JPS6051625A - 透明ガラス体の製造方法 - Google Patents
透明ガラス体の製造方法Info
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- JPS6051625A JPS6051625A JP15635083A JP15635083A JPS6051625A JP S6051625 A JPS6051625 A JP S6051625A JP 15635083 A JP15635083 A JP 15635083A JP 15635083 A JP15635083 A JP 15635083A JP S6051625 A JPS6051625 A JP S6051625A
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- atmosphere
- transparent glass
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/22—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with deuterium
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は石英系ガラス中のＯＨ基をアイソトープ置換（
ＯＨ→ＯＤ）した光フアイバ用母材としての透明ガラス
体の製造方法に関するものである。
ＯＨ→ＯＤ）した光フアイバ用母材としての透明ガラス
体の製造方法に関するものである。
最近光ファイバの原子力分野への応用という観点から耐
放射線特性の研究が進められている。この結果、光フア
イバ中に含有するＯＨ基の童が多いほど放射線被曝によ
る特性の劣化が少ないことが明らかにされている０しか
しＯＨ基の増加に伴つて光ファイバの使用波長域である
０、７〜１．７μｍ帯での初期損失（放射線を照射する
前の損失）も増加するので、放射線照射による損失増加
は小さいが全損失は大きくなるという問題がある。そこ
でこの分野ではＯＨ基をＯＤ基に置換することによりＯ
Ｈ基による吸収の波長帯をずらし初期損失が小さく、か
つ耐放射線特性に優れた光ファイバが望まれている。
放射線特性の研究が進められている。この結果、光フア
イバ中に含有するＯＨ基の童が多いほど放射線被曝によ
る特性の劣化が少ないことが明らかにされている０しか
しＯＨ基の増加に伴つて光ファイバの使用波長域である
０、７〜１．７μｍ帯での初期損失（放射線を照射する
前の損失）も増加するので、放射線照射による損失増加
は小さいが全損失は大きくなるという問題がある。そこ
でこの分野ではＯＨ基をＯＤ基に置換することによりＯ
Ｈ基による吸収の波長帯をずらし初期損失が小さく、か
つ耐放射線特性に優れた光ファイバが望まれている。
光フアイバ中に含有されるＯＨ基をＯＤ基に置換する方
法として、従来は裸ファイバ（ａ常のファイバはファイ
バ表面を保護する目的でシリコーン樹脂などで被覆され
ているが、何も被覆されていないファイバを裸ファイバ
と称している）をＤ２ガス雰囲気中で熱処理する方法や
、プリフォームをＤｓガス雰囲気中で熱処理する方法に
よりＯＨ基をＯＤ基に置換することが実験的に行われて
いる。
法として、従来は裸ファイバ（ａ常のファイバはファイ
バ表面を保護する目的でシリコーン樹脂などで被覆され
ているが、何も被覆されていないファイバを裸ファイバ
と称している）をＤ２ガス雰囲気中で熱処理する方法や
、プリフォームをＤｓガス雰囲気中で熱処理する方法に
よりＯＨ基をＯＤ基に置換することが実験的に行われて
いる。
前者方法では、熱処理炉の６ｑ造によって異なるが、バ
ッチ処理により置換するので、長さ＠ｍ〜数十ｍのファ
イバしか適用できず、また置換に要する時間が長い。例
えば外径１２５μｍφのファイバをＯＨ→ＯＤ置換する
場合、５〜１０時間を要する。さらに裸ファイバでＯ）
！ −＋ ＯＤ置換を行うので別工程で被覆を行う必要
