JPS6060939A - 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法 - Google Patents
光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法Info
- Publication number
- JPS6060939A JPS6060939A JP17018783A JP17018783A JPS6060939A JP S6060939 A JPS6060939 A JP S6060939A JP 17018783 A JP17018783 A JP 17018783A JP 17018783 A JP17018783 A JP 17018783A JP S6060939 A JPS6060939 A JP S6060939A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- glass
- base material
- glass particles
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は石英系光ファイバをつくることをｌ］ｊ工提と
した光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法に関する。
した光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法に関する。
光ファイバを製造する手段として最も普及しているのは
、プリフオームロンドと称する光フアイバ母材を加熱延
伸により紡糸する方法であり、さらに火炎加水分解反応
を利用して上記光フアイバ母材を製造する手段としては
ＶＡＤ法、ＯＶＤ法などが採用されている。
、プリフオームロンドと称する光フアイバ母材を加熱延
伸により紡糸する方法であり、さらに火炎加水分解反応
を利用して上記光フアイバ母材を製造する手段としては
ＶＡＤ法、ＯＶＤ法などが採用されている。
ちなみにＶＡＤ法では、ガスシステムから給送されるガ
ラス原料を多重管構造のバーナへ導き、そのバーナの酸
水素炎中で当該ガラス原料を火炎加水分解することによ
り生成したスート状のガラス微粒子をターゲットと称す
る出発棒端に堆積させ、その堆積物を軸方向へ成長させ
ることにより多孔質母材を得ている。
ラス原料を多重管構造のバーナへ導き、そのバーナの酸
水素炎中で当該ガラス原料を火炎加水分解することによ
り生成したスート状のガラス微粒子をターゲットと称す
る出発棒端に堆積させ、その堆積物を軸方向へ成長させ
ることにより多孔質母材を得ている。
多孔質母材はその後、脱水処理ならびに透明ガラス化さ
れ光ファイバ母材トナル。
れ光ファイバ母材トナル。
上記ＶＡＤ法におけるガラス微粒子の生成ト堆積はペル
ジャーと称する容器内で行なわれ、この際、ペルジャー
内は排気され、清浄な空気が供給される。
ジャーと称する容器内で行なわれ、この際、ペルジャー
内は排気され、清浄な空気が供給される。
ＯＶＤ法の場合、原理的にはＶＡ、Ｄ法と同じであるが
、ベイトと称する棒状基体が回転し、バーナはこのベイ
トの外周長手方向に沿って往復動するようになっている
。
、ベイトと称する棒状基体が回転し、バーナはこのベイ
トの外周長手方向に沿って往復動するようになっている
。
したがってＯＶＤ法の場合、バーナを介し′て生成され
たガラス微粒子はベイトの外周に管状に堆積される。
たガラス微粒子はベイトの外周に管状に堆積される。
これにより得られた多孔質母材も前記と同じく透明ガラ
ス化され、もちろんＯＶＤ法でもガラス微粒子の生成と
堆積が容器内の所定雰囲気中で実施される。
ス化され、もちろんＯＶＤ法でもガラス微粒子の生成と
堆積が容器内の所定雰囲気中で実施される。
ところで石英系ガラスには、酸素欠陥、５ｉＣｈ欠陥の
あることが知られている。
あることが知られている。
これらの欠陥は不安定であり、電子をとらえて色中心に
なったり、Ｈ２ＯやＨ２をトラップしてＯＨ基を形成し
やすいと考えられる。
なったり、Ｈ２ＯやＨ２をトラップしてＯＨ基を形成し
やすいと考えられる。
ＯＩｉ基は既知の通り、波長０．９５１１ｍ、１．３９
μｍなどにおける吸収損失を起こし、光ファイバにあっ
ては伝送特性を劣化させる。
μｍなどにおける吸収損失を起こし、光ファイバにあっ
ては伝送特性を劣化させる。
