JPS60145924A - 光フアイバ母材の製法 - Google Patents
光フアイバ母材の製法Info
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- JPS60145924A JPS60145924A JP43984A JP43984A JPS60145924A JP S60145924 A JPS60145924 A JP S60145924A JP 43984 A JP43984 A JP 43984A JP 43984 A JP43984 A JP 43984A JP S60145924 A JPS60145924 A JP S60145924A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- glass
- quartz tube
- tube
- base material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/10—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■、技術分野
この発明は、光フアイバ用母材の製法に係シ、特に母材
の石英系ガラスに共存する水酸基（ＯＨ基〕の水素が重
水素に置換され、ＯＤ基とされた光フアイバ用母材に関
する。 。
の石英系ガラスに共存する水酸基（ＯＨ基〕の水素が重
水素に置換され、ＯＤ基とされた光フアイバ用母材に関
する。 。
光フアイバ中に含有されるＯＩＩ基をＯＤ基に置換する
ことにより、ＯＨ結合振動の高調波による光吸収位置が
長波長側に移動することが明らかにされている。したが
って、光通信波長域であるα８〜１．６μｍ帯において
、ＯＤ基で１ａ換した光フアイバ１ｄＯＨ基を含有する
光ファイバに比べて伝送損失の低減化を計ることができ
る。
ことにより、ＯＨ結合振動の高調波による光吸収位置が
長波長側に移動することが明らかにされている。したが
って、光通信波長域であるα８〜１．６μｍ帯において
、ＯＤ基で１ａ換した光フアイバ１ｄＯＨ基を含有する
光ファイバに比べて伝送損失の低減化を計ることができ
る。
また、光フアイバ中のＯＨ基は、その吸収損失を増大せ
しめる要因である一方、石英ガラス中の酸素欠陥のブロ
ックとして働くことにより、耐放射線性を高めるという
作用があり、耐放射線性の観点からＨＯＨ基は好ましい
ものとなる。よって、ＯＨ基をＯＤ基に置換すれば、常
用波長域（０８５μｍ）における損失を増大することな
く、耐放射線性を向上できる可能性もある。
しめる要因である一方、石英ガラス中の酸素欠陥のブロ
ックとして働くことにより、耐放射線性を高めるという
作用があり、耐放射線性の観点からＨＯＨ基は好ましい
ものとなる。よって、ＯＨ基をＯＤ基に置換すれば、常
用波長域（０８５μｍ）における損失を増大することな
く、耐放射線性を向上できる可能性もある。
■、従来技術とその問題点
ところで、光フアイバ中に含１れるＯ Ｔ−Ｉ基をＯＤ
基に置換する方法としては、まず、出発石英什内に重水
素（Ｄ２ 〕を流し、管外から加熱し、管内壁に堆積し
ている多孔質ガラス粒子に吸着している０Ｈｐ５をＯＤ
基に置換する方法があるる。しかし、この方法は置換に
高温、長時間を必要とし、ガラス粒子層が厚い場合には
、４０〜５０時間程度が必要となり実用的ではない。
基に置換する方法としては、まず、出発石英什内に重水
素（Ｄ２ 〕を流し、管外から加熱し、管内壁に堆積し
ている多孔質ガラス粒子に吸着している０Ｈｐ５をＯＤ
基に置換する方法があるる。しかし、この方法は置換に
高温、長時間を必要とし、ガラス粒子層が厚い場合には