があり、取り扱いが内鍵である。
ッチ処理により置換するので、長さ＠ｍ〜数十ｍのファ
イバしか適用できず、また置換に要する時間が長い。例
えば外径１２５μｍφのファイバをＯＨ→ＯＤ置換する
場合、５〜１０時間を要する。さらに裸ファイバでＯ）
！ −＋ ＯＤ置換を行うので別工程で被覆を行う必要
があり、取り扱いが内鍵である。
後者の方法では、置換されたプリフォームをファイバ化
するので、ファイバ表面にシリコーンを被覆でき、また
長尺ＯＤファイバが製造可能であるが、置換に要する時
間が著しく長い欠点がある。
するので、ファイバ表面にシリコーンを被覆でき、また
長尺ＯＤファイバが製造可能であるが、置換に要する時
間が著しく長い欠点がある。
例えば外径１０鰭φのプリフォームを中心部まで置換す
る場合、４０〜５０時間を要する。
る場合、４０〜５０時間を要する。
本発明はこれらの欠点を解決するため、ガラス微粒子を
形成する工程と、これを熱処理する工程から成る透明ガ
ラス体の製造方法において、熱処理の雰囲気をＤｇＯま
たはＤ２を含んだ雰囲気とするものであり、以下本発明
を光ファイバの製造に適用した例を図面を用いて詳細に
説明する。
形成する工程と、これを熱処理する工程から成る透明ガ
ラス体の製造方法において、熱処理の雰囲気をＤｇＯま
たはＤ２を含んだ雰囲気とするものであり、以下本発明
を光ファイバの製造に適用した例を図面を用いて詳細に
説明する。
第１図は本発明の一実施例の概略図であって、１はガラ
ス微粒子の集合体（以下多孔質母材と称す）、２は出発
材、８は加熱炉の本体、４は発熱体、５はＴ）ｇｏを充
填した容器、６はＤｇｏ、７はＤｇＯの温度を制御する
温度制御器、８はキャリアーガス導入口、９はＤ糾のｇ
気をｊＯ熱炉の中に送り込む配管、１ｏは配管９を加熱
するヒータ、１１はＨｅガス導入口、１２は脱水剤の導
入口１１８は排気口、１４は回転および上下移動装置で
ある。
ス微粒子の集合体（以下多孔質母材と称す）、２は出発
材、８は加熱炉の本体、４は発熱体、５はＴ）ｇｏを充
填した容器、６はＤｇｏ、７はＤｇＯの温度を制御する
温度制御器、８はキャリアーガス導入口、９はＤ糾のｇ
気をｊＯ熱炉の中に送り込む配管、１ｏは配管９を加熱
するヒータ、１１はＨｅガス導入口、１２は脱水剤の導
入口１１８は排気口、１４は回転および上下移動装置で
ある。
多孔質母材１を製造する方法には、気相軸付は法と外付
は法があるが、本発明は多孔質母材１の製造方法に限定
されるものでない。また多孔質母材ｌを製造する原料と
しては、四塩化ケイ素、四塩化’ｆ ＃ ｖニウム、三
塩化リンなどのハｏ ’ｆ ＞ 化物やアルキルシリケ
ート（ケイ酸の部分または完全アルキルエステル）、さ
らには水晶を粉砕したもの等ガラス化可能なものであれ
ば何でもよく、特に限定されるものではない。
は法があるが、本発明は多孔質母材１の製造方法に限定
されるものでない。また多孔質母材ｌを製造する原料と
しては、四塩化ケイ素、四塩化’ｆ ＃ ｖニウム、三
塩化リンなどのハｏ ’ｆ ＞ 化物やアルキルシリケ
ート（ケイ酸の部分または完全アルキルエステル）、さ
らには水晶を粉砕したもの等ガラス化可能なものであれ
ば何でもよく、特に限定されるものではない。
つぎに第１図の実施例によってアイソトープ置換（ＯＨ
−＋ＯＤ）を行う手順を説明する〇多孔質母材１を加熱
炉３の内部に導入してＨｅガス導入口１１からＨｅガス
を炉内に導入する。
−＋ＯＤ）を行う手順を説明する〇多孔質母材１を加熱
炉３の内部に導入してＨｅガス導入口１１からＨｅガス
を炉内に導入する。
つぎに発熱体４により炉内を所望の温度に上げる。
所望の温度になった後、キャリアーガス導入口８からキ
ャリアーガスを流してＤｇＯの然気を配管９を経て炉内
に送り込む。ここでＤｌＩＯは温度制御、器７により所
望の温度に制御される。
ャリアーガスを流してＤｇＯの然気を配管９を経て炉内
に送り込む。ここでＤｌＩＯは温度制御、器７により所
望の温度に制御される。
多孔質母材１はガラス微粒子の集合体であり、その体積
の約６〜８割が微小な空孔で占められているので、Ｄ８
０の蒸気は多孔質母材１の中心まで非常に短時間で拡散
する。従って本発明によるアイソトープ置換においては
、透明なカラス中のＯＨ基をＯＤ基に置換する従来法に
比べて著しく時間を短縮することができる。
の約６〜８割が微小な空孔で占められているので、Ｄ８
０の蒸気は多孔質母材１の中心まで非常に短時間で拡散
する。従って本発明によるアイソトープ置換においては
、透明なカラス中のＯＨ基をＯＤ基に置換する従来法に
比べて著しく時間を短縮することができる。
従来、多孔質母材に含有されるＯＨ基を減少させるには
、多孔質母材をａｌｓまたはｓｏｃ ｔ ８雰囲気中で
熱処理する方法、多孔質母材を約１５００’Ｃの温度で
加熱して透明ガラス母材とする工程においてＣ７ｚまた
は５ＯＯ７Ｂを流す方法によって行われている。本発明
においても置換されたＯＤ基を減少させるには、従来と
同様にＣｈまたは５ｏａｔ ｓ雰囲気中で多孔質母材を
熱処理するか、透明ガラス化雰囲気を０４１Ａまたは５
ｏａｔ、雰囲気にすれはよい。
、多孔質母材をａｌｓまたはｓｏｃ ｔ ８雰囲気中で
熱処理する方法、多孔質母材を約１５００’Ｃの温度で
加熱して透明ガラス母材とする工程においてＣ７ｚまた
は５ＯＯ７Ｂを流す方法によって行われている。本発明
においても置換されたＯＤ基を減少させるには、従来と
同様にＣｈまたは５ｏａｔ ｓ雰囲気中で多孔質母材を
熱処理するか、透明ガラス化雰囲気を０４１Ａまたは５
ｏａｔ、雰囲気にすれはよい。
ｏｔＢまたはＳＯＯｊｇは第１図において脱水剤導入口
１２から流す。
１２から流す。
つぎに本発明の実１９１について述べる。
気相軸付は法で製造した外径５ｏＩＩＩＩｌｌφ、長さ
ｓ ｏ ｏｍノｓ土０＠ −Ｇｅ３０ｇ多孔質母多孔全
母材１８の中に導入して、回転装置１４により１０ ｒ
ｐｍで回転させた。加熱炉ａ内に導入口１１がらＨｅガ
スを５！／分流すとともに、発熱体４に通電し炉内を１
０００℃に保持した。つぎに温度制御器７により８０°
Ｃに保持したり、０を５００ ＱＣ／分のＨｅｌカスで
バブリングし、その蒸気を配管９を経て炉内に導入した
。この際ヒータ１０で配管９ヲトｏ。
ｓ ｏ ｏｍノｓ土０＠ −Ｇｅ３０ｇ多孔質母多孔全
母材１８の中に導入して、回転装置１４により１０ ｒ
ｐｍで回転させた。加熱炉ａ内に導入口１１がらＨｅガ
スを５！／分流すとともに、発熱体４に通電し炉内を１
０００℃に保持した。つぎに温度制御器７により８０°
Ｃに保持したり、０を５００ ＱＣ／分のＨｅｌカスで
バブリングし、その蒸気を配管９を経て炉内に導入した
。この際ヒータ１０で配管９ヲトｏ。
℃に保持し、ＤＩＯ蒸気の液化を防いだ。多孔質母材ｌ
をり、Ｏ雰囲気中で１時間熱処理した後、ＤｇＯの供給
をストップし、脱水剤導入口１２がらＣ６を５０ ｃｃ
／分流した。この状態で炉内の温度を１５００°Ｃに昇
温して１時間透明ガラス化処理を行った。得られた光フ
アイバ用母材をファイバ化して光損失特性を測定した結
果を、第２図に曲線Ａで示す。
をり、Ｏ雰囲気中で１時間熱処理した後、ＤｇＯの供給
をストップし、脱水剤導入口１２がらＣ６を５０ ｃｃ
／分流した。この状態で炉内の温度を１５００°Ｃに昇
温して１時間透明ガラス化処理を行った。得られた光フ
アイバ用母材をファイバ化して光損失特性を測定した結
果を、第２図に曲線Ａで示す。
また前記実施例において１０００’Ｃの熱処理時にａｔ
ｐ、のみを５０００７ｉ＋流し、１５００℃の６明ガラ
ス化ではＯ１２をストップして、８０°Ｃに保持したＤ
２０を５００ ｏａ／９のＨｅでバブリングし、Ｄ９０
雰囲気中でガラス化処理を行って得た光ファイバの損失
特性を第２図に曲ＩＪＢで示す。
ｐ、のみを５０００７ｉ＋流し、１５００℃の６明ガラ
ス化ではＯ１２をストップして、８０°Ｃに保持したＤ
２０を５００ ｏａ／９のＨｅでバブリングし、Ｄ９０
雰囲気中でガラス化処理を行って得た光ファイバの損失
特性を第２図に曲ＩＪＢで示す。
第２図に示す曲線Ｃは通常の気相軸付は法で作製した光
ファイバの損失特性である。第２図から各光７アイパの
ＯＨ基、ＯＤ基含有量をめた結果、特性曲線ＡはＯＤ基
が０．０５ ｐｐｍ 、特性曲線ＢはＯＤ基が１１００
ｐｐ、特性曲線ＣはＯＨ基がａ ｏ ｐｐｍであり、本
発明がＯＤ基を含有させる方法として優れていることが
明らかになった。また特性曲線ＢからＯＤ基が１００
Ｔ）Ｐｍ含有されても波長０．８５μｍ帯、１・１μｍ
帯、１．５μｍ帯に損失３ｄＢ ／ ｌ（ｍ以下の低損
失域が存在することが明らかになった。これはＯＤ基に
よる光吸収位置が、ＯＨ基の光吸収位置より長波長側に
シフトするためである。ＯＨ→ＯＤ置換による光吸収波
長の関係は単純な調和振動を仮定すると次式のように表
わせる。
ファイバの損失特性である。第２図から各光７アイパの
ＯＨ基、ＯＤ基含有量をめた結果、特性曲線ＡはＯＤ基
が０．０５ ｐｐｍ 、特性曲線ＢはＯＤ基が１１００
ｐｐ、特性曲線ＣはＯＨ基がａ ｏ ｐｐｍであり、本
発明がＯＤ基を含有させる方法として優れていることが
明らかになった。また特性曲線ＢからＯＤ基が１００
Ｔ）Ｐｍ含有されても波長０．８５μｍ帯、１・１μｍ
帯、１．５μｍ帯に損失３ｄＢ ／ ｌ（ｍ以下の低損
失域が存在することが明らかになった。これはＯＤ基に
よる光吸収位置が、ＯＨ基の光吸収位置より長波長側に
シフトするためである。ＯＨ→ＯＤ置換による光吸収波
長の関係は単純な調和振動を仮定すると次式のように表
わせる。
ここで、シＨ９シＤは、ＯＨ，ＯＤの吸１反周波数μ０
．μＨは、Ｄ、Ｈの有効質量である。（１）式よりめた
ＯＤ基の吸収波長と第２図の特性曲線Ｂがら実測した吸
収波長を表−１に示す。
．μＨは、Ｄ、Ｈの有効質量である。（１）式よりめた
ＯＤ基の吸収波長と第２図の特性曲線Ｂがら実測した吸
収波長を表−１に示す。
表−１
０Ｈ基による基本振動（２，７１μｍ）の２倍高調波に
よる吸収が波長１．８９μｍに傾く現われるが、ＯＤ基
に置換すると、ｌ・８９μｍの吸収が１．８７μｍにシ
フトすることが本発明で製造した光ファイバにより明ら
かになった。同じく表−１に示したＯＨ基に起因する吸
収がそれぞれ長波長側にシフトし、実測値と計算値が一
致することが明らかになった。このような結果、ＯＤ基
が１００ ｐｐｍ含有されても、０．８５μｍ、１．１
μｍ、１．５μｍ帯に低損失域が存在するようになる。
よる吸収が波長１．８９μｍに傾く現われるが、ＯＤ基
に置換すると、ｌ・８９μｍの吸収が１．８７μｍにシ
フトすることが本発明で製造した光ファイバにより明ら
かになった。同じく表−１に示したＯＨ基に起因する吸
収がそれぞれ長波長側にシフトし、実測値と計算値が一
致することが明らかになった。このような結果、ＯＤ基
が１００ ｐｐｍ含有されても、０．８５μｍ、１．１
μｍ、１．５μｍ帯に低損失域が存在するようになる。
第２図に示す特性曲線ＯはＯＨ基がｓ ｏ ｐｐｍ含有
されており、波長０．８５μｍの損失が８．２ｄＢ／Ｋ
ｍであるのに対してＯＤ基が１００ ｐｌｕｍ含有され
た特性面ＩＢでは２．４ｄＢ／Ｋｍと低損失であり、含
［ＯＤ基が、０・０５ ｐｐｍの特性曲線Ａと同じ損失
であった。これはＯＤ基を多量含んでも０．８５μｍに
おける損失は増加しないことを示すものであり、ＯＤフ
ァイバはＯＤ基を多量含んでも、これによる損失増加は
波長０．８５μｍにおいて生じないことが明らかになっ
た。第２図ではＯＨ基がＢ ０１）ｌ）ｍの損失特性を
示したが、ＯＨ基を１１００ｐｐ含有すると、０．８５
μｍにおける損失は１０〜１８ｄＢ／Ｋｍに増加スル。
されており、波長０．８５μｍの損失が８．２ｄＢ／Ｋ
ｍであるのに対してＯＤ基が１００ ｐｌｕｍ含有され
た特性面ＩＢでは２．４ｄＢ／Ｋｍと低損失であり、含
［ＯＤ基が、０・０５ ｐｐｍの特性曲線Ａと同じ損失
であった。これはＯＤ基を多量含んでも０．８５μｍに
おける損失は増加しないことを示すものであり、ＯＤフ
ァイバはＯＤ基を多量含んでも、これによる損失増加は
波長０．８５μｍにおいて生じないことが明らかになっ
た。第２図ではＯＨ基がＢ ０１）ｌ）ｍの損失特性を
示したが、ＯＨ基を１１００ｐｐ含有すると、０．８５
μｍにおける損失は１０〜１８ｄＢ／Ｋｍに増加スル。
前記実施例ではＤｓＯによってＯＨ−＋ＯＤ［換を行っ
たが、ＤｊｌＯをＤ８ガスに変え、Ｄ、力′ス供ｔ＠ｉ
ｔを５０００／％としてＯＨ→ＯＤ置換を行ったところ
、ＤｓＯの場合の結果と同様な結果が得られた。
たが、ＤｊｌＯをＤ８ガスに変え、Ｄ、力′ス供ｔ＠ｉ
ｔを５０００／％としてＯＨ→ＯＤ置換を行ったところ
、ＤｓＯの場合の結果と同様な結果が得られた。
以上説明したように、ガラス微粒子の集合体である多孔
質母材をＤｓＯやＤ２雰囲気中で熱処理してアイソトー
プｆｉｎ （ＯＨ→ＯＤ）を行うことを特徴とする本発
明によれば、以下のような利点がある。
質母材をＤｓＯやＤ２雰囲気中で熱処理してアイソトー
プｆｉｎ （ＯＨ→ＯＤ）を行うことを特徴とする本発
明によれば、以下のような利点がある。
（υ 製造した多孔質母材を、西明カラス化する工程（
光フアイバ用母材や透明ガラス体を作製する通常の工程
）の雰囲気をＤ２０やＤ２雰囲気にすれはよい本発明は
、光ファイバをＤ２荏囲気中で熱処理する従来法に比べ
、ＯＨ→ＯＤ置換に要する時間を著しく短くできる。
光フアイバ用母材や透明ガラス体を作製する通常の工程
）の雰囲気をＤ２０やＤ２雰囲気にすれはよい本発明は
、光ファイバをＤ２荏囲気中で熱処理する従来法に比べ
、ＯＨ→ＯＤ置換に要する時間を著しく短くできる。
（２）光フアイバ用母材の製造工程で置換を行うので、
この母材をファイバ化することにより、１０ Ｋｍ以上
の長尺ＯＤファイバが作製できる。
この母材をファイバ化することにより、１０ Ｋｍ以上
の長尺ＯＤファイバが作製できる。
また本発明で明らかになったように、ＯＤ基含有量の多
い光ファイバでも低損失域があり、特に波長０．８５１
１ｍ ＠の光損失は１００ Ｊ）ｐｍ ＯＤ以下におい
て増加しないことから、耐放射線用ファイバとして有望
である。さらに本発明は光フアイバ用以外の石英ガラス
の作製にも適用できる利点がある０
い光ファイバでも低損失域があり、特に波長０．８５１
１ｍ ＠の光損失は１００ Ｊ）ｐｍ ＯＤ以下におい
て増加しないことから、耐放射線用ファイバとして有望
である。さらに本発明は光フアイバ用以外の石英ガラス
の作製にも適用できる利点がある０
第１図は本発明の一実施例の概略図、第２図は本発明に
より製造したＯＤ７アイバの損失特性図４・・・発熱体
、５・・・容器、６・・・ＤＩＯ１７・・・温度制卸器
、８・・・キャリアーガス導入口、９・・・配管、１０
・・・ヒータ、１１・・・Ｈｅガス導入口、１２・・・
脱水剤導入口、１８・・・排気口、１４・・・回転およ
び上１移動装置。
より製造したＯＤ７アイバの損失特性図４・・・発熱体
、５・・・容器、６・・・ＤＩＯ１７・・・温度制卸器
、８・・・キャリアーガス導入口、９・・・配管、１０
・・・ヒータ、１１・・・Ｈｅガス導入口、１２・・・
脱水剤導入口、１８・・・排気口、１４・・・回転およ
び上１移動装置。
Claims (1)
- １ ガラス微粒子を出発材に付着、堆積させてガラス微
粒子の集合体を形成する工程と、ガラス微粒子の集合体
を高温度中で熱処理して透明ガラス化する工程とを含む
透明ガラス体の製造方法において、該ガラス微粒子の集
合体を熱処理する際の雰囲気をＤｓまたはＤｆｉＯを含
んだ雰囲気とすることを特徴とする透明ガラス体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15635083A JPS6051625A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 透明ガラス体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15635083A JPS6051625A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 透明ガラス体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6051625A true JPS6051625A (ja) | 1985-03-23 |
| JPS6238291B2 JPS6238291B2 (ja) | 1987-08-17 |
Family
ID=15625833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15635083A Granted JPS6051625A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 透明ガラス体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6051625A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6090852A (ja) * | 1983-10-22 | 1985-05-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバの処理方法 |
| US6490399B1 (en) | 1997-04-22 | 2002-12-03 | Deutsche Telekom | Glass for optical waveguides or the like |
| WO2004031085A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Corning Incorporated | Method for treating an optical fiber preform with deuterium |
| CN112094052A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-12-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种耐辐射石英光纤预制棒芯棒及其制备方法 |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP15635083A patent/JPS6051625A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6090852A (ja) * | 1983-10-22 | 1985-05-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバの処理方法 |
| JPH044988B2 (ja) * | 1983-10-22 | 1992-01-30 | ||
| US6490399B1 (en) | 1997-04-22 | 2002-12-03 | Deutsche Telekom | Glass for optical waveguides or the like |
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| CN112094052A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-12-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种耐辐射石英光纤预制棒芯棒及其制备方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6238291B2 (ja) | 1987-08-17 |
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