JPH0583500B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0583500B2 JPH0583500B2 JP60233194A JP23319485A JPH0583500B2 JP H0583500 B2 JPH0583500 B2 JP H0583500B2 JP 60233194 A JP60233194 A JP 60233194A JP 23319485 A JP23319485 A JP 23319485A JP H0583500 B2 JPH0583500 B2 JP H0583500B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- core
- glass layer
- glass rod
- transparent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 60
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 18
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 13
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 8
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
- C03B2207/54—Multiple burner arrangements combined with means for heating the deposit, e.g. non-deposition burner
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/70—Control measures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、所望のコア・クラツド比を有する光
フアイバ母材の製造方法に関するものである。
フアイバ母材の製造方法に関するものである。
（従来の技術）
SiO2，GeO2等を主成分とするコア用ガラス棒
またはコア・クラツド構造を有するガラス棒か
ら、所望のコア・クラツド比を有する光フアイバ
母材を得る場合、従来 (1) 石英ガラス管によるジヤケツト方式、 (2) 外付け法によるガラス層の形成方式、 (3) 直接ガラス化法によるガラス層の形成方式、
の３種類が採用されていた。すなわち、(1)の方
式では、所望のコア・クラツド比を実現するの
に適した内径、外形、肉厚の石英ガラス管を用
意し、この中に該ガラス棒を封入して光フアイ
バ母材を得るものであり、ロツドインチユーブ
法とも呼ばれる方法である。しかしながらこの
(1)の方式では、所定の内径、外形、肉厚等の寸
法を有する石英ガラス管を用意するのが難し
く、従つて所望のコア・クラツド比に対して
「バラツキ」の少ない高寸法精度の光フアイバ
母材を得るのが難しかつた。またこの場合、石
英管内の不純物、表面の「キズ」等のため、機
械的強度の高い光フアイバ母材を再現性良く得
るのが難しかつた。
またはコア・クラツド構造を有するガラス棒か
ら、所望のコア・クラツド比を有する光フアイバ
母材を得る場合、従来 (1) 石英ガラス管によるジヤケツト方式、 (2) 外付け法によるガラス層の形成方式、 (3) 直接ガラス化法によるガラス層の形成方式、
の３種類が採用されていた。すなわち、(1)の方
式では、所望のコア・クラツド比を実現するの
に適した内径、外形、肉厚の石英ガラス管を用
意し、この中に該ガラス棒を封入して光フアイ
バ母材を得るものであり、ロツドインチユーブ
法とも呼ばれる方法である。しかしながらこの
(1)の方式では、所定の内径、外形、肉厚等の寸
法を有する石英ガラス管を用意するのが難し
く、従つて所望のコア・クラツド比に対して
「バラツキ」の少ない高寸法精度の光フアイバ
母材を得るのが難しかつた。またこの場合、石
英管内の不純物、表面の「キズ」等のため、機
械的強度の高い光フアイバ母材を再現性良く得
るのが難しかつた。
また(2)の方式では、該ガラス棒の側面にガラス
微粒子層を形成した後、電気炉内で高温に加熱
し、透明なガラス層とするものである。しかしな
がらこの(2)の方式では、多孔質ガラス層を形成し
た後に電気炉内で透明ガラス化するため、工程数
が多くなるという問題点があるほか、ガラス微粒
子の堆積時に、最終的に形成される透明なガラス
層の寸法を精度良く測定できないので、所望の寸
法を得るのに、再度ガラス微粒子層の堆積と電気
炉内での透明ガラス化の工程をくり返す必要があ
る。このため所望のコア・クラツド比を精度良く
実現するのが難しいという問題点があつた。また
工程数が多くなるので、光フアイバ母材の製造価
格が高くなり易いという問題点もあつた。
微粒子層を形成した後、電気炉内で高温に加熱
し、透明なガラス層とするものである。しかしな
がらこの(2)の方式では、多孔質ガラス層を形成し
た後に電気炉内で透明ガラス化するため、工程数
が多くなるという問題点があるほか、ガラス微粒
子の堆積時に、最終的に形成される透明なガラス
層の寸法を精度良く測定できないので、所望の寸