、４０〜５０時間程度が必要となり実用的ではない。
また、■ＡＤ法によって多孔質プリフォームを形成する
際、多重管バーナに供給する水素の代シに重水素（Ｄ２
）を用いてＯＤ基とするもの１ある。しかし、一般に多
孔質プリフォームは非常に吸着能が高く、吸湿性に富む
ため雰囲気中の微量の水分を吸着してしオい、結果的に
ＯＨ基とＯＤ基とが混存したものとなり、完全なＯＤ同
換が行えない。
際、多重管バーナに供給する水素の代シに重水素（Ｄ２
）を用いてＯＤ基とするもの１ある。しかし、一般に多
孔質プリフォームは非常に吸着能が高く、吸湿性に富む
ため雰囲気中の微量の水分を吸着してしオい、結果的に
ＯＨ基とＯＤ基とが混存したものとなり、完全なＯＤ同
換が行えない。
ζらに、一旦形成された多孔質プリフォームをり、０雰
囲気下で熱処理する方法がある。この場合、Ｄ２はプリ
フォーム中のＧｅＯ□を還元してしまうため、使用でき
ず、Ｄ、Ｏを用いるしかないが、Ｄ ２０はり、に比較
して拡散速度が低いため、やはり置換に高温、長時間を
要する欠点がある。
囲気下で熱処理する方法がある。この場合、Ｄ２はプリ
フォーム中のＧｅＯ□を還元してしまうため、使用でき
ず、Ｄ、Ｏを用いるしかないが、Ｄ ２０はり、に比較
して拡散速度が低いため、やはり置換に高温、長時間を
要する欠点がある。
頂１発明の目的
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、高度に
０Ｄｆｉ２換された母材を製造することができ、かつＯ
Ｄ置換のための時間を特に必要とせず効率的にＯＤ置換
（７た光フアイバ母材が得られる光フアイバ母材の製法
を提供することを目的とする。
０Ｄｆｉ２換された母材を製造することができ、かつＯ
Ｄ置換のための時間を特に必要とせず効率的にＯＤ置換
（７た光フアイバ母材が得られる光フアイバ母材の製法
を提供することを目的とする。
■１発明の構成
この発明の光フアイバ母材の製法は、回転する導入し、
上記出発ガラス管外から高温熱源で加熱し、上記ガラス
原料ガスと重水とを加水分解反応せしめて、上記出発ガ
ラス管内壁・圧ガラス薄膜を形成したのち、上記出発ガ
ラス管を中実化するものであり、その特徴とするところ
は、上記ガラス原料ガスと重水との加水分解反応によっ
てガラス微粒子を形成する点にある。
上記出発ガラス管外から高温熱源で加熱し、上記ガラス
原料ガスと重水とを加水分解反応せしめて、上記出発ガ
ラス管内壁・圧ガラス薄膜を形成したのち、上記出発ガ
ラス管を中実化するものであり、その特徴とするところ
は、上記ガラス原料ガスと重水との加水分解反応によっ
てガラス微粒子を形成する点にある。
■９発明の具体的構成および作用
以下、図面を参照してこの発明の製法の一例を具体的に
説明する。
説明する。
第１図は、この発明の製法に用いられる製造装置の一例
を示すもので、図中符号１は、出発石英管である。この
出発石英管１け、ガラス旋盤の同転チャック２．２に回
転自在に保持これている。
を示すもので、図中符号１は、出発石英管である。この
出発石英管１け、ガラス旋盤の同転チャック２．２に回
転自在に保持これている。
出発石英１１２１の下方には、この出発石英管１を外部
から加熱する高温熱源としての酸水素バーナ３が出発石
英管１に沿って左右方向に移動自在に設けられている。
から加熱する高温熱源としての酸水素バーナ３が出発石
英管１に沿って左右方向に移動自在に設けられている。
また、出発石英管１の一方の端部の開口部には、三重管
構造の原料ガス供給ノズル４が挿入されている。この原
料ガス供給ノズル４と出発石英管１との間の空隙には、
原料ガス供給ノズル４と出発石英管１とを気密にシール
するとともに出発石英管１の回転を妨げないシール材５
が設けられている。さらに、出発石英管１の他方の端部
の開口部にはこの開口部を塞ぐアダプター６がシール材
７を介して取り付けられており、このアダプター６は図
示しない排気装置に接続され、出発石英管１内の反応排
ガスを吸引除失するとともに出発石英管１内に外気が侵
入しないようになっている。
構造の原料ガス供給ノズル４が挿入されている。この原
料ガス供給ノズル４と出発石英管１との間の空隙には、
原料ガス供給ノズル４と出発石英管１とを気密にシール
するとともに出発石英管１の回転を妨げないシール材５
が設けられている。さらに、出発石英管１の他方の端部
の開口部にはこの開口部を塞ぐアダプター６がシール材
７を介して取り付けられており、このアダプター６は図
示しない排気装置に接続され、出発石英管１内の反応排
ガスを吸引除失するとともに出発石英管１内に外気が侵
入しないようになっている。
次に、この製造装置を用いて光フアイバ母材を製造する
方法を説明する。まず、出発石英管１を回転せしめ、原
料ガス供給ノズル４にガラス原料ガス等を供給する。原
料ガス供給ノズル４の最外層にはアルゴンガス等の不活
性ガスでバブリングして気イしせしめた取水（Ｄ２０）
水蒸気を供給し、ノズル４の中間層にはアルゴンガスの
不活性ガスを、ノズル４の最内１４ニは、５ＩＣｅ４
、ＧｅＣ６いＥｃｅ３ＣＦ４などの分子中に水’？ （
Ｔ−Ｔ ）を含んでいないガラス原料ガスを供給する。
方法を説明する。まず、出発石英管１を回転せしめ、原
料ガス供給ノズル４にガラス原料ガス等を供給する。原
料ガス供給ノズル４の最外層にはアルゴンガス等の不活
性ガスでバブリングして気イしせしめた取水（Ｄ２０）
水蒸気を供給し、ノズル４の中間層にはアルゴンガスの
不活性ガスを、ノズル４の最内１４ニは、５ＩＣｅ４
、ＧｅＣ６いＥｃｅ３ＣＦ４などの分子中に水’？ （
Ｔ−Ｔ ）を含んでいないガラス原料ガスを供給する。
出発石英管１内に送り込むこれらガスは、水分および水
素が全ぐ含捷れていないものを使用することが肝要であ
シ、必要な場合にはモレキュラーシーブスなどを用いて
高度に精製することが望ましい。
素が全ぐ含捷れていないものを使用することが肝要であ
シ、必要な場合にはモレキュラーシーブスなどを用いて
高度に精製することが望ましい。
ついで、■水素バーナ３を出発石英骨１に沿って往復移
動せしめて、ｇｌ外から加熱する。この加熱によって出
発石英管１内に送シ込まれたガラス原料ガスと取水とが
次式で示されるような高温加水分解反応を起し、Ｓｌ、
２、Ｂ２０． 、Ｇｅｍ２ｉ どのガラス微粒子が生成
する。
動せしめて、ｇｌ外から加熱する。この加熱によって出
発石英管１内に送シ込まれたガラス原料ガスと取水とが
次式で示されるような高温加水分解反応を起し、Ｓｌ、
２、Ｂ２０． 、Ｇｅｍ２ｉ どのガラス微粒子が生成
する。
５ＩＣ６，＋２Ｔ）、Ｏ−＋５１０２＋４ＤＣｅ２ＢＣ
ｅｓ ＋３Ｄｚ ｏ−＋Ｂ２ｏ、 ＋６ＤＣＩＧｅＣｅ
、 ＋２Ｄ、Ｏ−＋ＧｅＯ２＋４ＤＣ’ｇこのようにし
て生成したガラス微粒子は、出発石英％Ｆ１内壁に付着
、堆積する。この堆積したガラス微粒子は酸水素バーナ
３によって加熱され、焼結されてガラス′ｆ＃膜となる
。この反応の際、屓応系内には実質的に水素（Ｈ）が存
在しないので、ＯＨ基は生じず、ＯＨ基のみが生じるこ
とになり、上記ガラス薄膜にはＯＨ基のみが含まれるこ
とになる。
ｅｓ ＋３Ｄｚ ｏ−＋Ｂ２ｏ、 ＋６ＤＣＩＧｅＣｅ
、 ＋２Ｄ、Ｏ−＋ＧｅＯ２＋４ＤＣ’ｇこのようにし
て生成したガラス微粒子は、出発石英％Ｆ１内壁に付着
、堆積する。この堆積したガラス微粒子は酸水素バーナ
３によって加熱され、焼結されてガラス′ｆ＃膜となる
。この反応の際、屓応系内には実質的に水素（Ｈ）が存
在しないので、ＯＨ基は生じず、ＯＨ基のみが生じるこ
とになり、上記ガラス薄膜にはＯＨ基のみが含まれるこ
とになる。
かぐして、酸水素バーナ３の往復移動に伴って所定の層
数のガラス薄膜が形成されたならば、反応を停止したう
え、出発石英管１を強熱して中実化してガラス母材とす
る。
数のガラス薄膜が形成されたならば、反応を停止したう
え、出発石英管１を強熱して中実化してガラス母材とす
る。
このようにして得られた光フアイバ母材は、ＯＨ基が全
く含まれず、ＯＨ基のみが含まれるので、この光フアイ
バ母材よりｉられた光ファイバは、ＯＨ基による吸収損
失は全くなく、ＯＨ基による吸収損失があるのみであり
、短波長域（０，８５μｍ）では低損失のものとなる。
く含まれず、ＯＨ基のみが含まれるので、この光フアイ
バ母材よりｉられた光ファイバは、ＯＨ基による吸収損
失は全くなく、ＯＨ基による吸収損失があるのみであり
、短波長域（０，８５μｍ）では低損失のものとなる。
また、Ｄ、Ｏを導入しているので比較的多景のＯＤＭが
光フアイバ母材中に含捷れることになるが、これによる
吸収損失は上述のように実用上問題はなく、むしろＯＨ
基の存在による耐放射線性向上の度合が大永くなる。さ
らに、ガラス微粒子の生成と同時にいわゆるＯＤ市換が
行われることになるので、従来法のようなＯＤ （Ｉｔ
換のための時１間が不要となる。
光フアイバ母材中に含捷れることになるが、これによる
吸収損失は上述のように実用上問題はなく、むしろＯＨ
基の存在による耐放射線性向上の度合が大永くなる。さ
らに、ガラス微粒子の生成と同時にいわゆるＯＤ市換が
行われることになるので、従来法のようなＯＤ （Ｉｔ
換のための時１間が不要となる。
なお、ガラス微粒子生成に先立って、・１Ｂ発石英管１
内にＤ２０またはＤ２を導入して酸水素バーナ３−で加
熱し、管１内壁着面部分に吸着、＠−蔵づれているＯＨ
基を予めＯＨ基に置換しておくことも好ましく、出発石
英管１？その″ｊｆ寸光ファイバのクラッドとする場合
などには有利となる。
内にＤ２０またはＤ２を導入して酸水素バーナ３−で加
熱し、管１内壁着面部分に吸着、＠−蔵づれているＯＨ
基を予めＯＨ基に置換しておくことも好ましく、出発石
英管１？その″ｊｆ寸光ファイバのクラッドとする場合
などには有利となる。
工］臼■Ｌ
以下、実１４例を示してこの発明の作用効果を確認する
。
。
鴻１図に示した内ｉＲを用いて次の条件にて、光フアイ
バ母材を製造した。
バ母材を製造した。
出発石英管：外径２０間、内径１７＋ＩＩｍ回転数：
２ Ｏｒｐｍ 酸水素バーナ移動速度：５Ｑ）７＠／分酸水素バーナへ
の水夫流＃ｔｌＯＪ／分４０ｅ／分 酸水素バーナへの酸禦流（’Ｎ：４０Ｊ／分５０ｅ／分 ０クラッド部形成 Ａｒ ： ２００ｃｃ／分 ノズルの中間層へ供給バー
ナ往復回数：５０回 ０コア部形成 ＳｉＣｇ４： １００ＣＣ／分 ＃ｋ（Ｄ最内層へ供給
Ａｒ ： ２００ｃｃ／分 ノズルの中間層へ供給バー
ナ往復回数：３０回 コア部およびクラッド部のガラス薄膜を形成したのち、
バ・−すで出発石英管を強熱して中実化し、ガラス母材
とした。このガラス母材から溶融紡糸法によって、コア
径５０μｍ１ クラッド所１２５μｍの光ファイバを得
た。この光ファイバの吸収スペクトルを測定したところ
、第２図のグラフに示す結果がイワられた。第２図中（
ａ）は上記光ファイバの吸収スペクトルを示し、（ｂ）
ｕ通常のＭＣＶＤ法で出発石英管内壁に堆積したガラス
、１り１漠を、出発石英管にり、を導入して加熱するこ
とによりＯＤ置喚した光フアイバ母材から？Ｇられたう
′Ｃファイバの吸収スペクトルである。
２ Ｏｒｐｍ 酸水素バーナ移動速度：５Ｑ）７＠／分酸水素バーナへ
の水夫流＃ｔｌＯＪ／分４０ｅ／分 酸水素バーナへの酸禦流（’Ｎ：４０Ｊ／分５０ｅ／分 ０クラッド部形成 Ａｒ ： ２００ｃｃ／分 ノズルの中間層へ供給バー
ナ往復回数：５０回 ０コア部形成 ＳｉＣｇ４： １００ＣＣ／分 ＃ｋ（Ｄ最内層へ供給
Ａｒ ： ２００ｃｃ／分 ノズルの中間層へ供給バー
ナ往復回数：３０回 コア部およびクラッド部のガラス薄膜を形成したのち、
バ・−すで出発石英管を強熱して中実化し、ガラス母材
とした。このガラス母材から溶融紡糸法によって、コア
径５０μｍ１ クラッド所１２５μｍの光ファイバを得
た。この光ファイバの吸収スペクトルを測定したところ
、第２図のグラフに示す結果がイワられた。第２図中（
ａ）は上記光ファイバの吸収スペクトルを示し、（ｂ）
ｕ通常のＭＣＶＤ法で出発石英管内壁に堆積したガラス
、１り１漠を、出発石英管にり、を導入して加熱するこ
とによりＯＤ置喚した光フアイバ母材から？Ｇられたう
′Ｃファイバの吸収スペクトルである。
このグラフから明らかなように、このＱ １ｊｉ４によ
って得らｎた光フアイバ母材からの光ファイバでＦｉ波
長１．３９ ｐ ｍのＯＩ（基による１汲収は全く斤く
、波長１．８７７７ ｍのＯＨ基による吸Ｉｌｌ ｊｌ
ｊ失が４ ［１００ｄＢ／ｂあることが認められた。一
方、従来の０１’）１ｉＱ換を行った光ファイ゛バ（ｂ
）では、１．３９μｍと１．８７μｍとの両方に吸収が
Ｅｇめられ、十分ＸりｏＴ）１ｒｉ換が十分に行われて
いないことが１１，３められた。
って得らｎた光フアイバ母材からの光ファイバでＦｉ波
長１．３９ ｐ ｍのＯＩ（基による１汲収は全く斤く
、波長１．８７７７ ｍのＯＨ基による吸Ｉｌｌ ｊｌ
ｊ失が４ ［１００ｄＢ／ｂあることが認められた。一
方、従来の０１’）１ｉＱ換を行った光ファイ゛バ（ｂ
）では、１．３９μｍと１．８７μｍとの両方に吸収が
Ｅｇめられ、十分ＸりｏＴ）１ｒｉ換が十分に行われて
いないことが１１，３められた。
■１０発明の効果
この発明のう”６フアイバ母材の１１爛法は、回転する
出発ガラス管内に分子中に水素を含まない化合物よりな
るガラス原料ガスと重水とを同時に導入し、上記出発ガ
ラス管外から高温熱源で加熱し、上記ガラス緊料ガスと
重水とを加水分解反応せしめて上記出発ガラス管内壁に
ガラス薄膜を形成したのち、上記出発ガラス管を中実化
するものであるので、このガラス母材から得られた光フ
ァイバは、０■（基が全く含まれず、常用波長域でに低
損失であり、寸だＯｒ）基の存在によって光フアイバ自
体の４１放射線性も向上する。さらに、ガラス薄膜の形
成といわゆるＯＤ置換が同時に行われることになり、効
率よ＜ ＯＤ ｎ換ファイバを得ることができる。
出発ガラス管内に分子中に水素を含まない化合物よりな
るガラス原料ガスと重水とを同時に導入し、上記出発ガ
ラス管外から高温熱源で加熱し、上記ガラス緊料ガスと
重水とを加水分解反応せしめて上記出発ガラス管内壁に
ガラス薄膜を形成したのち、上記出発ガラス管を中実化
するものであるので、このガラス母材から得られた光フ
ァイバは、０■（基が全く含まれず、常用波長域でに低
損失であり、寸だＯｒ）基の存在によって光フアイバ自
体の４１放射線性も向上する。さらに、ガラス薄膜の形
成といわゆるＯＤ置換が同時に行われることになり、効
率よ＜ ＯＤ ｎ換ファイバを得ることができる。
第１図は、この発明の製法に用いられる製造將１？？の
一例を示す概略４又戎図、第２図は光ファイバの吸収ス
ペクトルを示すグラフで、（ａ）はこの発明の製法によ
って得られた光フアイバ母材からの光ファイバの吸収ス
ペクトル、（ｂ）は従来のＯＤ置換による光ファイバの
吸収スペクトルである。 １・・−・・出発石英管、２・・・・・回転チャック、
３・曲酸水素バーナ、４・曲原料ガス供給ノズル。
一例を示す概略４又戎図、第２図は光ファイバの吸収ス
ペクトルを示すグラフで、（ａ）はこの発明の製法によ
って得られた光フアイバ母材からの光ファイバの吸収ス
ペクトル、（ｂ）は従来のＯＤ置換による光ファイバの
吸収スペクトルである。 １・・−・・出発石英管、２・・・・・回転チャック、
３・曲酸水素バーナ、４・曲原料ガス供給ノズル。
Claims (1)
- 回転する出発ガラス管内に、分子中に水素を含んでいな
い化合物よりなるガラス原料ガスと重水とを同時に導入
し、上記出発ガラス管外から高温熱源で加熱し、上記ガ
ラス原料ガスと重水とを高温加水分解反応せしめて、上
記出発ガラス管内壁にガラス簿膜を形成したのち上記出
発ガラス管を中実化することを特徴とする光フアイバ母
材の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43984A JPS60145924A (ja) | 1984-01-05 | 1984-01-05 | 光フアイバ母材の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP43984A JPS60145924A (ja) | 1984-01-05 | 1984-01-05 | 光フアイバ母材の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60145924A true JPS60145924A (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=11473838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP43984A Pending JPS60145924A (ja) | 1984-01-05 | 1984-01-05 | 光フアイバ母材の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60145924A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5938811A (en) * | 1997-05-23 | 1999-08-17 | Lucent Technologies Inc. | Method for altering the temperature dependence of optical waveguides devices |
| WO2004002910A1 (en) * | 2002-06-29 | 2004-01-08 | Lg Cable Ltd. | Method for fabricating optical fiber preform without hydroxyl group in core |
| NL1022140C2 (nl) * | 2002-12-11 | 2004-06-15 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze voor de depositie van een of meer glaslagen met laag hydroxylgehalte op het inwendige van een substraatbuis. |
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