上述したＶＡＤ法、ＯＶＤ法のごとく、ガラス合成が酸
水素炎中で行なわれるとき、還元雰囲気でのガラス合成
も部分的に起こり、ガラス内に酸素欠陥を主とする欠陥
が生じやすいと思われる。
水素炎中で行なわれるとき、還元雰囲気でのガラス合成
も部分的に起こり、ガラス内に酸素欠陥を主とする欠陥
が生じやすいと思われる。
例えばＶＡＤ法により作製された酸化ゲルマニウムガラ
スの場合、ルツボ溶融法でつくられたＧ ｅ ０２ガラ
スの屈折率が１．６２であるのに対し、上記ＶＡＤ法に
よるＧ ｅ Ｏ＝ニガラスそれは１．５８〜１．６０と
異常に低く、この異常な低屈折率が欠陥の多さを示して
いるとともに、ＥＳＲ測定により、ＧｅＯ２ガラス中に
２価のゲルマニウムが多く含まれていることも明らかに
なっている。
スの場合、ルツボ溶融法でつくられたＧ ｅ ０２ガラ
スの屈折率が１．６２であるのに対し、上記ＶＡＤ法に
よるＧ ｅ Ｏ＝ニガラスそれは１．５８〜１．６０と
異常に低く、この異常な低屈折率が欠陥の多さを示して
いるとともに、ＥＳＲ測定により、ＧｅＯ２ガラス中に
２価のゲルマニウムが多く含まれていることも明らかに
なっている。
一方、上記欠陥によりトラップされる水素は、光フアイ
バケーブル布設後のある種の条件によす、ソの被覆層か
ら発生したり、あるいは金属の溶解によって発生し、こ
うして発生した水素はガラス中をきわめて速（拡散し、
光ファイバのコアにおいても問題のＯＨ基を形成する。
バケーブル布設後のある種の条件によす、ソの被覆層か
ら発生したり、あるいは金属の溶解によって発生し、こ
うして発生した水素はガラス中をきわめて速（拡散し、
光ファイバのコアにおいても問題のＯＨ基を形成する。
本発明は上記の問題点に鑑みなされたもので、その目的
とするところは光フアイバ母材製造時のガラス微粒子堆
積段階において水素対策手段を講じておくことにより、
高品質の光フアイバ母材、ひいては安定な伝送特性を長
期にわたって保持する光ファイバを提供することにある
。
とするところは光フアイバ母材製造時のガラス微粒子堆
積段階において水素対策手段を講じておくことにより、
高品質の光フアイバ母材、ひいては安定な伝送特性を長
期にわたって保持する光ファイバを提供することにある
。
本発明の特徴とするところは、ガラス原料を火炎中に導
いて化学反応させ、これにより生成された元ファイバ用
ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を形成する堆積系
において、その堆積系を酸化性雰囲気に保持して上記ガ
ラス微粒子を堆積させることにある。
いて化学反応させ、これにより生成された元ファイバ用
ガラス微粒子を堆積させて多孔質母材を形成する堆積系
において、その堆積系を酸化性雰囲気に保持して上記ガ
ラス微粒子を堆積させることにある。
本発明方法を具体的に実施するとき、第１図のＶＡＤ法
とか、第２図に示すＯＶＤ法が適宜に採用される。
とか、第２図に示すＯＶＤ法が適宜に採用される。
第１図において、１は排気管２とガス導入口３とを有す
るベルラヤー、４は噴射口がペルジャー１内に挿入され
た多重管構造のバーナ、６は下端がペルジャー１内に挿
入されたターゲットである。
るベルラヤー、４は噴射口がペルジャー１内に挿入され
た多重管構造のバーナ、６は下端がペルジャー１内に挿
入されたターゲットである。
上記において、ペルジャー１内にはガス導入口３から雰
囲気ガスが導入されるようになっており、その排気管２
には調節弁６、吸気ポンプ７を備えた排気系８が接続さ
れ、この排気系８を介してペルジャー１内が排気される
ようになっている。
囲気ガスが導入されるようになっており、その排気管２
には調節弁６、吸気ポンプ７を備えた排気系８が接続さ
れ、この排気系８を介してペルジャー１内が排気される
ようになっている。
バーナ４は原料ガス、燃焼ガス、支燃ガス、緩衝ガスな
どの供給を受ける多重管構造となっており、当該バーナ
４には上記各ガスを供給するためのガスシステム９が接
続されている。
どの供給を受ける多重管構造となっており、当該バーナ
４には上記各ガスを供給するためのガスシステム９が接
続されている。
ターゲット６はその上端に備えられた回転機１０、引上
機構１１により回転ならびに引き上げられるようになっ
ており、前記バーナ４と対応している当該ターゲット６
はガラス微粒子の堆積時、これにより形成される多孔質
母料の成長速度と同調して引き上げられる。
機構１１により回転ならびに引き上げられるようになっ
ており、前記バーナ４と対応している当該ターゲット６
はガラス微粒子の堆積時、これにより形成される多孔質
母料の成長速度と同調して引き上げられる。
本発明方法において第１図の装置によりＶＡＤ法を実施
する要領は前述の通りであり、ペルジャー１内において
バーナ４から噴射されるガラス微粒子がターゲット６の
軸方向に堆積されて多孔質母材１２が形成される。
する要領は前述の通りであり、ペルジャー１内において
バーナ４から噴射されるガラス微粒子がターゲット６の
軸方向に堆積されて多孔質母材１２が形成される。
本発明の１実施例ではこうしたガラス微粒子の堆積を行
なうとき、ガス導入口３からペルジャー１内に酸素を供
給してその堆積系を酸化性雰囲気に保持する。
なうとき、ガス導入口３からペルジャー１内に酸素を供
給してその堆積系を酸化性雰囲気に保持する。
この際、１００％酸素を供給するのがもつとも好ましい
が、５０％濃度以上の酸素を供給してもよい。
が、５０％濃度以上の酸素を供給してもよい。
酸化性雰囲気中で上記堆積を行なった場合、多孔質母材
１２を構成しているガラス微粒子中に水素によって侵さ
れやすい酸素欠陥、ＳｉＯ□欠陥があるとしても、その
雰囲気中の酸素がガラス微粒子中に拡散してこれら格子
欠陥を埋め、その格子欠陥を著しく減少させる。
１２を構成しているガラス微粒子中に水素によって侵さ
れやすい酸素欠陥、ＳｉＯ□欠陥があるとしても、その
雰囲気中の酸素がガラス微粒子中に拡散してこれら格子
欠陥を埋め、その格子欠陥を著しく減少させる。
したがって上記多孔質母材１２を透明ガラス化して光フ
アイバ母材としてこれにクラッド用ガラスパイプをジャ
ケットし、これら母材を紡糸することにより得られる石
英系光ファイバは、その後、水素を含む劣悪な環境にお
かれたとしても、氷菓を捕獲してＯＨ基を形成するとい
ったことがほとんどなくなり、それ故伝送ｐス増の生じ
がたい、長期にわたって伝送特性の安定した光ファイバ
となる。
アイバ母材としてこれにクラッド用ガラスパイプをジャ
ケットし、これら母材を紡糸することにより得られる石
英系光ファイバは、その後、水素を含む劣悪な環境にお
かれたとしても、氷菓を捕獲してＯＨ基を形成するとい
ったことがほとんどなくなり、それ故伝送ｐス増の生じ
がたい、長期にわたって伝送特性の安定した光ファイバ
となる。
なお、第１図では１つのバーナ４により単一層の多孔質
母材１２を形成する例を示したが、２つのバーナにより
コア層とクラッド層とを備えた多孔質母材を形成するよ
うにしてもよい。
母材１２を形成する例を示したが、２つのバーナにより
コア層とクラッド層とを備えた多孔質母材を形成するよ
うにしてもよい。
つぎに第２図のＯＶＤ法について説明する。
第２図において、２１は排気管２２とガス導入管２３と
を備えた容器、２４は前記と同じ多重管構造のバーナ、
２６はベイトである。
を備えた容器、２４は前記と同じ多重管構造のバーナ、
２６はベイトである。
容器２１内に配置されている上記ベイト２６は、図示し
ないガラス旋盤のチャックにより回転自在に保持されて
おり、バーナ２４も容器２１内にあってベイト２６の長
方向に往復動自在となっており、当該バーナ２４にはガ
スシステム２６が接続されている。
ないガラス旋盤のチャックにより回転自在に保持されて
おり、バーナ２４も容器２１内にあってベイト２６の長
方向に往復動自在となっており、当該バーナ２４にはガ
スシステム２６が接続されている。
本発明方法において第２図の装置によりＯＶＤ法を実施
する要領は前述の通りであり、バーナ２４を介して生成
されたガラス微粒子がベイト２６の外周に堆積されて多
孔質母材２７が形成される。
する要領は前述の通りであり、バーナ２４を介して生成
されたガラス微粒子がベイト２６の外周に堆積されて多
孔質母材２７が形成される。
この実施例でもガス導入管２３から容器２１内に酸素を
供給してその堆積糸を酸化性算囲気とするのであり、当
該ＯＶＤ法の場合も前記ＶＡＤ法と同様、酸素欠陥、５
ｉＯｙ欠陥のない多孔質母材２７が得られる。
供給してその堆積糸を酸化性算囲気とするのであり、当
該ＯＶＤ法の場合も前記ＶＡＤ法と同様、酸素欠陥、５
ｉＯｙ欠陥のない多孔質母材２７が得られる。
したがって上記多孔質母材２７を透明ガラス化して光フ
アイバ母材とし、これを用いて光ファイバを紡糸すれば
、伝送ロス増の生じがたい、長期にわたって伝送特性の
安定した光ファイバが得られる。
アイバ母材とし、これを用いて光ファイバを紡糸すれば
、伝送ロス増の生じがたい、長期にわたって伝送特性の
安定した光ファイバが得られる。
上記各実施例で説明した本発明において、ガラス原料と
してはＳ ｉ Ｃ１ａ、ＧｅＣｌ４、Ｐ ＯＣ１２、Ａ
ｔＣｔｓ、ＢＢｒ３などの／）ロゲン化物、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシランなどのような通常
のＣＶＤ原料が用いられ、さらに５ｉＣｈ、Ｇ ｅ Ｏ
ｘ、Ｐｔ０ｓ１Ａｔ＊Ｃｈ、Ｂ２Ｏ３などの微粉末も用
いられる。
してはＳ ｉ Ｃ１ａ、ＧｅＣｌ４、Ｐ ＯＣ１２、Ａ
ｔＣｔｓ、ＢＢｒ３などの／）ロゲン化物、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシランなどのような通常
のＣＶＤ原料が用いられ、さらに５ｉＣｈ、Ｇ ｅ Ｏ
ｘ、Ｐｔ０ｓ１Ａｔ＊Ｃｈ、Ｂ２Ｏ３などの微粉末も用
いられる。
バーナを介して形成する火炎は、酸水素炎のホカ、都市
ガス、プロパンガスなどによる火炎でもよく、これら火
炎を形成するとき、燃料を完全酸化するのに必要な量以
上の酸素を供給するとよい。
ガス、プロパンガスなどによる火炎でもよく、これら火
炎を形成するとき、燃料を完全酸化するのに必要な量以
上の酸素を供給するとよい。
多孔質母材を透明ガラス化したり、紡糸（加熱延伸）す
るとき、これらの工程でも格子欠陥を登生させないのが
よく、例えば透明ガラス化工程に先行して酸素処理を行
なうとか、透明ガラス化を酸化性雰囲気中で行なうとか
、紡糸を酸素ガス雰囲気中で行なうとよい。
るとき、これらの工程でも格子欠陥を登生させないのが
よく、例えば透明ガラス化工程に先行して酸素処理を行
なうとか、透明ガラス化を酸化性雰囲気中で行なうとか
、紡糸を酸素ガス雰囲気中で行なうとよい。
また、透明ガラス化後の母材減径加工、ガラスジャケン
ティングなど、必要な加工を施した場合、そのガラスを
徐冷するのがよく、これにより欠陥の発生を防止するこ
とができる。
ティングなど、必要な加工を施した場合、そのガラスを
徐冷するのがよく、これにより欠陥の発生を防止するこ
とができる。
本発明方法により製造できるガラスは５ｉ０２、あるイ
ハＳ ｉ Ｏｘ、ニＧ ｅ Ｏｘ、ＰｘＯ−１ＡＩ−ｔ
Ｃｈ、ＢｔＯｓ、Ｆなどをドープしたガラスであり、他
にもＴ ｉ Ｏ！、Ｔ ａｘｏｎｓ Ｓ ｎ Ｃｈｓ
Ｎ ｂ、＊ｏｓｓ Ｚ ｒ Ｏ２ｓ Ｙ ｂ＊Ｏｓｓ
Ｌ ａ２０ｓ１Ｇ ａｔｏｓ、△８ｚＯｓなどのドープ
も可能である。
ハＳ ｉ Ｏｘ、ニＧ ｅ Ｏｘ、ＰｘＯ−１ＡＩ−ｔ
Ｃｈ、ＢｔＯｓ、Ｆなどをドープしたガラスであり、他
にもＴ ｉ Ｏ！、Ｔ ａｘｏｎｓ Ｓ ｎ Ｃｈｓ
Ｎ ｂ、＊ｏｓｓ Ｚ ｒ Ｏ２ｓ Ｙ ｂ＊Ｏｓｓ
Ｌ ａ２０ｓ１Ｇ ａｔｏｓ、△８ｚＯｓなどのドープ
も可能である。
つぎに本発明方法の具体例とその比較例について説明す
る。
る。
具体例
第１図に示すＶＡＤ法を実施するとき、ペルジャー１内
には０．３μｍのフィルタを通した酸素５０ｔ／−をガ
ス導入口３がら導入して直径５５＋ｍｎ１、長さ３００
ｍの多孔質母材１２を形成した。
には０．３μｍのフィルタを通した酸素５０ｔ／−をガ
ス導入口３がら導入して直径５５＋ｍｎ１、長さ３００
ｍの多孔質母材１２を形成した。
この除用いたバーナ４は中心から外周に向けて第１流路
、第２流路、第３流路、第４流路を有する４重管構造の
ものであり、これには下記のガスを供給した。
、第２流路、第３流路、第４流路を有する４重管構造の
ものであり、これには下記のガスを供給した。
第１流ＥＪｒ ： Ｓ ｉ Ｃｔ４＝ ２００ｃｃ／ｍ
、 Ｇｅ℃１４＝ ３０ＣＣ／１０ｘ ＝ ２５０ ｃ
（／ｍｔｎ 第２流路：Ｈ２二３． ＯＡ／価 第３流路： Ａ ｒ ＝ １． ＯＬ／１ｎｉｎ第４流
路： 、０２ ＝ ８． ＯＬ／８上記で得られた多孔
質母材１２を、Ｈｅ ： ＣＬ！：Ｏｘ” １００ ：
１ ： ５とした混合ガス流中、９００℃にて熱処理
し、その後、上記ガス流を０２のみとし、さらに温度を
上げ、１３００℃でＨｅ流に切り換えるとともに１４０
０℃にて多孔質母材１２を透明ガラス化した。
、 Ｇｅ℃１４＝ ３０ＣＣ／１０ｘ ＝ ２５０ ｃ
（／ｍｔｎ 第２流路：Ｈ２二３． ＯＡ／価 第３流路： Ａ ｒ ＝ １． ＯＬ／１ｎｉｎ第４流
路： 、０２ ＝ ８． ＯＬ／８上記で得られた多孔
質母材１２を、Ｈｅ ： ＣＬ！：Ｏｘ” １００ ：