法を得るのに、再度ガラス微粒子層の堆積と電気
炉内での透明ガラス化の工程をくり返す必要があ
る。このため所望のコア・クラツド比を精度良く
実現するのが難しいという問題点があつた。また
工程数が多くなるので、光フアイバ母材の製造価
格が高くなり易いという問題点もあつた。
(3)の方式では、ガラス棒の側面に火炎またはプ
ラズマ炎を熱源として直接透明なガラス層を形成
するものであるが、この方式の場合、ガラス層の
形成速度が遅く、またガラス層の形成温度が高く
なり、母材が変形する等の問題点があつた。
ラズマ炎を熱源として直接透明なガラス層を形成
するものであるが、この方式の場合、ガラス層の
形成速度が遅く、またガラス層の形成温度が高く
なり、母材が変形する等の問題点があつた。
特に単一モードフアイバ用の母材を製造する場
合、コア・クラツド比を１／15程度にする必要が
あり、厚いクラツドを寸法精度良く形成すること
が、従来技術では難しいという問題点があつた。
合、コア・クラツド比を１／15程度にする必要が
あり、厚いクラツドを寸法精度良く形成すること
が、従来技術では難しいという問題点があつた。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、前述の問題点を解決し、所望のコ
ア・クラツド比を再現性良く、高寸法精度で、か
つ簡便に形成するための光フアイバ母材の製造方
法を提供することにある。
ア・クラツド比を再現性良く、高寸法精度で、か
つ簡便に形成するための光フアイバ母材の製造方
法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、回転するコア用ガラス棒またはコ
ア・クラツド構造を有するガラス棒の側面に、移
動する第１合成トーチ１（合成トーチ１）によつ
て多孔質ガラス層を形成した後、該合成トーチ１
に追従して移動する第２合成トーチ２（合成トー
チ２）によつて高温に加熱焼結して透明なガラス
層とする。
ア・クラツド構造を有するガラス棒の側面に、移
動する第１合成トーチ１（合成トーチ１）によつ
て多孔質ガラス層を形成した後、該合成トーチ１
に追従して移動する第２合成トーチ２（合成トー
チ２）によつて高温に加熱焼結して透明なガラス
層とする。
本発明は、第２合成トーチ２により透明ガラス
化した後、直ちに該ガラス棒の直径を測定できる
ので、所望のコア・クラツド比を精度良く形成で
きる点で、従来の技術とは大きな差異がある。
化した後、直ちに該ガラス棒の直径を測定できる
ので、所望のコア・クラツド比を精度良く形成で
きる点で、従来の技術とは大きな差異がある。
（実施例）
本発明の製造方法を示す実施例を図面を参照し
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
第１図は本発明の製造方法に用いられる装置の
一実施例の構成を示し、１は回転および支持器、
２はコア用またはコア・クラツド構造を有するガ
ラス棒、３は多孔質ガラス層、４は合成トーチ
１，５は合成トーチ２，６は透明ガラス層、７は
多孔質ガラス層形成用火炎流、８は透明ガラス化
用火炎流、９は直径測定器、１０はガラス原料お
よび火炎用ガスの供給装置、１１は保護容器、１
２は信号線、１３は比較器である。
一実施例の構成を示し、１は回転および支持器、
２はコア用またはコア・クラツド構造を有するガ
ラス棒、３は多孔質ガラス層、４は合成トーチ
１，５は合成トーチ２，６は透明ガラス層、７は
多孔質ガラス層形成用火炎流、８は透明ガラス化
用火炎流、９は直径測定器、１０はガラス原料お
よび火炎用ガスの供給装置、１１は保護容器、１
２は信号線、１３は比較器である。
以下、第１図に示す装置を用いる本発明の製造
方法の動作を説明する。まず回転および支持器１
によつて回転を与えられたガラス棒２の側面に、
移動する合成トーチ１から流出するガラス微粒子
を含む火炎流７によつて多孔質ガラス層３を形成
する。つづいて合成トーチ１に追従して移動する
合成トーチ２によつて、該多孔質ガラス層を1500
℃〜1600℃（SiO2のみの場合）に加熱・焼結し
て透明なガラス層６を得る。合成トーチ１および
合成トーチ２には、供給装置１０から火炎用の
O2，H2，Ar，He等のガスおよびSiCl4等のガラ
ス原料ガスを供給する。
方法の動作を説明する。まず回転および支持器１
によつて回転を与えられたガラス棒２の側面に、
移動する合成トーチ１から流出するガラス微粒子
を含む火炎流７によつて多孔質ガラス層３を形成
する。つづいて合成トーチ１に追従して移動する
合成トーチ２によつて、該多孔質ガラス層を1500
℃〜1600℃（SiO2のみの場合）に加熱・焼結し
て透明なガラス層６を得る。合成トーチ１および
合成トーチ２には、供給装置１０から火炎用の
O2，H2，Ar，He等のガスおよびSiCl4等のガラ
ス原料ガスを供給する。
形成した透明ガラス層の直径（外径）は、レー
ザビームを使用した直径測定器９により測定し、
比較器１３により所定の直径値と比較する。この
比較結果を基にガラス原料供給量を調整制御し
て、所定の直径寸法を実現する。もし１回の堆積
で所定の直径が得られない場合には、ガラス原料
供給量を調整制御した上で２回目の堆積を行い所
定の寸法を精度良く実現する。
ザビームを使用した直径測定器９により測定し、
