JPH0240003B2 - Tanitsumoodo*hikarifuaibayobozainoseizohoho - Google Patents
Tanitsumoodo*hikarifuaibayobozainoseizohohoInfo
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- JPH0240003B2 JPH0240003B2 JP16594585A JP16594585A JPH0240003B2 JP H0240003 B2 JPH0240003 B2 JP H0240003B2 JP 16594585 A JP16594585 A JP 16594585A JP 16594585 A JP16594585 A JP 16594585A JP H0240003 B2 JPH0240003 B2 JP H0240003B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
- C03B2203/24—Single mode [SM or monomode]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、VAD法による単一モード光フアイ
バ用母材の製造方法の改良に関する。
バ用母材の製造方法の改良に関する。
（従来の技術）
従来のVAD法による単一モード光フアイバ用
母材の製造方法を第１図を用いて説明する。第１
図において１はコア用ガラス微粒子合成用バーナ
ー（以下、コア用バーナーと称する）、２及び
２′は、クラツド用ガラス微粒子合成用バーナー
（以下、クラツド用バーナーと称する）である。
コア用バーナー１には、コア用ガラス原料が、ク
ラツド用バーナー２及び２′にはクラツド用ガラ
ス原料が各々、H2、O2、不活性ガス等炉と共に
送りこまれる。コア用ガラス原料はコア用バーナ
ー１により形成される酸・水素火炎の中で火炎加
水分解反応によりコア用ガラス微粒子となり、ク
ラツド用ガラス原料は、クラツド用バーナー２及
び２′により形成される酸・水素火炎の中でクラ
ツド用ガラス微粒子となる。これらのガラス微粒
子を回転引上装置３に装着された回転する出発棒
４の先端に付着させ始め、出発棒４の引き上げて
いくことにより、コア部５とクラツド部６を有す
る多孔質ガラス母材７が軸方向に同時に形成され
ていく。コア用ガラス原料としてはSiCl4及びコ
ア部の屈折率を高めるためにGeCl4がクラツド用
原料としてはSiCl4が一般的に用いられる。８は
反応容器、９は付着堆積しなかつたガラス微粒子
及び廃ガスを排出するための排気管である。
母材の製造方法を第１図を用いて説明する。第１
図において１はコア用ガラス微粒子合成用バーナ
ー（以下、コア用バーナーと称する）、２及び
２′は、クラツド用ガラス微粒子合成用バーナー
（以下、クラツド用バーナーと称する）である。
コア用バーナー１には、コア用ガラス原料が、ク
ラツド用バーナー２及び２′にはクラツド用ガラ
ス原料が各々、H2、O2、不活性ガス等炉と共に
送りこまれる。コア用ガラス原料はコア用バーナ
ー１により形成される酸・水素火炎の中で火炎加
水分解反応によりコア用ガラス微粒子となり、ク
ラツド用ガラス原料は、クラツド用バーナー２及
び２′により形成される酸・水素火炎の中でクラ
ツド用ガラス微粒子となる。これらのガラス微粒
子を回転引上装置３に装着された回転する出発棒
４の先端に付着させ始め、出発棒４の引き上げて
いくことにより、コア部５とクラツド部６を有す
る多孔質ガラス母材７が軸方向に同時に形成され
ていく。コア用ガラス原料としてはSiCl4及びコ
ア部の屈折率を高めるためにGeCl4がクラツド用
原料としてはSiCl4が一般的に用いられる。８は
反応容器、９は付着堆積しなかつたガラス微粒子
及び廃ガスを排出するための排気管である。
このようにして作製した多孔質ガラス母材は、
加熱脱水処理、及び加熱透明化処理を施され、コ
ア部とクラツド部を有する透明ガラス母材とな
る。該母材は、所定径に延伸され石英ガラス管内
に挿入一体化されたのち、線引され単一モード光
フアイバとなる。
加熱脱水処理、及び加熱透明化処理を施され、コ
ア部とクラツド部を有する透明ガラス母材とな
る。該母材は、所定径に延伸され石英ガラス管内
に挿入一体化されたのち、線引され単一モード光
フアイバとなる。
（発明が解決しようとする問題点）
上記のような構造で行われる従来のVAD法に
よる単一モード光フアイバ用多孔質ガラス母材の
製造方法においては、以下に述べるような欠点が
あつた。
よる単一モード光フアイバ用多孔質ガラス母材の
製造方法においては、以下に述べるような欠点が
あつた。
第４図に実線で示したものは従来の方法で作製
された単一モード光フアイバ用多孔質ガラス体を
加熱脱水処理及び加熱透明化処理して得られた透
明ガラス母材の屈折率分布の１例である。第４図
に１，２，３にて示すごとく、従来の方法では得
られた屈折率分布が第４図中点線で示したような
完全なステツプ型ではなく、コア周辺部の屈折
率分布の傾斜（以下すそ拡がりと呼ぶ）コア／
クラツド界面の局部的な高屈折率部分、コア内
部の屈折率分布の凹凸、という、屈折率分布の不
整が見られる。このような屈折率分布の不整があ
る単一モードフアイバでは所望のカツトオフ波長
やモードフイールド径が得られるように、コア径
やクラツドとコア間の比屈折率差を設定する際に
困難が生じる他、同一カツトオフ波長とモードフ
イールド径を持つステツプ型屈折率分布を有する
単一モード・光フアイバに比べ、クラツド部への
光のパワーの拡りが大きくなるので低損失化の為
にクラツド部の厚みをより厚くする必要がある、
或いはまた曲げ損失特性が劣化するといつた欠点
があつた。
された単一モード光フアイバ用多孔質ガラス体を
加熱脱水処理及び加熱透明化処理して得られた透
明ガラス母材の屈折率分布の１例である。第４図
に１，２，３にて示すごとく、従来の方法では得
られた屈折率分布が第４図中点線で示したような
完全なステツプ型ではなく、コア周辺部の屈折
率分布の傾斜（以下すそ拡がりと呼ぶ）コア／
クラツド界面の局部的な高屈折率部分、コア内
部の屈折率分布の凹凸、という、屈折率分布の不
整が見られる。このような屈折率分布の不整があ
る単一モードフアイバでは所望のカツトオフ波長
やモードフイールド径が得られるように、コア径
やクラツドとコア間の比屈折率差を設定する際に
困難が生じる他、同一カツトオフ波長とモードフ
イールド径を持つステツプ型屈折率分布を有する
単一モード・光フアイバに比べ、クラツド部への
光のパワーの拡りが大きくなるので低損失化の為
にクラツド部の厚みをより厚くする必要がある、
或いはまた曲げ損失特性が劣化するといつた欠点
があつた。
本発明の目的は、上記の従来法の欠点である、
屈折率分布構造の不整を少なくし、伝送特性に優
れた単一モード光フアイバを得ることのできる光
フアイバ用母材の製造方法を提供するところにあ
る。
屈折率分布構造の不整を少なくし、伝送特性に優
れた単一モード光フアイバを得ることのできる光
フアイバ用母材の製造方法を提供するところにあ
る。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは鋭意研究の結果、従来方法による
上記欠点を克服する手段として、多孔質ガラス母
材製造時に第１図に１０として示すコア先端部の
表面温度を800℃以上に保持することにより、屈
折率分布がステツプ型に近づくことを見い出し本
発明に到達した。
上記欠点を克服する手段として、多孔質ガラス母
材製造時に第１図に１０として示すコア先端部の
表面温度を800℃以上に保持することにより、屈
折率分布がステツプ型に近づくことを見い出し本
発明に到達した。
すなわち、本発明は
(1) 回転する出発棒の先端にコア用バーナー及び
クラツド用バーナーにて、それぞれ合成したガ
ラス微粒子を堆積させ、コア部とクラツド部を
有する多孔質ガラス母材を軸方向に成長させる
VAD法による単一モード光フアイバ用母材の
製造方法において、多孔質ガラス体のコア先端
部の表面温度を800℃以上に保ちつつ多孔質ガ
ラス母材を成長させることを特徴とする、単一
モード光フアイバ用母材の製造方法 (2) 多孔質ガラス体のコア先端部の表面温度を
800℃以上に保つことは、コア部加熱用バーナ
を用いることによる特許請求範囲第１項記載の
単一モード光フアイバ用母材の製造方法 である。
クラツド用バーナーにて、それぞれ合成したガ
ラス微粒子を堆積させ、コア部とクラツド部を
有する多孔質ガラス母材を軸方向に成長させる
VAD法による単一モード光フアイバ用母材の
製造方法において、多孔質ガラス体のコア先端
部の表面温度を800℃以上に保ちつつ多孔質ガ
ラス母材を成長させることを特徴とする、単一