１ ： ５とした混合ガス流中、９００℃にて熱処理
し、その後、上記ガス流を０２のみとし、さらに温度を
上げ、１３００℃でＨｅ流に切り換えるとともに１４０
０℃にて多孔質母材１２を透明ガラス化した。
上記透明ガラス化により得られた光フアイバ母材を徐冷
してと９出し、その外周に石英管をジャケラティングし
、これを紡糸することにより外径１２５μｍｚ１ ファ
直径５０μｍＢの光ファイバを得た。
してと９出し、その外周に石英管をジャケラティングし
、これを紡糸することにより外径１２５μｍｚ１ ファ
直径５０μｍＢの光ファイバを得た。
この光ファイバを水素雰囲気中に８時間さらし、波長１
．５５μｍにおける伝送特性を測定したところ、伝送ロ
ス増は１０ ｄＢ／Ｉｍ ｈ軽微であった。
．５５μｍにおける伝送特性を測定したところ、伝送ロ
ス増は１０ ｄＢ／Ｉｍ ｈ軽微であった。
へ 比較例
ペルジャー１内へ導入したガスを空気とした他は、具体
例と同一の条件で光ファイバをつくり、この光ファイバ
を具体例と同じく水素雰囲気中にさらして事後の伝送特
性を測定したところ、波長１．５５μｍにおける伝送ロ
ス増力約４０ｄＢ市にもなった。
例と同一の条件で光ファイバをつくり、この光ファイバ
を具体例と同じく水素雰囲気中にさらして事後の伝送特
性を測定したところ、波長１．５５μｍにおける伝送ロ
ス増力約４０ｄＢ市にもなった。
以上説明した通り、本発明方法により光フアイバ用ガラ
ス微粒子を堆積させた場合、水素対策を全うすることが
でき、その後の加工により得られる光ファイバは、水素
を含む劣悪な環境におかれても長期にわたって伝送ロス
増の少ない安定した特性を保持する。
ス微粒子を堆積させた場合、水素対策を全うすることが
でき、その後の加工により得られる光ファイバは、水素
を含む劣悪な環境におかれても長期にわたって伝送ロス
増の少ない安定した特性を保持する。
第１図、第２図は本発明におけるＶＡＤ法１０ＶＤ法の
説明図である。 １・・・・・酸化性雰囲気を囲うペルジャー４・・・・
・ガラス微粒子をつくるバーナ１２・・・・・多孔質母
材 ２１・・・・・酸化性雰囲気を囲う容器２４・す０ガラ
ス微粒子をつくるバーチ２７・・・・・多孔質母材 手続補正書（方式） １、事件の表示 特願昭５８−１７０１８７２、発明の
名称 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法３、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 ４、後代 理 人 〒１００ ６ 補正の対象 委任状、明細書全文及び図面 ７、補正の内容 別紙の通シ委任状、タイプ浄書した明細書全文（内容に
変更なし）及びトレースした図面（内容に変更なし）を
提出します。
説明図である。 １・・・・・酸化性雰囲気を囲うペルジャー４・・・・
・ガラス微粒子をつくるバーナ１２・・・・・多孔質母
材 ２１・・・・・酸化性雰囲気を囲う容器２４・す０ガラ
ス微粒子をつくるバーチ２７・・・・・多孔質母材 手続補正書（方式） １、事件の表示 特願昭５８−１７０１８７２、発明の
名称 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法３、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 古河電気工業株式会社 ４、後代 理 人 〒１００ ６ 補正の対象 委任状、明細書全文及び図面 ７、補正の内容 別紙の通シ委任状、タイプ浄書した明細書全文（内容に
変更なし）及びトレースした図面（内容に変更なし）を
提出します。
Claims (1)
- ガラス原料を火炎中に導いて化学反応させ、これにより
生成された光フアイバ用ガラス微粒子を堆積させて多孔
質母材を形成する堆積系において、その堆積系を酸化性
雰囲気に保持して上記ガラス微粒子を堆積させる光フア
イバ用ガラス微粒子の堆積方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17018783A JPS6060939A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17018783A JPS6060939A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6060939A true JPS6060939A (ja) | 1985-04-08 |
Family
ID=15900292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17018783A Pending JPS6060939A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6060939A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654245A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Preparation of low-oh optical fiber matrix |
-
1983
- 1983-09-14 JP JP17018783A patent/JPS6060939A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654245A (en) * | 1979-10-12 | 1981-05-14 | Hitachi Ltd | Preparation of low-oh optical fiber matrix |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4225330A (en) | Process for producing glass member | |
| KR900008503B1 (ko) | 광파이버용 유리모재의 제조법 | |
| US4082420A (en) | An optical transmission fiber containing fluorine | |
| JPH0196039A (ja) | 光フアイバ用母材の製造方法 | |
| US4161505A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
| US4295869A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
| CA1338203C (en) | Method for producing glass preform for optical fiber | |
| US6189340B1 (en) | Process for forming a titania-containing preform silica glass blank | |
| US4165152A (en) | Process for producing optical transmission fiber | |
| EP2551248A2 (en) | Methods for manufacturing low water peak optical waveguide | |
| CN101066834B (zh) | 一种光纤预制棒的制备方法 | |
| CN1472150A (zh) | 一种制备光纤预制棒的方法 | |
| WO2020177352A1 (zh) | 一种基于连熔石英套管的光纤预制棒及其制造方法 | |
| JP2612871B2 (ja) | グレーデットインデスク型光ファイバープリフォームの製造方法 | |
| JPS6060939A (ja) | 光フアイバ用ガラス微粒子の堆積方法 | |
| JPS6289B2 (ja) | ||
| JPH0559052B2 (ja) | ||
| JP2898705B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| CN1458099A (zh) | 低水峰光纤预制件的制造方法 | |
| JPH01111747A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS6243934B2 (ja) | ||
| JPS63242938A (ja) | 光フアイバ用多孔質母材の保管方法 | |
| JPS591218B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS63315531A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPH04342427A (ja) | 高ｏｈ基含有石英ガラスの製造方法 |