093B2 (ja) | 1984-04-07 |
Family
ID=15119091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13404679A Expired JPS5915093B2 (ja) | 1979-10-17 | 1979-10-17 | 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5915093B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5973443A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-25 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用ガラス母材の製造方法 |
| JPS6046940A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光学系ガラス母材の製造方法とその装置 |
| JP4466997B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-05-26 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
| WO2020180466A1 (en) | 2019-03-05 | 2020-09-10 | Corning Incorporated | System and methods for processing an optical fiber preform |
-
1979
- 1979-10-17 JP JP13404679A patent/JPS5915093B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5659635A (en) | 1981-05-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2103232C1 (ru) | Индукционная печь, устройство с использованием этой печи, способ тепловой обработки синтетических кремнийдиоксидных масс и способы получения кремнийдиоксидного стекла | |
| JPS6038345B2 (ja) | 光伝送用ガラス素材の製造方法 | |
| JP2004203736A (ja) | 高純度溶融シリカの製造方法 | |
| JPS6351977B2 (ja) | ||
| JPS6026055B2 (ja) | 石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPH05351B2 (ja) | ||
| JPS6081033A (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPS5915093B2 (ja) | 無水石英系光フアイバ母材の製造装置 | |
| JPS616144A (ja) | 光フアイバ用ガラス母材の焼結方法 | |
| JPH0526731B2 (ja) | ||
| JPS5858299B2 (ja) | 低損失光ファイバ用多孔質母材の脱水焼結方法 | |
| JPS54134128A (en) | Manufacture of basic material for light transmitting fiber | |
| JPH03109223A (ja) | 石英ガラスおよびその製造方法 | |
| GB2171691A (en) | Method of treating preform for optical fiber | |
| JPS59500513A (ja) | ド−プ処理光フアイバ | |
| JPH0477327A (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JPS6036343A (ja) | 光伝送用ガラス素材の製法 | |
| JPH01145346A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| JPH0218333A (ja) | 多孔質母材の加熱処理方法 | |
| JPS62187127A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS6051625A (ja) | 透明ガラス体の製造方法 | |
| JPH0350134A (ja) | フッ化物ガラス光ファイバの線引き方法 | |
| JPS591218B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS60239336A (ja) | 石英系多孔質ガラス母材の熱処理方法 | |
| JPS60215537A (ja) | 光フアイバ用多孔質母材の処理方法 |