モード光フアイバ用母材の製造方法 (2) 多孔質ガラス体のコア先端部の表面温度を
800℃以上に保つことは、コア部加熱用バーナ
を用いることによる特許請求範囲第１項記載の
単一モード光フアイバ用母材の製造方法 である。
本発明の特に好ましい実施態様としては、コア
部加熱用バーナーを用いて多孔質ガラス体のコア
先端部の表面温度を800℃以上に保つ上記方法を
挙げることができる。
部加熱用バーナーを用いて多孔質ガラス体のコア
先端部の表面温度を800℃以上に保つ上記方法を
挙げることができる。
本発明者らは、本発明に到達するために従来法
により発生する屈折率分布不整の発生原因につい
て実験、考察を行つた結果、以下の結論に達し
た。
により発生する屈折率分布不整の発生原因につい
て実験、考察を行つた結果、以下の結論に達し
た。
従来より多孔質ガラス母材にコアの屈折率を高
くするために添加されるGeO2の濃度は多孔質ガ
ラス母材表面の温度とガラス微粒子合成用バーナ
ーに流すH2、O2流量に強く依存することが知ら
れている。〔参考文献：チダ、スドウ、ナカハラ、
イナガキ；プロシーデイングス オブ ７ス ヨ
ーロピアン コンフエレンス オン オプテイカ
ル フアイバー コミユニケイシヨン（コペンハ
ーゲン）Proceedings of 7th European
Conference on Optical Fider Communication
（Copenhagen）6.3−１−6.3−４〕そこで、単一
モード光フアイバ用多孔質ガラス母材の製造時に
おいてもコア用多孔質ガラス体（側面部の半径を
１とする）の表面温度（Ｔ）と得られる屈折率値
（△ｎ）の関係を調べたところ、第５図の結果を
得た。（この時、コア用バーナーにはO29／分、
SiCl440c.c.／分、GeCl42.0c.c.／分、Ar2.5／分を
供給し、H2供給量を1.5／分〜2.5／分の範囲
で変化させてコア用多孔質ガラス体表面温度を変
化させた。また表面温度は赤外放射温度計を利用
した。第５図より△ｎは、Ｔ＝500〜700℃の範囲
でＴの上昇とともに増加するが、Ｔ＝700℃以上
ではその変化は殆んどないことが判つた。次にコ
ア多孔質表面の半径方向の温度分布を測定した結
果、第６図に示すようにコア用多孔質ガラス体先
端部１０と側面部には常に約100℃以上の温度差
があることが判つた。以下の結果より、コア用多
孔質ガラス体の先端温度を800℃以上に保つこと
により、コア用多孔質ガラス体の表面の温度が先
端から側面部に至るまで約700℃以下に保つこと
ができ、得られる屈折率△ｎはほぼコア内部で一
定とすることができること、即ち屈折率分布の不
整のうち「コア内部の屈折率分布の凹凸」を解消
できることが判つた。また、コア用多孔質ガラス
体の先端温度を800℃以上に保つことによりその
他の屈折率分布不整構造も低減できることが判つ
た。
くするために添加されるGeO2の濃度は多孔質ガ
ラス母材表面の温度とガラス微粒子合成用バーナ
ーに流すH2、O2流量に強く依存することが知ら
れている。〔参考文献：チダ、スドウ、ナカハラ、
イナガキ；プロシーデイングス オブ ７ス ヨ
ーロピアン コンフエレンス オン オプテイカ
ル フアイバー コミユニケイシヨン（コペンハ
ーゲン）Proceedings of 7th European
Conference on Optical Fider Communication
（Copenhagen）6.3−１−6.3−４〕そこで、単一
モード光フアイバ用多孔質ガラス母材の製造時に
おいてもコア用多孔質ガラス体（側面部の半径を
１とする）の表面温度（Ｔ）と得られる屈折率値
（△ｎ）の関係を調べたところ、第５図の結果を
得た。（この時、コア用バーナーにはO29／分、
SiCl440c.c.／分、GeCl42.0c.c.／分、Ar2.5／分を
供給し、H2供給量を1.5／分〜2.5／分の範囲
で変化させてコア用多孔質ガラス体表面温度を変
化させた。また表面温度は赤外放射温度計を利用
した。第５図より△ｎは、Ｔ＝500〜700℃の範囲
でＴの上昇とともに増加するが、Ｔ＝700℃以上
ではその変化は殆んどないことが判つた。次にコ
ア多孔質表面の半径方向の温度分布を測定した結
果、第６図に示すようにコア用多孔質ガラス体先
端部１０と側面部には常に約100℃以上の温度差
があることが判つた。以下の結果より、コア用多
孔質ガラス体の先端温度を800℃以上に保つこと
により、コア用多孔質ガラス体の表面の温度が先
端から側面部に至るまで約700℃以下に保つこと
ができ、得られる屈折率△ｎはほぼコア内部で一
定とすることができること、即ち屈折率分布の不
整のうち「コア内部の屈折率分布の凹凸」を解消
できることが判つた。また、コア用多孔質ガラス
体の先端温度を800℃以上に保つことによりその
他の屈折率分布不整構造も低減できることが判つ
た。
そのメカニズムは以下のように説明できる。ま
ず「コアとクラツド界面の局部的な高屈折率部
分」については、その原因が多孔質ガラス母材合
成時、多孔質ガラス体表面温度が500℃以下の低
温部に析出する結晶性のGeO2と考えられる。す
なわち第１図のような構成で行われる多孔質ガラ
ス体の製造時、コア用多孔質ガラス体の先端部１
０表面温度が600℃程度の場合、コア用多孔質ガ
ラス体側面部のごく狭い領域において表面温度が
500℃以下になつており高濃度の結晶性GeO2が折
出し、コア・クラツド界面の局部的な高屈折率部
を形成すると考えられる。そこでコア用多孔質ガ
ラス体先端表面温度をできるだけ高く設定するこ
とにより、コア用多孔質ガラス体側面部において
もその表面温度が結晶性GeO2が析出しない十分
高温にすることができ、その結果コア・クラツド
界面の局部的な高屈折率部分」を解消せしめるこ
とができるわけである。「すそ拡がり」について
は、その原因が、(1)多孔質ガラス体製造時にコア
部に付着しなかつたコア用ガラス原料がコア周辺
のクラツド部に再付着するということと、(2)後の
脱水或いは透明化の為の加熱処理時にコア部の
GeO2成分が熱的に揮散し再度コア周辺のクラツ
ド部に再付着すること、という２つの要因が考え
られるが、本発明によれば後者の要因によるすそ
拡がりの発生を抑制できると考えられる。その根
拠は下記のとおりである。すなわち、GeO2を含
有する多孔質ガラス体を構成する、ガラス微粒子
は純粋なSiO2微粒子の表面を高濃度のGeO2が固
溶したSiO2層が包んでいる第７図に示すような
構造でできている。このような構造ではガラス微
粒子表面付近にGeO2が多く存在する為沿加熱処
理による揮散が非常に起り易い状態と言える。そ
ころが多孔質ガラス体製造時その表面温度を高く
するほどガラス微粒子表面近傍に存在していた
GeO2がガラス微粒子内部に拡散しガラス微粒子
表面のGeO2濃度が減少し、加熱処理によるGeO2
の揮散が抑えられる。そこでコア用多孔質ガラス
体の表面温度が高いほど屈折率分布構造のすそ拡
がりを小さく抑えることができるわけである。
ず「コアとクラツド界面の局部的な高屈折率部
分」については、その原因が多孔質ガラス母材合
成時、多孔質ガラス体表面温度が500℃以下の低
温部に析出する結晶性のGeO2と考えられる。す
なわち第１図のような構成で行われる多孔質ガラ
ス体の製造時、コア用多孔質ガラス体の先端部１
０表面温度が600℃程度の場合、コア用多孔質ガ
ラス体側面部のごく狭い領域において表面温度が
500℃以下になつており高濃度の結晶性GeO2が折
出し、コア・クラツド界面の局部的な高屈折率部
を形成すると考えられる。そこでコア用多孔質ガ
ラス体先端表面温度をできるだけ高く設定するこ
とにより、コア用多孔質ガラス体側面部において
もその表面温度が結晶性GeO2が析出しない十分
高温にすることができ、その結果コア・クラツド
界面の局部的な高屈折率部分」を解消せしめるこ
とができるわけである。「すそ拡がり」について
は、その原因が、(1)多孔質ガラス体製造時にコア
部に付着しなかつたコア用ガラス原料がコア周辺
のクラツド部に再付着するということと、(2)後の
脱水或いは透明化の為の加熱処理時にコア部の
GeO2成分が熱的に揮散し再度コア周辺のクラツ
ド部に再付着すること、という２つの要因が考え
られるが、本発明によれば後者の要因によるすそ
拡がりの発生を抑制できると考えられる。その根
拠は下記のとおりである。すなわち、GeO2を含
有する多孔質ガラス体を構成する、ガラス微粒子
は純粋なSiO2微粒子の表面を高濃度のGeO2が固
溶したSiO2層が包んでいる第７図に示すような
構造でできている。このような構造ではガラス微
粒子表面付近にGeO2が多く存在する為沿加熱処
理による揮散が非常に起り易い状態と言える。そ
ころが多孔質ガラス体製造時その表面温度を高く