比較器１３により所定の直径値と比較する。この
比較結果を基にガラス原料供給量を調整制御し
て、所定の直径寸法を実現する。もし１回の堆積
で所定の直径が得られない場合には、ガラス原料
供給量を調整制御した上で２回目の堆積を行い所
定の寸法を精度良く実現する。
実施例 １
そこで第１図に示すように装置設定して、第２
図に示すようにコア１４とクラツド１５の直径比
（D1／D2）が１／10で、コアがSiO2−GeO2ガラ
ス、クラツドがSiO2ガラスからなるガラス棒２
を使用し、該ガラス棒の側面に透明ガラス層を形
成した。
図に示すようにコア１４とクラツド１５の直径比
（D1／D2）が１／10で、コアがSiO2−GeO2ガラ
ス、クラツドがSiO2ガラスからなるガラス棒２
を使用し、該ガラス棒の側面に透明ガラス層を形
成した。
すなわち合成トーチ１には、供給装置１０から
SiCl4ガスを毎分１リツトル、O2ガスを30リツト
ル、H2ガスを毎分30リツトル、Arガスを５リツ
トル、それぞれ供給して、多孔質ガラス層３を形
成し、つづいて合成トーチ２にO2ガスを毎分50
リツトル、H2ガスを毎分50リツトルそれぞれ供
給して、該多孔質ガラス層を透明ガラス化し、透
明ガラス層６を得た。なお、ガラス棒２は10rpm
で回転した。透明ガラス化後の直径D3を測定器
９で測定したところ、D1／D3が1/14.9の寸法で
あり、設定値（1/15.0）が良く一致した。
SiCl4ガスを毎分１リツトル、O2ガスを30リツト
ル、H2ガスを毎分30リツトル、Arガスを５リツ
トル、それぞれ供給して、多孔質ガラス層３を形
成し、つづいて合成トーチ２にO2ガスを毎分50
リツトル、H2ガスを毎分50リツトルそれぞれ供
給して、該多孔質ガラス層を透明ガラス化し、透
明ガラス層６を得た。なお、ガラス棒２は10rpm
で回転した。透明ガラス化後の直径D3を測定器
９で測定したところ、D1／D3が1/14.9の寸法で
あり、設定値（1/15.0）が良く一致した。
実施例 ２
前記実施例１において、合成トーチ１に供給す
るSiCl4が毎分１リツトルよりわずかに少なくす
ると、透明ガラス化した後の直径D3が小さく、
D1／D3＝1/14.0となつた。そこで、この測定結
果を基に合成トーチ１への供給量を設定し、２回
目の堆積でD1／D3＝1/15を精度良く達成した。
るSiCl4が毎分１リツトルよりわずかに少なくす
ると、透明ガラス化した後の直径D3が小さく、
D1／D3＝1/14.0となつた。そこで、この測定結
果を基に合成トーチ１への供給量を設定し、２回
目の堆積でD1／D3＝1/15を精度良く達成した。
実施例 ３
前記実施例１において、ガラス層の堆積の開始
当初、合成トーチ１に供給するSiCl4の量が少な
く、直径測定器９による直径D3の測定値が設定
値（1/15）よりわずかに小さかつた。そこで、第
１回目の堆積中に比較器１３により信号線１２を
通じて、供給装置１０による原料供給量を調整制
御し、直径D3が設定値を満足するようにした。
該測定器９による測定精度は、±10μm程度であ
り、十分高精度であつた。
当初、合成トーチ１に供給するSiCl4の量が少な
く、直径測定器９による直径D3の測定値が設定
値（1/15）よりわずかに小さかつた。そこで、第
１回目の堆積中に比較器１３により信号線１２を
通じて、供給装置１０による原料供給量を調整制
御し、直径D3が設定値を満足するようにした。
該測定器９による測定精度は、±10μm程度であ
り、十分高精度であつた。
実施例 ４
実施例１〜３によつて製造したフアイバ母材を
線引きして得た単一モード光フアイバのコア・ク
ラツド比は１／15であり、125μm±0.5μmのフア
イバ外径に対して、コアの直径は8.3μm±0.5μm
の範囲であつた。
線引きして得た単一モード光フアイバのコア・ク
ラツド比は１／15であり、125μm±0.5μmのフア
イバ外径に対して、コアの直径は8.3μm±0.5μm
の範囲であつた。
実施例 ５
コア・クラツド構造を有するガラス棒中のコ
ア・クラツド比（D1／D2）がガラス棒の長手方
向に変化している場合、コア径D1を直接測定し、
このD1の測定値を基にガラス原料供給量を調整
制御し、最終的に得られる母材が、母材の長手方
向に対して、D1／D3の比が一定になるように透
明ガラス層を形成できた。
ア・クラツド比（D1／D2）がガラス棒の長手方
向に変化している場合、コア径D1を直接測定し、
このD1の測定値を基にガラス原料供給量を調整
制御し、最終的に得られる母材が、母材の長手方
向に対して、D1／D3の比が一定になるように透
明ガラス層を形成できた。
実施例 ６
前記実施例では合成トーチ１および２として
O2−H2炎を用いたが、合成トーチ１および２の
いずれか一方または双方をプラズマ炎で置き換え
ることは可能である。
O2−H2炎を用いたが、合成トーチ１および２の
いずれか一方または双方をプラズマ炎で置き換え
ることは可能である。
また、ガラス棒の素材としては、SiO2，GeO2，
Ｆ等を含み、かつ様々なコア・クラツド構造を有
するガラス棒素材が使用できる。
Ｆ等を含み、かつ様々なコア・クラツド構造を有
するガラス棒素材が使用できる。
また、前記実施例ではSiO2のみからなる透明
ガラス層を形成したが、SiO2中にTiO2，ZrO2，
