JP4462576B2 - ポジティブフォトレジスト組成物 - Google Patents
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Description
従って、本発明が解決しようとする技術的課題は、上記問題点を解決するために案出されたものであって、耐熱性に優れているだけでなく、UV透過率、残膜率、パターンの安全性及び耐化学性などの基本物性が良好であり、液晶表示素子の有機絶縁膜、メタルパターニング、バンプ、ホール加工及びUVオーバーコートなどの製造に有用に用いられ得る、水系の現像液で現像可能なポジティブフォトレジスト組成物を提供することにある。
上記技術的課題を解決するために本発明によるポジティブフォトレジスト組成物は、下記化式1で表される樹脂、下記化式2で表される樹脂及びこれらの混合物からなる群より選択された何れか一つのバインダー樹脂3ないし50重量%、感光剤2ないし40重量%及び有機溶媒10ないし94重量%を含有する。
紫外線遮断膜と撹拌機が設けられている反応混合槽に、下記表1及び表2に記載された組成に従って、バインダー樹脂、溶媒、感光剤、接着補助剤、レベリング剤を順次添加した後、常温で撹拌して粘度が約20cpsであるポジティブ型フォトレジスト組成物を製造した。
バインダー樹脂:20重量%
溶媒:残量
感光剤:8重量%
接着補助剤:0.1重量%
レベリング剤(3M社のFC‐430):0.3重量%
上記実施例1のバインダー樹脂の代わりに下記化式3で表されるバインダー樹脂を表3に記載された組成に従って用いたことを除いては、同様の含量と方法でポジティブフォトレジスト組成物を製造した。
ポジティブフォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて800rpmの速度で8秒間塗布した後、100℃で1分間プリべーク(prebake)し、435nmで15秒間露光した後、240℃で30分間ポストべーク(postbake)を施しフォトレジスト膜を形成させ、これをオートクレーブ(Autoclave)に入れ100℃で1時間熟成させた。オートクレーブで熟成された試片をクロスハッチカッター(Cross Hatch Cutter)で基板が露出するようにスクラッチ(Scratch)した後、接着テープで付着してから脱着した。100セルのうち80セルがテープに付いて基板から脱着されなければ「良好」、そうではなかった場合を「不良」と判断した。
ポジティブフォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて800rpmの速度で8秒間塗布した後、100℃で1分間プリべークし、TMAH2.38%溶液で60秒間スプレー(spray)現像した後、純水(DI Water)で60秒間リンス後、圧縮空気で吹き入れ、435nm用露光機で5分間フォトブリーチング(Photo bleaching)した後、240℃で30分間ポストべークを施し約3.5ないし4.0マイクロメーター(μm)のフォトレジスト膜を形成させた。UVは、UV‐vis測定装備を用いて400nm領域の透過率を測定した。
ポジティブフォトレジスト組成物を基板上にスピンコートし、200℃で30分間プリべークした後の膜の厚さと、240℃で30分間ポストべークした後の膜の厚さとの割合(%)を測定した。
ポジティブフォトレジストパターンを形成したシリコンウエハーをホール(Hole)パターンの垂直方向から切断し、パターンの断面方向から電子顕微鏡で観察した結果を示した。パターンの側壁が基板に対して55度以上の角度で立たれており、膜が減らなかったものを「良好」とし、膜の減少が認められたものを「膜減」と判定した。
ポジティブフォトレジスト組成物を基板上にスピンコーターを用いて塗布した後、プリべーク及びポストべークなどの工程を経て形成されたフォトレジスト膜をストリッパー(Stripper)、エッチャント(Etchant)溶液に40℃で10分間浸した後、フォトレジスト膜の透過率及び厚さの変化があるか否かを観察した。透過率及び厚さの変化がないときに「良好」とし、透過率及び厚さの変化があれば「不良」と判定した。
本明細書に記載された実施例に記載された構成は本発明の最も望ましい一実施例に過ぎず、本発明の技術的思想を全て代弁するものではないため、本出願時点においてこれらに代替できる多様な均等物と変更例があり得ることを理解すべきである。
Claims (6)
- 下記化式1で表される樹脂、下記化式2で表される樹脂及びこれらの混合物からなる群より選択された何れか一つのバインダー樹脂3ないし50重量%、感光剤2ないし40重量%及び有機溶媒10ないし94重量%を含有することを特徴とするポジティブフォトレジスト組成物;
- 上記化式1で表されるバインダー樹脂の平均分子量が2,000ないし300,000であり、分散度は1.0ないし10.0であることを特徴とする請求項1に記載のポジティブフォトレジスト組成物。
- 上記有機溶媒は、エチルアセテート、ブチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエチルエーテル、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート(EEP)、エチルラクテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールメチルアセテート、ジエチレングリコールエチルアセテート、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N‐ジメチルアセトアミド(DMAc)、N‐メチル‐2‐ピロリドン(NMP)、γ‐ブチロラクトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジグリム(Diglyme)、テトラヒドロフラン(THF)、メタノール、エタノール、プロパノール、イソ‐プロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン及びオクタンからなる群より選択された何れか一つ以上を含むことを特徴とする請求項1に記載のポジティブフォトレジスト組成物。
- 上記感光剤は、ヒドロキシ基が1ないし6であるバラストに、ナフトキノン‐1,2‐ジアジド‐5‐スルホン酸エステルまたはナフトキノン‐1,2‐ジアジド‐4‐スルホン酸エステル基が置換された構造の感光剤であることを特徴とする請求項1に記載のポジティブフォトレジスト組成物。
- エポキシ基またはアミン基を含むシリコン系化合物0.0001ないし3重量%をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のポジティブフォトレジスト組成物。
- 上記エポキシ基またはアミン基を含むシリコン系化合物は、(3‐グリシドキシプロピル)トリメトキシシラン、(3‐グリシドキシプロピル)トリエトキシシラン、(3‐グリシドキシプロピル)メチルジメトキシシラン、(3‐グリシドキシプロピル)メチルジエトキシシラン、(3‐グリシドキシプロピル)ジメチルメトキシシラン、(3‐グリシドキシプロピル)ジメチルエトキシシラン、3,4‐エポキシブチルトリメトキシシラン、3,4‐エポキシブチルトリエトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2‐(3,4‐エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン及びアミノプロピルトリメトキシシランからなる群より選択された何れか一つ以上を含むことを特徴とする請求項5に記載のポジティブフォトレジスト組成物。
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Cited By (2)
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