するほどガラス微粒子表面近傍に存在していた
GeO2がガラス微粒子内部に拡散しガラス微粒子
表面のGeO2濃度が減少し、加熱処理によるGeO2
の揮散が抑えられる。そこでコア用多孔質ガラス
体の表面温度が高いほど屈折率分布構造のすそ拡
がりを小さく抑えることができるわけである。
本発明においてコア用多孔質ガラス体先端表面
温度を800℃以上に保つ方法としては、例えば
コア用バーナに流すガスを調整する、コア部加
熱用バーナを用いる、紫外線ランプ、ハロゲン
ランプ等の加熱用ランプを用いその光をコア先端
近傍に集中させる方法、CO2レーザー等高出力
のレーザ光をコア先端に照射する方法、等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
温度を800℃以上に保つ方法としては、例えば
コア用バーナに流すガスを調整する、コア部加
熱用バーナを用いる、紫外線ランプ、ハロゲン
ランプ等の加熱用ランプを用いその光をコア先端
近傍に集中させる方法、CO2レーザー等高出力
のレーザ光をコア先端に照射する方法、等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
（実施例）
実施例 １
第１図に示す装置において、コア用バーナー１
にH22.33／分、O29.0／分、Ar2.5／分、
SiCl440c.c.／分、Ge2.0c.c.／分を供給するとともに
第１のクラツド用バーナー２にH25.0／分、
O26.0／分、SiCl4250c.c.／分、Ar5.0／分、第
２のクラツド用バーナー２′にH214.0／分、
O26.0／分、SiCl4300c.c.／分を供給し多孔質ガ
ラス母材７を製造した。このとき、コア先端部１
０の表面温度は820℃であつた。また多孔質ガラ
ス母材の引上速度は40mm／hr、外径は120mmであ
り約12時間かけて長さ500mmの多孔質ガラス母材
を得た。この多孔質ガラス母材を加熱脱水処理及
び加熱透明化処理を施し透明な単一モード光フア
イバ用ガラス母材を得た。このガラス母材の屈折
率分布を第３図に示す。第３図に示すように得ら
れた屈折率分布は、かなりステツプ型に近いもの
であつた。本母材を所定径の延伸したのち石英ガ
ラス管内に挿入一体化したのち線引、フアイバ化
した。このフアイバはカツト・オフ波長1.18μｍ、
モードフイールド径10.02μｍであつた。本フアイ
バを20mmφのマンドレルに巻きつけて1.3μｍでの
曲げ損失を測定したところ、曲げによる損失増加
は0.6dB／ｍであり、良好な曲げ損失特性を示し
た。
にH22.33／分、O29.0／分、Ar2.5／分、
SiCl440c.c.／分、Ge2.0c.c.／分を供給するとともに
第１のクラツド用バーナー２にH25.0／分、
O26.0／分、SiCl4250c.c.／分、Ar5.0／分、第
２のクラツド用バーナー２′にH214.0／分、
O26.0／分、SiCl4300c.c.／分を供給し多孔質ガ
ラス母材７を製造した。このとき、コア先端部１
０の表面温度は820℃であつた。また多孔質ガラ
ス母材の引上速度は40mm／hr、外径は120mmであ
り約12時間かけて長さ500mmの多孔質ガラス母材
を得た。この多孔質ガラス母材を加熱脱水処理及
び加熱透明化処理を施し透明な単一モード光フア
イバ用ガラス母材を得た。このガラス母材の屈折
率分布を第３図に示す。第３図に示すように得ら
れた屈折率分布は、かなりステツプ型に近いもの
であつた。本母材を所定径の延伸したのち石英ガ
ラス管内に挿入一体化したのち線引、フアイバ化
した。このフアイバはカツト・オフ波長1.18μｍ、
モードフイールド径10.02μｍであつた。本フアイ
バを20mmφのマンドレルに巻きつけて1.3μｍでの
曲げ損失を測定したところ、曲げによる損失増加
は0.6dB／ｍであり、良好な曲げ損失特性を示し
た。
比較例 １
多孔質ガラス母材製造時にコア用バーナーに流
すSiCl4、GeCl4、H2各流量SiCl430c.c.／分、
GeCl41.7c.c.／分、H2.1／分と変更した以外は全
く実施例１と同一の条件で、実施例１と同様に単
一モード・フアイバを作製した。この際、多孔質
ガラス母材のコアの先端部の温度は740℃であつ
た。得られた透明ガラス母材の屈折率分布を第８
図に示す。コア内部で屈折率分布が変化しており
またすそ拡がりも大きい。この母材から得られた
カツトオフ波長1.18μｍ、モード・フイールド径
10.02μｍの単一モードフアイバを200mmφのマン
ドレルに巻きつけて波長1.3μｍでの曲げ損失を測
定した結果9dB／ｍであり、実施例１の場合に比
べて劣つていた。
すSiCl4、GeCl4、H2各流量SiCl430c.c.／分、
GeCl41.7c.c.／分、H2.1／分と変更した以外は全
く実施例１と同一の条件で、実施例１と同様に単
一モード・フアイバを作製した。この際、多孔質
ガラス母材のコアの先端部の温度は740℃であつ
た。得られた透明ガラス母材の屈折率分布を第８
図に示す。コア内部で屈折率分布が変化しており
またすそ拡がりも大きい。この母材から得られた
カツトオフ波長1.18μｍ、モード・フイールド径
10.02μｍの単一モードフアイバを200mmφのマン
ドレルに巻きつけて波長1.3μｍでの曲げ損失を測
定した結果9dB／ｍであり、実施例１の場合に比
べて劣つていた。
比較例 ２
多孔質ガラス母材製造時にコア用バーナーに流
すSiCl4、GeCl4、H2各流量をSiCl430c.c.／分、
GeCl41.8c.c.／分、H21.8／分と変更した以外は
全く実施例１と同一条件で実施例１と同様に単一
モードフアイバを作製した。このとき多孔質ガラ
ス母材のコアの先端部の温度は640℃であつた。
得られた透明ガラス母材の屈折率分布を第９図に
示す。コア内部で屈折率の変化すそ拡がりに加
え、コア・クラツド界面の高屈折率部も現われて
いる。この母材から得られたカツトオフ波長
1.18μｍ、モード・フイールド径10.02μｍの単一
モード・フアイバを20mmφのマンドレルに巻きつ
けて波長1.3μｍでの曲げ損失を測定した結果
12dB／ｍであり比較例１よりもさらに劣つてい
た。
すSiCl4、GeCl4、H2各流量をSiCl430c.c.／分、
GeCl41.8c.c.／分、H21.8／分と変更した以外は
全く実施例１と同一条件で実施例１と同様に単一
モードフアイバを作製した。このとき多孔質ガラ
ス母材のコアの先端部の温度は640℃であつた。
得られた透明ガラス母材の屈折率分布を第９図に
示す。コア内部で屈折率の変化すそ拡がりに加
え、コア・クラツド界面の高屈折率部も現われて
いる。この母材から得られたカツトオフ波長
1.18μｍ、モード・フイールド径10.02μｍの単一
モード・フアイバを20mmφのマンドレルに巻きつ
けて波長1.3μｍでの曲げ損失を測定した結果
12dB／ｍであり比較例１よりもさらに劣つてい
た。
実施例 ２
実施例１では多孔質ガラス母材のコアの先端部
の温度を上昇させるために、コア用バーナー１に
供給するH2流量を2.35／分と比較例１、２に
比べて増加させることにより良好な屈折率分布を
得ている。しかしながらコア用バーナーに供給す
るH2流量を増加させていくに従い、コア部が安
定に成長するようコア用ガラス原料投入量を増加
させる必要があり、その結果コア部の外径が太く
なり、得られた透明ガラス母材のクラツド厚がコ
ア径に比して減少している。例えば透明ガラス母
材のクラツド径をＤコア径をｄとした場合、比較
例１ではＤ／ｄ＝7.5、比較例２ではＤ／ｄ＝8.2
であるのに対し実施例１では、Ｄ／ｄ＝5.2と減
少している。単一モードフアイバの場合、使用す
る石英管の不純物（特にOH基）による伝送損失
の劣化を低減する為クラツド厚はできるだけ厚い
方が望ましい。即ちＤ／ｄが大きい方が望まし
い。そこで多孔質母材を作製するにあたり第２図
に示すように、コア先端部を加熱する為の酸・水
素バーナーすなわちコア部加熱用バーナー１１を
設け、コア先端部の表面温度を上昇させて、多孔
質母材を作製した。このとき加熱用酸・水素バー
ナー８にはH21.5／分、O24／分を供給した。
またコア用バーナー１に供給するGeCl4流量を1.5
／分にする以外は比較例２と全く同一条件で単
一モード・フアイバーを作製した。この時の多孔
質ガラス母材のコアの先端部の温度は830℃であ
つた。得られた透明ガラス体の屈折率分布を第１
０図に示す。この屈折率分布は実施例１と同様ス
テツプ型に近いものであり、かつまたＤ／ｄ＝
8.1と十分厚いクラツド層を有していた。得られ
たカツトオフ波長1.18μｍモード・フイールド径
10.01μｍの単一モードフアイバを25mmφのマンド
レルに巻きつけて波長1.3μｍでの曲げ損失を測定
した結果0.6dB／ｍであり実施例１と同様に秀れ
ていた。また波長1.38μｍにおけるOH吸収損失増
は0.7dB／Kmであり、クラツド厚を厚くした効果
が現われていた。なお実施例１では波長1.38μｍ
でのOH吸収損失増は12.0dB／Kmあつた。
の温度を上昇させるために、コア用バーナー１に
供給するH2流量を2.35／分と比較例１、２に
比べて増加させることにより良好な屈折率分布を
得ている。しかしながらコア用バーナーに供給す
るH2流量を増加させていくに従い、コア部が安
定に成長するようコア用ガラス原料投入量を増加
させる必要があり、その結果コア部の外径が太く
なり、得られた透明ガラス母材のクラツド厚がコ
ア径に比して減少している。例えば透明ガラス母
材のクラツド径をＤコア径をｄとした場合、比較
例１ではＤ／ｄ＝7.5、比較例２ではＤ／ｄ＝8.2
であるのに対し実施例１では、Ｄ／ｄ＝5.2と減
少している。単一モードフアイバの場合、使用す
る石英管の不純物（特にOH基）による伝送損失
の劣化を低減する為クラツド厚はできるだけ厚い
方が望ましい。即ちＤ／ｄが大きい方が望まし
い。そこで多孔質母材を作製するにあたり第２図
に示すように、コア先端部を加熱する為の酸・水
素バーナーすなわちコア部加熱用バーナー１１を
設け、コア先端部の表面温度を上昇させて、多孔
質母材を作製した。このとき加熱用酸・水素バー
ナー８にはH21.5／分、O24／分を供給した。
またコア用バーナー１に供給するGeCl4流量を1.5
／分にする以外は比較例２と全く同一条件で単
一モード・フアイバーを作製した。この時の多孔
質ガラス母材のコアの先端部の温度は830℃であ
つた。得られた透明ガラス体の屈折率分布を第１
０図に示す。この屈折率分布は実施例１と同様ス
テツプ型に近いものであり、かつまたＤ／ｄ＝
8.1と十分厚いクラツド層を有していた。得られ
たカツトオフ波長1.18μｍモード・フイールド径
10.01μｍの単一モードフアイバを25mmφのマンド
レルに巻きつけて波長1.3μｍでの曲げ損失を測定
した結果0.6dB／ｍであり実施例１と同様に秀れ
ていた。また波長1.38μｍにおけるOH吸収損失増
は0.7dB／Kmであり、クラツド厚を厚くした効果
が現われていた。なお実施例１では波長1.38μｍ
でのOH吸収損失増は12.0dB／Kmあつた。
（発明の効果）
本発明の光フアイバ用母材の製造方法は、屈折
率分布の構造の不整を少なくでき、伝送特性に優
れた単一モード光フアイバを得ることができる。
率分布の構造の不整を少なくでき、伝送特性に優
れた単一モード光フアイバを得ることができる。
第１図は本発明の実施例及び従来法における
VAD法による単一モード・光フアイバ用多孔質
ガラス母材の製造方法を示す模式図、第２図は本
発明の実施例２における多孔質ガラス母材製造方
法を説明する模式図、第３図は本発明の実施例１
により得られた単一モード光フアイバ用透明ガラ
ス母材の屈折率分布を示すグラフ、第４図は従来
法によつて得られる屈折率分布不整の例を示す
図、第５図は多孔質ガラス母材表面温度Ｔと比屈
折率差△ｎの関係を示すグラフ、第６図は多孔質
ガラス母材製造時のコア部の半径方向の表面温度
分布を示すグラフ、第７図はガラス微粒子の構造
の模式図、第８図は比較例１で得られた透明ガラ
ス母材の屈折率分布のグラフ、第９図は比較例２
で得られた透明ガラス母材の屈折率分布のグラ
フ、第１０図は実施例２で得られた透明ガラス母
材の屈折率分布のグラフである。
VAD法による単一モード・光フアイバ用多孔質
ガラス母材の製造方法を示す模式図、第２図は本
発明の実施例２における多孔質ガラス母材製造方
法を説明する模式図、第３図は本発明の実施例１
により得られた単一モード光フアイバ用透明ガラ
ス母材の屈折率分布を示すグラフ、第４図は従来
法によつて得られる屈折率分布不整の例を示す
図、第５図は多孔質ガラス母材表面温度Ｔと比屈
折率差△ｎの関係を示すグラフ、第６図は多孔質
ガラス母材製造時のコア部の半径方向の表面温度
分布を示すグラフ、第７図はガラス微粒子の構造
の模式図、第８図は比較例１で得られた透明ガラ
ス母材の屈折率分布のグラフ、第９図は比較例２
で得られた透明ガラス母材の屈折率分布のグラ
フ、第１０図は実施例２で得られた透明ガラス母
材の屈折率分布のグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 回転する出発棒の先端にコア用バーナー及び
クラツド用バーナーにて、それぞれ合成したガラ
ス微粒子を堆積させ、コア部とクラツド部を有す
る多孔質ガラス母材を軸方向に成長させるVAD
法による単一モード光フアイバ用母材の製造方法
において、多孔質ガラス体のコア先端部の表面温
度を800℃以上に保ちつつ多孔質ガラス母材を成
長させることを特徴とする、単一モード光フアイ
バ用母材の製造方法。 ２ 多孔質ガラス体のコア先端部の表面温度を
800℃以上に保つことは、コア部加熱用バーナー
を用いることによる特許請求範囲第１項記載の単
一モード光フアイバ用母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16594585A JPH0240003B2 (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | Tanitsumoodo*hikarifuaibayobozainoseizohoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16594585A JPH0240003B2 (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | Tanitsumoodo*hikarifuaibayobozainoseizohoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6227343A JPS6227343A (ja) | 1987-02-05 |
| JPH0240003B2 true JPH0240003B2 (ja) | 1990-09-10 |
Family
ID=15822001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16594585A Expired - Lifetime JPH0240003B2 (ja) | 1985-07-29 | 1985-07-29 | Tanitsumoodo*hikarifuaibayobozainoseizohoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0240003B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04102204U (ja) * | 1991-02-07 | 1992-09-03 | 株式会社ハナガタ | 包装用フイルム溶断溶着装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0764578B2 (ja) * | 1987-12-11 | 1995-07-12 | 住友電気工業株式会社 | シングルモード光フアイバ用母材の製造方法 |
| US6543257B1 (en) | 1999-05-28 | 2003-04-08 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Dehydration and sintering apparatus for porous optical fiber preform |
| JP4540923B2 (ja) | 2001-11-09 | 2010-09-08 | 株式会社フジクラ | 光ファイバの製造方法および光ファイバ母材の製造方法 |
| JP7652629B2 (ja) * | 2020-07-07 | 2025-03-27 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ母材 |
-
1985
- 1985-07-29 JP JP16594585A patent/JPH0240003B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04102204U (ja) * | 1991-02-07 | 1992-09-03 | 株式会社ハナガタ | 包装用フイルム溶断溶着装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6227343A (ja) | 1987-02-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |