JPS6126504B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6126504B2 JPS6126504B2 JP54112104A JP11210479A JPS6126504B2 JP S6126504 B2 JPS6126504 B2 JP S6126504B2 JP 54112104 A JP54112104 A JP 54112104A JP 11210479 A JP11210479 A JP 11210479A JP S6126504 B2 JPS6126504 B2 JP S6126504B2
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- gas
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- quartz
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01846—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光フアイバ用内付CVD法の改良に係
わる。
わる。
光フアイバのプレフオームの製造方法において
内付CVD法は低損失で広帯域な光フアイバを再
現性良く製造できる方法であることは周知の事実
である。しかしながらクラツド層となる石英管を
外部から移動する加熱源により加熱するため、合
成ガラス膜をその内側に形成する際に表面張力及
び火炎バーナにより加熱するときには火炎圧力に
よりその管径が収縮するという欠点があつた。こ
の現象の発生により石英管の内側に多量の合成ガ
ラスを形成することが不可能であつた。また石英
管の管径が熱収縮すると反応ガスの流量条件が変
化し均一なガラス合成が不可能であるばかりでな
く、堆積ガラス膜の膜厚が増加するため気泡の発
生が見られた。本発明は上述の内付CVD法に存
在する欠点を改良し、均一な合成ガス膜を多量に
堆積させるための内付CVD法の装置を提供する
ものである。
内付CVD法は低損失で広帯域な光フアイバを再
現性良く製造できる方法であることは周知の事実
である。しかしながらクラツド層となる石英管を
外部から移動する加熱源により加熱するため、合
成ガラス膜をその内側に形成する際に表面張力及
び火炎バーナにより加熱するときには火炎圧力に
よりその管径が収縮するという欠点があつた。こ
の現象の発生により石英管の内側に多量の合成ガ
ラスを形成することが不可能であつた。また石英
管の管径が熱収縮すると反応ガスの流量条件が変
化し均一なガラス合成が不可能であるばかりでな
く、堆積ガラス膜の膜厚が増加するため気泡の発
生が見られた。本発明は上述の内付CVD法に存
在する欠点を改良し、均一な合成ガス膜を多量に
堆積させるための内付CVD法の装置を提供する
ものである。
内付CVD装置の概略図を第１図に示すが、反
応ガス供給装置２２により所定組成比に混合され
た原料ガスはガラス旋盤１２にセツトされた石英
系ガラ管（以下、石英管と略記する。）１１に管
１５を通して送り込まれ、外部加熱源２０により
加熱されることにより反応し、ガラス微粉末を生
じさらに熔融ガラス化される。そのとき石英管の
内側に付着しないガラス微粉末及び未反応ガス及
び反応により発生する塩素ガスは管１６，１７を
通して捕集装置１９に送り込まれる。第２図には
本発明の装置の概略図を示すが管１６と管１７の
間にN2あるいは不活性ガスの導入機構２３とそ
の流量制御装置１８が設置されている。
応ガス供給装置２２により所定組成比に混合され
た原料ガスはガラス旋盤１２にセツトされた石英
系ガラ管（以下、石英管と略記する。）１１に管
１５を通して送り込まれ、外部加熱源２０により
加熱されることにより反応し、ガラス微粉末を生
じさらに熔融ガラス化される。そのとき石英管の
内側に付着しないガラス微粉末及び未反応ガス及
び反応により発生する塩素ガスは管１６，１７を
通して捕集装置１９に送り込まれる。第２図には
本発明の装置の概略図を示すが管１６と管１７の
間にN2あるいは不活性ガスの導入機構２３とそ
の流量制御装置１８が設置されている。
導入されるN2あるいは不活性ガスは、石英管
から排出される未反応ガス、未付着ガラス微粉末
及び発生塩素ガスと合流し、管１７を通して流れ
る。このとき管１７の管内の圧損が増加し、石英
管の内圧は増加するための石英管の熱収縮を抑制
することが出来る。添加導入されるガス流量をＱ
とすると石英管内の圧力増加は近似的に(1)式で表
わされ添加流量Ｑに比例する。ここでμは粘性係
数、dlはそれぞれ管１７の直径と長さを表わす。
から排出される未反応ガス、未付着ガラス微粉末
及び発生塩素ガスと合流し、管１７を通して流れ
る。このとき管１７の管内の圧損が増加し、石英
管の内圧は増加するための石英管の熱収縮を抑制
することが出来る。添加導入されるガス流量をＱ
とすると石英管内の圧力増加は近似的に(1)式で表
わされ添加流量Ｑに比例する。ここでμは粘性係
数、dlはそれぞれ管１７の直径と長さを表わす。
△Ｐ＝１２８μｌ／ｗｄ４Ｑ ……(1)
管１７の出口にはN2あるいは不活性ガスを導
入しない場合にはガラス微粒子が付着し、スス詰
りを起こし合成ガラス膜の堆積が不可能となる
が、本発明の方法のようにガスを添加導入すると
スス詰りは防止される。また捕集装置１９からの
水分等の不純物の逆拡散が除去される。以下実施
例とともに説明する。
入しない場合にはガラス微粒子が付着し、スス詰
りを起こし合成ガラス膜の堆積が不可能となる
が、本発明の方法のようにガスを添加導入すると
スス詰りは防止される。また捕集装置１９からの
水分等の不純物の逆拡散が除去される。以下実施
例とともに説明する。
SiCl4200cc/1分、O2ガス10/1分を外径18φmm
の石英管に送り込み120mm/1分で移動する酸水素
バーナにより1800℃に加熱してSiO2ガラス膜を
石英管の内側に堆積させたが、従来の管１５と１
７の間にN2ガスを導入しない方法では10回堆積
を繰り返すと石英管の外径が12mmφとなりそれ以
上の堆積を行なうと気泡が発生し、透明な合成ガ
ラス膜を形成することが不可能であつた。しかし
ながら本発明の装置でガス供給装置１８より５
/分のN2ガス管１７に排気ガスに添加導入する
と気泡のない透明ガラス膜の形成が30回可能であ
つた。また管１７の先端部でのガラス微粒子によ
るスス詰りも30回の積層の間発生しなかつた。
の石英管に送り込み120mm/1分で移動する酸水素
バーナにより1800℃に加熱してSiO2ガラス膜を
石英管の内側に堆積させたが、従来の管１５と１
７の間にN2ガスを導入しない方法では10回堆積
を繰り返すと石英管の外径が12mmφとなりそれ以
上の堆積を行なうと気泡が発生し、透明な合成ガ
ラス膜を形成することが不可能であつた。しかし
ながら本発明の装置でガス供給装置１８より５
/分のN2ガス管１７に排気ガスに添加導入する
と気泡のない透明ガラス膜の形成が30回可能であ
つた。また管１７の先端部でのガラス微粒子によ
るスス詰りも30回の積層の間発生しなかつた。
合成したガラス膜の水分含有量をOH基による
波長237μｍの赤外吸収ピークより評価したとこ
ろ従来の装置で作製したガラス膜には5ppmの含
有量が確認されたが、本発明の装置で作製したガ
ラス膜では吸収ピークは観測されなかつた。
波長237μｍの赤外吸収ピークより評価したとこ
ろ従来の装置で作製したガラス膜には5ppmの含
有量が確認されたが、本発明の装置で作製したガ
ラス膜では吸収ピークは観測されなかつた。
第１図は従来の内付CVD装置の概略図、第２
図は本発明の内付CVD装置の概略図であり １１…石英管、１２…ガラス旋盤のチヤツク、
１３…回転継手、１４…石英器回転方向、１５〜
１７…管、１８…ガス供給装置、１９…捕集装
置、２０…加熱源、２１…加熱源の移動方向、２
２…原料ガス供給装置、２３…導入機機を示す。
図は本発明の内付CVD装置の概略図であり １１…石英管、１２…ガラス旋盤のチヤツク、
１３…回転継手、１４…石英器回転方向、１５〜
１７…管、１８…ガス供給装置、１９…捕集装
置、２０…加熱源、２１…加熱源の移動方向、２
２…原料ガス供給装置、２３…導入機機を示す。
Claims (1)
- １ 石英系ガラス管内に気相状の原料ガスを送り
込み、外部加熱源により加熱し石英系ガラス管の
内側に合成ガラス膜を形成する光フアイバ用内付
CVD法において、石英系ガラス管のガラス流出
口と捕集装置を連結する管の中にN2あるいは不
活性ガスを添加導入し、該管の圧損を増加して、
前記石英系ガラス管の内圧を増大せしめることを
特徴とする光フアイバ用内付CVD法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210479A JPS5637243A (en) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | Internally sticking cvd apparatus for optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210479A JPS5637243A (en) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | Internally sticking cvd apparatus for optical fiber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5637243A JPS5637243A (en) | 1981-04-10 |
| JPS6126504B2 true JPS6126504B2 (ja) | 1986-06-20 |
Family
ID=14578233
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11210479A Granted JPS5637243A (en) | 1979-08-31 | 1979-08-31 | Internally sticking cvd apparatus for optical fiber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5637243A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4389229A (en) * | 1981-10-01 | 1983-06-21 | Western Electric Co., Inc. | Methods and apparatus for fabricating a lightguide preform |
| JPS59184739A (ja) * | 1983-04-02 | 1984-10-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光フアイバ線引き炉 |
| JP2803510B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1998-09-24 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法および装置 |
| KR100334763B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2002-05-03 | 윤종용 | 다공 구조 광섬유의 제조 방법 및 제조 장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119237A (en) * | 1975-04-11 | 1976-10-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Manufacturing method of glass fiber for optical communication |
-
1979
- 1979-08-31 JP JP11210479A patent/JPS5637243A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51119237A (en) * | 1975-04-11 | 1976-10-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Manufacturing method of glass fiber for optical communication |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5637243A (en) | 1981-04-10 |
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