Ｎ等を含むガラスを合成することも可能であり、
特にTiO2−SiO2を堆積した場合には、機械強度
が向上するという効果が生じる。
ガラス層を形成したが、SiO2中にTiO2，ZrO2，
Ｎ等を含むガラスを合成することも可能であり、
特にTiO2−SiO2を堆積した場合には、機械強度
が向上するという効果が生じる。
また、合成トーチ２による透明ガラス化を促進
するため、火炎内にHeガスを混入することも有
効である。
するため、火炎内にHeガスを混入することも有
効である。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明では、多孔質ガラ
ス層を形成した後、これに追随して、透明ガラス
化し、透明ガラス層を形成するので、工程が簡便
で、かつ高速度で品質の良いガラス層を形成でき
る利点がある。また透明ガラス化した後、直ちに
直径の測定を行い、この結果と設定値を比較し
て、原料供給量を調整制御することにより、寸法
精度の良い光フアイバ母材を得ることができる利
点がある。
ス層を形成した後、これに追随して、透明ガラス
化し、透明ガラス層を形成するので、工程が簡便
で、かつ高速度で品質の良いガラス層を形成でき
る利点がある。また透明ガラス化した後、直ちに
直径の測定を行い、この結果と設定値を比較し
て、原料供給量を調整制御することにより、寸法
精度の良い光フアイバ母材を得ることができる利
点がある。
さらに本発明では、装置設定が簡便で、工程数
が少ないので、光フアイバ母材の製造価格を低下
できる利点がある。
が少ないので、光フアイバ母材の製造価格を低下
できる利点がある。
第１図は本発明の製造方法に用いる装置の一実
施例の構成図を示し、第２図は光フアイバ母材の
構造の一例を示す断面図である。 １……回転および支持器、２……コア用または
コア・クラツド構造を有するガラス棒、３……多
孔質ガラス層、４……合成トーチ１、５……合成
トーチ２、６……透明ガラス層、７……多孔質ガ
ラス層形成用火炎流、８……透明ガラス化用火炎
流、９……直径測定器、１０……ガラス原料およ
び火炎用ガスの供給装置、１１……保護容器、１
２……信号線、１３……比較器、１４……コア、
１５……クラツド。
施例の構成図を示し、第２図は光フアイバ母材の
構造の一例を示す断面図である。 １……回転および支持器、２……コア用または
コア・クラツド構造を有するガラス棒、３……多
孔質ガラス層、４……合成トーチ１、５……合成
トーチ２、６……透明ガラス層、７……多孔質ガ
ラス層形成用火炎流、８……透明ガラス化用火炎
流、９……直径測定器、１０……ガラス原料およ
び火炎用ガスの供給装置、１１……保護容器、１
２……信号線、１３……比較器、１４……コア、
１５……クラツド。
Claims (1)
- １ 回転するコア用ガラス棒またはコア・クラツ
ド構造を有するガラス棒の側面に、移動する第１
合成トーチによつてガラス微粒子を堆積して多孔
質ガラス層を形成した後、第１合成トーチに追従
して移動する第２合成トーチによつて該多孔質ガ
ラス層を高温に加熱して透明ガラス化したガラス
棒を形成し、透明ガラス化後直ちに該ガラス棒の
外径を測定し、測定した該ガラス棒の外径と所定
の外径値とを比較し、比較結果を基にガラス原料
供給量を調整制御し、上記の操作によつて所望の
光フアイバ母材が得られない場合には、上記の操
作を繰り返すことを特徴とする光フアイバ母材の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23319485A JPS6296336A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23319485A JPS6296336A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6296336A JPS6296336A (ja) | 1987-05-02 |
| JPH0583500B2 true JPH0583500B2 (ja) | 1993-11-26 |
Family
ID=16951219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23319485A Granted JPS6296336A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6296336A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5116400A (en) * | 1990-09-20 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Apparatus for forming a porous glass preform |
| US5211732A (en) * | 1990-09-20 | 1993-05-18 | Corning Incorporated | Method for forming a porous glass preform |
| JPH05221680A (ja) * | 1992-02-07 | 1993-08-31 | Fujikura Ltd | 光ファイバ用母材の製造方法 |
| FR2728888B1 (fr) * | 1994-12-29 | 1997-01-31 | Alcatel Cable | Procede d'obtention de preforme de fibre optique employant la recharge plasma |
| KR100508707B1 (ko) * | 2002-08-12 | 2005-08-17 | 엘에스전선 주식회사 | 외부 기상증착에 의한 프리폼 제조방법 및 제조장치 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542653A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-10 | Toshiba Corp | Exposing device for color picture tube |
| JPS5520260A (en) * | 1978-08-01 | 1980-02-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Continuously producing apparatus for optical fiber base material |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23319485A patent/JPS6296336A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS542653A (en) * | 1977-06-08 | 1979-01-10 | Toshiba Corp | Exposing device for color picture tube |
| JPS5520260A (en) * | 1978-08-01 | 1980-02-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Continuously producing apparatus for optical fiber base material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6296336A (ja) | 1987-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5927728B2 (ja) | 煤状ガラスロッドの製造方法 | |
| JPH10158025A (ja) | 光ファイバプリフォームの製造方法 | |
| US4388094A (en) | Method and apparatus for producing tubular glass article | |
| JPH0583500B2 (ja) | ||
| JPH0761831A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| EP0024412A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBERS. | |
| JPS6136134A (ja) | 応力付与形偏波保持光フアイバ用母材の作製方法及び装置 | |
| US4341541A (en) | Process for the production of optical fiber | |
| JP3635906B2 (ja) | 光ファイバ母材製造方法 | |
| JPH07242435A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS59141436A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法 | |
| JPS63285130A (ja) | 光ファイバ母材の製造装置 | |
| JPH0579614B2 (ja) | ||
| JPH0146459B2 (ja) | ||
| JPS62187133A (ja) | 光フアイバ母材の製造方法及び製造装置 | |
| JPH0460930B2 (ja) | ||
| JPS60264336A (ja) | 光学系ガラス母材の製造方法 | |
| JPS61201638A (ja) | 高純度ガラス体の製造方法 | |
| JPH09169534A (ja) | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 | |
| JP2517095B2 (ja) | 光ファイバ―プリフォ―ムの製造方法 | |
| JPS5948771B2 (ja) | 光フアイバの製造方法 | |
| JPH0986948A (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPH0692667A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JP3687625B2 (ja) | ガラス母材の製造方法 | |
| JP3169503B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |