JPH02146045A - フォトレジスト組成物 - Google Patents

フォトレジスト組成物

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JPH02146045A
JPH02146045A JP1036221A JP3622189A JPH02146045A JP H02146045 A JPH02146045 A JP H02146045A JP 1036221 A JP1036221 A JP 1036221A JP 3622189 A JP3622189 A JP 3622189A JP H02146045 A JPH02146045 A JP H02146045A
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JP
Japan
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photoresist composition
general formula
alkali
maleic anhydride
composition according
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Pending
Application number
JP1036221A
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English (en)
Inventor
Takashi Yamamoto
隆 山本
Masaaki Toyuka
正明 戸床
Keiko Nagaoka
長岡　經子
Kouzaburou Matsumura
松村　光三良
Toru Kiyota
徹 清田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、フォトレジスト組成物、詳しくは環状脂肪族
炭化水素骨格からなる単位と、無水マレイン酸に由来す
る単位および／またはマレイミドを基材とする単位とを
Ｈするアルカリ可溶性樹脂をベース樹１落として用いる
、深紫外線もしくはエキシマレーザーリリソグラフィー
に適したフ第１・レジスト組成物に関するものである。
これらの組成物は、とりわけ半導体素子製造分野におけ
る微細加工用のレジス！・とじて用いられる。
［従来の技術］ ＬＳＩやＶＬＳＩ等の半導体素子は、性能の向上を目的
として、年々その加工度が微細化する傾向にある。現在
、これら半導体素子を製造するための微細加工技術とし
てはｇ線（４３６ｎｒｎ）を光源とするリソグラフィー
が広く用いられているが、これらリソグラフィーにおい
ても素子の微細化にλ・Ｉ応すべく、高解１象力化を進
める努力が続けられている。これら、高解像力化を進め
る技術としては、主として露光装置における縮小投影レ
ンズの高ＮＡ（ヌーメリ力ルアバーチャ）化と、ｇ線か
ら１線（３６５ｎｍ）への露光光源の短波長化があるが
、このうちレンズの高ＮＡ化については既に限界が近づ
いており、将来的には露光光１１＋［の短波長化をより
押し進めることによって、リソグラフィー技術の高解像
力化を達成せざるを得ない状況が生じてきている。この
ような背景にもとづきレジストにおいても深紫外線もし
くはエキシマレーザ−といった短波長光源に対応してゆ
く必要がある。次にこれら短波長光を用いるリソグラフ
ィーに対する適応性と問題点について述べる。
レジストは通當、ベース樹脂と感光剤および溶剤とから
なる組成物である。このうちベース樹脂は、高解像性を
要求されるレジストにおいては、現像時の膨潤の問題か
らポジ型もネガ型もアルカリ水溶液で現像できるアルカ
リ可溶樹脂が一般に広く用いられるようになってきてい
る。これらアルカリ可溶性樹脂としては、例えばノボラ
ック樹脂やポリビニルフェノールといったフェノール樹
脂が現在の主流である。しかしながら、これらフェノー
ル樹脂はｇ線やｉ線の波長領域では比較的透明であるも
のの、深紫外線やエキシマレーザ−の領域では芳香族環
をａする１ａｓｔ造であるため、その透明性が極めて悪
くなる傾向にある。そのため、フェノール樹脂をベース
樹脂として用いる従来のフォトレジスｌ−ｉｌｌｌｌ合
物波長光線を光源とするリソグラフィーに用いた場合、
レジストの上方から進入してきた光がレジスト膜の底部
まで到達するすることができないため、レジスト反応が
レジスト膜の垂直方向に対して均一に行われない状況が
発生する。その結果、ポジ型レジストでは現像が不十う
）になったり、強化現像になり台形型のレジス！・形状
になってしまい、一方、ネガ型レジストにおいては現像
後のパターンが逆台形になってしまう。このようにレジ
ストの壁が垂直でない場合、レジストの一部を浸蝕する
後続の工程（たとえば反応性イオンエツチング）によっ
て構造の幅が変化し、製造される回路に不利な影響を与
える１１Ｊ能性がある。また、いずれのタイプのレジス
トにおいても光をレジスト膜の底部まで到達させるため
には、より多くの露光量が必要となり、その結果レジス
トの感度においても必ずしも満足するものではなかった
。
［課題を航法するための手段］ 本発明者らは、このような事情に鑑み鋭意検討を重ねた
結果、環状脂肪族炭素骨格からなる単位と無水マレイン
酸に由来する単位および／またはマレイミドを基材とす
る単位とを有する樹脂が、アルカリ可溶性と、深紫外線
あるいはエキシマレーザ−等の短波長光に対する透明性
とを兼ね備え、該樹脂と感光剤とを含む組成物が前記目
的を達成するフォトレジスト組成物となることを見出だ
し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、環式炭化水素骨格からなる単位と、
無水マレイン酸に由来する単位および／またはマレイミ
ドを基材とする単位とを有するアルカリ可溶性樹脂と、
活性光線の照射によって、上記樹脂のアルカリ可溶性を
促進もしくは阻害させ、露光部と未露光部とのあいだに
大いなる溶解度差を生じさせ、続くアリカリ水溶液現１
象によりポジあるいはネガ型の画像を形成するのに十分
な量の感光剤とを含む、フォトレジスト組成物を提供す
るものである。
このフォトレジスト組成物は、１つ以上の不飽和二車結
合を白゛する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との
共重合体、該共重合体の酸無水環変成体、および前記環
状脂肪族炭化水素とマレイミドとのＲ重合体のうちから
選ばれた樹脂と、感光剤として例えばナフ！・キノン−
１２−ジアジドスルホン酸エステル系ポジ型感光剤もし
くはビスアジド系ネガ型感光剤とを含む組成物であるこ
とが望ましい。
以上に本発明のフォトレジスト組成物について詳しく説
明する。
本発明のフォトレジスト組成物において用いられる環状
脂肪族炭素骨格からなる単位と無水マレイン酸に由来す
る単位および／またはマレイミドを入（（イとする単位
とを（−ｆするアルカリ可溶樹脂は一つ以上の不飽和二
重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸も
しくはマレイミドとの共重合体、あるいは上記環状脂肪
族炭化水素と無水マレイン酸との］（重合体の無水マレ
イン酸構成小位の酸無水環を加水分解もしくはヒドロキ
シル基を有する化合物またはアミノ基を有する化合物で
開ｆ）させた樹脂、もしくは上記環状脂肪族炭化水素と
無水マレイン酸との共重合体の無水マレイン酸構成中位
の酸無水環をアミノ基を有する化合物で開環した後、そ
の開環により形成されたマレアミック酸構成単位の一部
もしくは全部をイミド閉口させて得られる樹脂である。
まず最初に上記環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸も
しくはマレイミドとの共重合体について説明する。
該樹脂を合成するために用いられる一つ以上の不飽和二
重結合を有する環状脂肪族炭化水素は、前記一般式（１
）ないしく８）で表される化合物である。
一般式（１） （式中Ｒ１〜Ｒ４は水素もしくは炭素数１〜３のアルキ
ル基であって、各々同一または異なっていても良い。） 一般式（２） （式中Ｒ”−’−Ｒ１７は水素もしくは炭素数１〜３の
アルキル基であって、各々同一または異なっていても良
い。） 一般式（４） （式中Ｒ５〜ＲＩＧは水素もしくは炭素数１〜３のアル
キル基であって、各々同一または異なっていても良い。
） 一般式（３） （式中ＲＩ８〜Ｒ”は水素もしくは炭素数１〜３のアル
キル基であって、各々同一または異なっていても良い。
） 一般式（５） （式中Ｒ２２〜Ｒ２５は水素もしくは炭素数１〜３のア
ルキル基であって、各々同一または異なっていても良い
。） 一般式（６） １’（３７と互いに環を形成していても良い。ｎは０ま
たは１以上の正数であってＲｓｏ〜Ｒ３３が複数回繰り
返される場合には、これらは各々同一または異なってい
ても良い。） 一般式（７） （式中Ｒ”〜Ｒ”は水素もしくは炭素数１〜３のアルキ
ル基であって、各々同一または異なっていても良い。） 一般式（８） （式中Ｒ”〜Ｒ”は水素もしくは炭素数１〜３のアルキ
ル基であって、各々同一または異なっていても良く、さ
らにＲ３４またはＲ３Ｓは、Ｒ３６または）（”’Ｆ（
′ｖＲ”Ｒ” （式中Ｒ”〜Ｒ”は水素もしくは炭素数１〜３のアルキ
ル基であって、各々同一または異なっていても良い。） 前記−飲代（１）で示されるような化合物としては具体
的には としては具体的には が挙げられる。
また前記−飲代（４）で示されるようなイし合１勿とし
ては具体的には が挙げられる。
また前記−飲代（２）で示されるような化合物としては
具体的には が挙げられる。
また前記−飲代（５）で示されるようなイし含１勿とし
ては具体的には が挙げられる。
また前記−飲代（３）で示されるような化合物が挙げら
れる。
また前記−飲代（８）で示されるような化合物が挙げら
れる。
また前記−飲代（６）で示されるようｔｌ化合１勿とし
ては具体的には が挙げられる。
まｊ；前記−飲代（７）で示されるような化合１勿とし
ては具体的には ヵ３や１７．わ、。　　　　　　　　ＣＨ３前期したこ
れら環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸もしくはマレ
イミドとの共重合体はラジカル共重合等により通常生成
する。
これらの共重合体についてはＩｌ、　Ｐｌｅｄｇｅｒ、
　Ｊｒ。
らによる、　ｊ、　Ｍａｃｒｏｍｏｌ、　９ｃ１．−Ｃ
ｈｅａｐ、、＾５　（３）。
ｐｐ　４９１　（１９７１）　、同＾５　（８）、　Ｉ
）ｐ１３３９　（１９７１）、Ｒｏｓｔｙｓ！ａｖ　Ｄ
ｏｕｂｅｎｋｏらによるＰｏｌｙｍｅｒ　Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ。
Ｖｏｌ、　２．　ｐｐ　４０９　（１９６４）記載の論
文、あるいは米国特許第３．１４３．５３３号、同第３
．２ｅ１．８１５号、同第３．５１０．４ｅ１号、同第
３，７０３．５０１号、英国特許第１．０１５．２１５
号、同第１．２５５．８３８号の各明細書等に記載の方
法に従って得ることができる。
次に、前期した一つ以上の不飽和二重結合を有する環状
脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体の無水マ
レイン酸構成単位の酸無水環を加水分解、もしくはヒド
ロキシル基を有する化合物またはアミノ基を有する化合
物で開環させて得られる樹脂について説明する。
これらの樹脂は前記した一つ以上の不飽和二重結合をａ
する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体
を合成原す４として用いることにより１すられる。ここ
でヒドロキシル基を有する化合物は、前期−飲代（９）
で示される化合物のことであり、 一般式（９） ％式％ （式中Ｒ”はアルキル基、シクロアルキル基、下記−飲
代（１０）、下記−飲代（１１）及び下記−飲代（１２
）、 ％式％） の中から選ばれた基であり、さらに上式中Ｒ”およびＲ
′’ｔはアルキレン基、Ｒ５６は水素、アルキル基また
はシクロアルキル、ｊ、（、Ｒ５７は水素、アルキルＪ
！、カルボキシル基、アルコキシ基、ニドロバまたはア
ミノ基である。） 具体的には、メチルアルコール、エチルアルコール、Ｉ
Ｉ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、１
１−ブチルアルコール％　Ｓｅｅ、−ブチルアルコール
、ｔａｒｔ、−ブチルアルコール、シクロペンチルアル
コール、シクロヘキシルアルコール、シクロへブチルア
ルコール、エチレングリコール、メチルグリコレート、
エチルグリコレート、ヒドロキシジシクロペンタジェン
、フェノール、θ−ニトロフェノール、ｌ−ニトロフエ
／−／ｌ／、！−ニトロフェノール等が挙げられる。
また、アミノ基を有する化合物は、前期−飲代（１３）
で示される化合物のことであり、−飲代（１３） （式中Ｒ％ＩＩはアルキル基、シクロアルキルｕ１下記
一般式（１４）、下記−飲代（１５）及び下記−飲代（
１６）、 ％式％ の中から選ばれた話であり、さらに上式中Ｒ′９および
Ｒｔ＋ＬｌはアルキレンＪＪ、、Ｒ６１は水素、アルキ
ル基またはシクロアルキル）Ａ、Ｒ６２は水素、アルキ
ル基、カルボキシル基、アルコキシ基、ニトロ基または
アミノ基である。） 具体的には、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン
、ｎ−ブチルアミン、ｔｏｒｔ、−ブチルアミン、ｓｅ
ｅ、−ブチルアミン、イソブチルアミン、エタノールア
ミン、４−アミノブタン酸、シクロヘキシルアミン、シ
クロペンチルアミン、シクロへブチルアミン、θ−アミ
ノフェノール、ｌ−アミノフェノール、！−アミノフェ
ノール、ｌ−アミノ安息香酸、β−アミノ安息δ酸、θ
−アミノ安息香酸、４−アミノシクロヘキサノール、２
−アミノ−１−ブタノール、２−アミノノルボルナン、
３−アミノ−■−プロパツール、６−アミノ−１−ヘキ
サノール、１２−アミノドデカン酸等が挙げられる。
また、前記−つ以上の不飽和二重結合を有する環状脂肪
族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体の酸無水環を
加水分解あるいは、前期−飲代（９）または前期−飲代
（１３）で示される化合物を用いて開環させる方法とし
ては、加水分解する場合には例えば水酸化ナトリウム等
の無機アルカリを触媒として、また前期−飲代（９）で
示される化合物を用いて酸無水環を開環させる場合は硫
酸を触媒として、また前期−飲代（１３）で示される化
合物を用いて酸無水環を開環させる場合は特に触媒なし
にいずれも原料樹脂である前記−つ以上の不飽和二重結
合をＨする環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共
重合体と水、もしくは前期−飲代（９）または前期−飲
代（１３）で示される化合物とを混合した後、７０〜１
４０℃の温度下に２〜２４時間反応させることにより得
られる。
尚、上記開環反応における酸無水環の開環率はｉすられ
た樹脂の元素分析およびＩＲを測定することにより算出
することができる。すなわち、上記開環率は、前記−飲
代（１３）で示される化合物で開環させた樹脂について
は元素分析による上記樹脂中の窒素原子の定量をおこな
うことにより直接的に求めた。また、加水分解もしくは
前記−飲代（９）で示される化合物で開環させることに
よって？ｊられた樹脂については、前記−飲代（１３）
で示される化合物で開環させた樹脂の結果がら、ＩＲ測
測定おける１７７０ｃｍ−”および１８５０ｃｍ−’（
酸無水環のＣ−０に基づく吸収）のピーク強度と酸無水
環を有する構成単位の全構成単位に対する割合とのあい
だに相関を求め、作成した検量線をもとに間接的に求め
た。
次に、一つ以上の不飽和二重結合を有する環状脂肪族炭
化水素と無水マレイン酸との共重合体の無水マレイン酸
構成単位の酸無水環を前期アミノ基をａする化合物で開
環させた後、上記共重合体中に開環により形成されたマ
レアミック酸構成単位の一部もしくは全部をイミド閉口
することにより得られる樹脂について述べる。
これらの樹脂は前記した一つ以上の不飽和二重結合をＨ
する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体
の無水マレイン酸（１力成単位の酸無水環を前期−飲代
（１３）で示される化合物で開環させてｉすられる樹脂
を合成原料として用いることによりｉりることかできる
。上記樹脂をイミド閉口する方法としては例えばＤＭＦ
等の高沸点を有する６機溶媒中でトリーローブチルアミ
ン等の三級アミンを触媒として、１２０〜１８０℃の温
度条件下、２〜８時間反応することによりＰ７られる。
このときこれら上記樹脂をイミド閉口して得られる樹脂
においては、アルカリ溶解性の点から、酸無水環を有す
る構成単位およびマレアミック酸構成単位のいずれかも
しくは両方が全構成単位中央なくとも１０％残存するこ
とが望ましい。そのため、イミド閉口を完全に行う場合
は、合成原料として用いる上記樹脂において酸無水環を
有する構成単位が、少なくとも１０％含まれる樹脂を用
いる必要があり、また、酸無水環を有する構成単位が全
構成単位の１０％以下であるような樹脂を合成厚ｎとし
て用いる場合には、生成したイミド閉口を行った樹脂に
おける酸無水環を有する構成単位およびマレアミック酸
構成単位の総和が１０％以下となることの無いよう反応
条件の調整を行うことが必要である。このことに関して
は、反応温度を下げる、あるいは、反応時間を短くする
等の処置で対応することができる。しがしながらこのこ
とは、原料樹脂として用いる前記した一つ以上の不飽和
二重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸
との共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環を前
期−飲代（１３）で示される化合物で開環させて得られ
る樹脂において、前期−飲代（１３）で示される化合物
が以下に示されるような化合物、すなわち、 Ｎｏ、　　２ であるような樹脂を用いる場合には、この限りでは無い
。
次に、この様にして得られた本発明のフォトレジスト組
成物において用いられるアルカリ可溶性樹脂について、
さらに具体例を挙げて説明する。
上記アルカリ可溶性樹脂のうち、前記した一つ以上の不
飽和二重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイ
ン酸との共重合体は、例えば以下に示す繰り返し単位を
Ｈする樹脂である。
Ｎｏ、１ Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
また、前記した１つ以上の不飽和二重結合を有する環状
脂肪族炭化水素とマレイミドとの共重合体は、例えば以
下の繰り返し単位を有する樹脂である。
Ｎｏ、１Ｏ Ｎｏ、１１ Ｎｏ、１２ Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ、　　１３ Ｎｏ。
Ｎｏ。
また、前記した１つ以上の不飽和二重結合を有する環状
脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体の無水マ
レイン酸構成単位の酸無水環を加水分解して得られる樹
脂は、例えば以下の繰り返し単位を含む樹脂である。
Ｎｏ、１９ Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
Ｎｏ、　　２７ また、前記した１つ以上の不飽和二重結合を有するに状
脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体の無水マ
レイン酸構成単位の酸無水環をヒドロキシル基を有する
化合物で開環してＦ？られる樹脂は、例えば以下の繰り
返し単位を有する樹脂である。
Ｎｏ、２８ Ｎ　。
Ｎｏ、　　２５ Ｎｏ、　　２６ Ｎ。
２つ Ｎｏ。
　Ｏ Ｎｏ　、　３１ Ｎ。
Ｎｏ。
Ｎ。
Ｎ。
Ｎｏ。
Ｎｏ。
また、前記した１つ以上の不飽和二重結合を有する層状
脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合体の無水マ
レイン酸構成単位の酸無水環をアミツバを６する化合物
で開環してｉ［）られる樹脂は、例えば以下の繰り返し
単位を有する樹脂である。
Ｎｏ、３５ Ｎｏ。
０、４　Ｏ Ｎｏ、４１ また、前記した１つ以上の不飽和二重結合を有する環状
脂肪族炭化水素と無水マレイン酸との共重合（トの無水
マレイン酸；ｊへ成単位の酸無水環をアミツバをａする
化合物で開環した後、上記共重合ｔト中に開環により形
成されたマレアミック酸打〜成単位の一部もしくは全部
をイミド閉口して得られる樹脂は、例えば以下の繰り返
し単位を有する樹１１■である。
Ｎｏ、４２ Ｎｏ、　　４４ Ｎｏ、　４５ Ｎｏ、４３ Ｎｏ、　　４６ Ｎｏ、４７ 〔上記の各式中、Ｒは側鎖を有することのある炭素数１
ないし３のアルキレン基を表わし、ｎおよび「ｎはｎ／
（ｎ＋ｍ）が０．１ないし０．９、好ましくは０．３な
いし０．７となる正の数を表し、ｐおよびｑはその和が
１となる任意の正数を表わす。） 次に、上記したこれらのアルカリ可溶性樹脂は、単分散
ポリスチレンを標塾としてゲルパーミネーシシンクロマ
ト法ｃａｐｅ法）により求めた重量平均分子量（Ｍ　ｗ
　）が１．０００〜２０．００Ｇ、好ましくは２．００
０〜１５．０００のものを用いる。上記節回を逸脱する
と、感度、解像性、耐熱性、皮膜性能、及び基板への密
む性等に悪影響をもたらす。
次に、本発明のフォトレジスト組成物において用いられ
る感光剤について詳述する。本発明のフォトレジスト組
成物において用いられる感光剤としては、前記アルカリ
可溶性樹脂と配合することにより、活性光線、特に深紫
外線またはエキシマレーザ−の照射によって、上記樹脂
のアルカリ溶解性を阻害もしくは促進させ、露光部と未
露光部との間に大いなる溶解度差を生じせしめ、続くア
ルカリ水溶液現像によりポジあるいはネガ型の画像を形
成しうるものである。この場合、本発明のフォトレジス
ト組成物に用いられる感光剤としてポジ型の感光剤をも
ちいた場合には、本発明のフォトレジスト組成物をポジ
型フォトレジスト組成物として、本発明のフォトレジス
ト組成物に用いられる感光剤としてネガ型の感光剤をも
ちいた場合には、本発明のフォトレジスト組成物をネガ
型フォトレジスト組成物としてそれぞれ用いることがで
きる。この禄な感光剤としては、上記した条件を満足す
るものであればいかなるものでも構わないが、ポジ型の
感光剤としてはナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル系感光剤が、また、ネガ型の感光剤としてはビスアジ
ド系感光剤が好ましい感光剤として用いられる。
上記ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤
は一般的に既知であり、例えば米国特許節２．７６Ｇ、
１１８号、同２．７６７．０９号、同２，７７２．９７
２号、同２，８５９．１１２号、同２．９０７．６（１
５号、同３．９４（ｉ、１１０号、同３．０４（ｉ、１
１１号、同３．０４（ｉ、１１５号、同３．０４（ｉ、
１１８号、同３．０４Ｑ、１１９号、同３．０１，１２
０号、同３，０４０．１２１号、同３．０４１３．１２
２号、同３．０４Ｇ、１２３号、同３．０Ｇ１．４３０
号、同３．１０２．８０９号、同３．１０１３．４１３
５号、同３．（ｉ３５．７０９号、同３，６４７．４４
３号の各明細書記載の化合物を、本発明のフォトレジス
ト組成物に有効な感光剤として用いることができる。具
体的には以下の化合物が挙げられる。
また、ビスアジド系感光剤としては、特開昭６３−１０
７３５１広報、および特開昭１３３−１９１１４２広報
等に開示されたビスアジド化合物を、本発明のフォトレ
ジスト組成物に有効な感光剤として用いることができる
。具体的には、３゜３°−ジアジドベンゾフェノン、３
．３’−ジアジドジフェニルスルホン、４゜４′−ジア
ジドジフェニルスルフィド、３．３°−ジメトキシ−４
，４−ジアジドビフェニル、２．７−ジアシドフルオレ
ンなどが挙げられる。
また、本発明のフォトレジストＩｎ成物に好ましく用い
られるポジ型感光剤のその他の例として、特公昭ロ２−
４７２Ｈ広報、特公昭８２−４７２９７広報、特開昭（
ｉｏ−１４２３５広報、昭０１−２２３８７広報、昭８
３−１０３３４０広報、昭６３−１７０６３９広報等に
開示された２−ジアゾ−１，３−ジオン化合物を用いる
こともできる。
また、これらのポジおよびネガ型の感光剤はそれぞれ１
種単独で使用、あるいは２種以上を併用することができ
る。
前記アルカリ可溶性樹脂と前記感光剤との配合割合は、
前記アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、前記感
光剤が１重量部以上、１００重二部具下で用いられるが
、特に１０重量部以上７０重量部以下で用いるのが好ま
しい。上記範囲を逸脱すると、レジストとしての感度、
露光部と未露光部との溶解度差、パターン精度及び被膜
の特性に悪影響をもたらす。
本発明のフォトレジスト組成物は、有機溶媒可溶性であ
り、集積回路の製作等に使用する場合、通常溶液（レジ
スト溶液）の形で、実用に供せられる。この場合前記組
成物は一般に有機溶媒に１〜５０重量％好ましくは５〜
３０重量％の割合で溶解させ、調整される。この場合用
いる溶媒としては本発明のフォトレジスト組成物の各構
成成分を均一に溶解しかつ、シリコン、アルミニウムな
どの基板表面に塗布後、該有機溶媒を蒸発させる事によ
り、均一で平滑な塗膜が得られるものが好ましい。具体
的にはアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノ
ン、シクロヘキサノン、等のケトン系溶媒、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチル
セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等
のセロソルブ系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸
エチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒等が挙げら
れるがこれらに限定されない。上記有機溶媒は、単独で
用いても２種類以上併用してもよい。
また本発明のフォトレジスト組成物には上記成分の他に
必要に応じて可塑剤、増感剤、染料、その他の樹脂、熱
反応禁止剤等各種防止剤、接着性改良剤等を添加するこ
とが出来る。
本発明のフォトレジスト組成物は前記のごとくレジスト
溶液を：Ａ整することにより、リソグラフィー々技術を
用いてレリーフパターンを形成することができる。以下
にこのレリーフパターンの形成方法について説明する。
まず前記の如＜′３３整したレジスト溶液を基板に塗布
する。この基板への塗布は例えばスピンナーで行う事が
出来る。次いでこれを温度６０〜１２０℃、好ましくは
８０〜１００℃で２０〜６０分間乾燥する。乾燥後この
塗布膜に対しフォトマスクチャートを通して深紫外線ま
たはエキシマレーザ−を照射させるが、中間紫外線を用
いても構イ〕ない。
次いで現像処理を行う１１目こよりレリーフパターンを
得る。上記現’＆　ｉｌ！２としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、メタケイ酸ソーダ、テトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイド等の例えば５重量％以
下の濃度の弱アルカリ水溶液を用いることが出来る。こ
のようにして形成されたレリーフパターンは解１象性、
コントラストともに良好なしのである。
さらに本発明のフォトレジスト組成物を用いて上記の如
＜シて形成したパターンをマスクとして基数をエツチン
グすることができる。
（発明の効果） 本発明のフォトレジスト組成物は深紫外線（波長２５０
〜３００ｎｍ）及びエキシマレーザ（波長２４８．３０
８０ｓ　）において高い解像力、高いコントラスト及び
高い 感度をｆｌ−するほか、中間紫外線（ｍｉｄ−ｕｖ）（
波長３００〜３５０ｎａ＋）における露光にも適してい
る。
これらの組成物は、とりわけ半導体素子製造分野におけ
る微細加工用のレジストとして用いられる。
以上説明したように、本発明のフォ：・レジスト組成物
は、深紫外線及びエキシマレーザ−の波長領域において
高い透明性を有している。その結果、リソグラフィーの
高解像力化に必要な上記光線を光源とした場合でも、感
度、解像性、及びコントラストを著しく向上でき、しか
もアルカリ水溶液で現像しうるため膨潤する憤れかなく
、高精度の微細なフォトレジストパターンを形成する事
ができるものである。したがってこれらの組成物は、感
度及び解像性に対する要求が今後益々厳しくなり行＜Ｌ
ＳＩやＶＬＳＩなどの集積回路製作用のレジストとして
使用できる他、半導体素子製造の分野において広範囲に
使用する事ができる。
［実施例］ 次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものでない
。
合成例１ （ビンクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−無
水マレイン酸共重合体の合成） 無水マレイン酸９．８ｇと溶媒として脱キシレン２５０
ｍ１とを混合し、窒素気流下５０℃で系が均一になるま
で十分攪拌を行った。次いで、この溶？ｔｋ　Ｉこビシ
クロ［２，２，ｌ］ヘプタ−２，５−ジエン　９゜２ｇ
を加え、ラジカル重合開始剤としてベンゾイルパーオキ
シド０．４８ｇを添加して、窒素気流下９０℃で４時間
反応を行った。その後、この反応混合物にＮ−フェニル
−２−ナフチルアミン　０゜５６ｇの脱水キシレン溶液
を加え、系を室況まで冷却した。沈殿した固状物をろ取
した後、テトラヒドロフラン溶解エチルエーテル析出に
より繰り返し精製を行った。その後、７０℃で２４時間
真空乾燥しｌ１ｇの無色固体を得た。
元素分析、ＮＭＲおよびｌＲ１１Ｐ！定を行った結果こ
の無色固体か［−１的とするビシクロ［２，２，１１へ
ブタ−２，５−ジエンと無水マレイン酸との１／１交互
共重合体であることを確認した。この共重合体のポリス
チレンを標■とするゲルパーミネーションクロマト法（
ＧＰＣ法）によって求めたｆｆｆ　ｍ平均分子−量（Ｍ
　ｗ　）は６８００であった。また、Ｌｌｆｌ車量分子
量と数平均分子量の比（Ｍｙ／Ｍｎ）は１．５９であっ
た。
（樹脂の透明性の評価） 次に、ｉすられた上記樹脂の２４８ｎｍにおける透明性
の＝’ｔ’　（ｔｔｌｉを行った。評価法については、
得られた樹脂を厚さ１．０μｍに製膜し、得られた股の
波長２４８　ｎ　ｒｎの単色光の透過率を測定する方法
で行った。すなわち上記ビシクロ［２，２，１］へブタ
−２，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体１．０ｇを
シクロへキサノン４ｍｊ！に溶解させ、溶液を調整した
。この溶液を石英ガラス基板上にスピンコーターを用い
て２２００回転で回転塗布し、強制熱風循環オーブン中
で９０℃で２０分間加熱（ブレベーク）し、膜厚１，０
μｍの塗膜を形成した。
この様にして得られた膜の２４８ｎｍ光の光線透過率を
分光々反引を用いて測定した。その結果、上記ビシクロ
［２，２，ＩＦへブタ−２，５−ジエン−無水マレイン
酸共重合体においては８２９６　Ｔ　／μｍの透過率を
Ｈすることが解った。
合成例２ （５−ビニルビシクロ［２，２，１１ヘプト−２−エン
ー無水マレイン酸共重合体の合成） 無水マレイン酸９．８ｇと５−ビニルビシクロ［２，２
，１１ヘプト−２−エン１２．Ｏｇとを混合し、重合開
始剤として１１−ブチルメルカプタン１．４ｇを添加し
た後、乾燥空気を毎分２０　ｍｉづつこの混合液中に吹
き込みながら９０℃で４．５時間反応を行った。この間
、溶液の粘度を調整する目的で、１．５時間毎に１０−
づつ３回にわたってメチルイソブチルケトンを加えた。
その後、新たに１．４ｇのｎ〜ブチルメルカプタンを添
加し、さらに９．５時間反応を続けた。反応終了後揮発
成分を減圧留去させ、生成した固状物をテトラヒドロフ
ラン溶解エチルエーテル析出により繰り返し生成を行っ
た。その後、７０℃で２４時間真空乾燥しｌ１ｇの無色
固体を得た。
元素分ｐｉ、ＮＭＲおよびＩ　Ｒ１ｌｌｌｌ定を行った
結果この無色固体が目的とする５−ビニルビシクロ［２
゜２．１］ヘプト−２−エンと無水マレイン酸との１／
１交互共重合体であることを確認した。この共重合体の
ポリスチレンを標ゆとするゲルパーミネーションクロマ
ト法（ＧＰＣ法）によって求めた重量・１４均分子ｆｍ
（Ｍｙ）は６８００であった。また、重量・（也均分子
量と数平均分子量の比（Ｍν／Ｍｎ）は１．５９であっ
た。
また、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評１１
１１ｉシたところ、２４８ｎｍ光に対しては７８９６Ｔ
／μｍの透過率を有することが解った。
合成例３〜９ （その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重
合体の合成） 本発明のフォトレジスト組成物において用いられる、ア
ルカリ可溶性をＨするその他のシクロオレフィンと無水
マレイン酸との共重合体の合成例を表の形式で表１に示
す。
合成例１０ （ビシクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−マ
レイミド共重合体の合成） ビシクロ［２，２，１１へブタ−２，５−ジエン９．２
ｇとマレイミド９．７ｇとから合成例１と同様にしてビ
シクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−マレイ
ミド共重合体６．８ｇを得た。
この共重合体のポリスチレンを標準とするゲルパーミネ
ーションクロマト法（ＧＰＣ法）によって求めた重量平
均分子ｍ（Ｍｙ）は７１００であった。
また、重量平均分子量と数平均分子量の比（Ｍｙ／Ｍｎ
）は１．６３であった。
また、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価し
たところ、２４８ｎｍ光に対しては７５％Ｔ／μｍの透
過率を有することが解った。
合成例１１ （５−ビニルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン
ー無水マレイン酸共重合体の合成） ５−ビニルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン１
２２）Ｏｇとマレイミド９．７ｇとから合成例１と同様
にして５−ビニルビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−
エン−マレイミド共重合体６．８ｇを得た。
この共重合体のポリスチレンを標準とするゲルパーミネ
ーションクロマト法（ＧＰＣ法）によって求めた重量平
均分子Ｊｌｉｌｋ（Ｍｙ）は５６００であった。
また、重量平均分子量と数平均分子量の比（Ｍｙ／Ｍｎ
）は１．７８であった。
また、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価し
たところ、２４８ｎｍ光に対しては７３％Ｔ／μ「ｎの
透過率を有することが解った。
合成例１２〜１８ （その他のシクロオレフィンとマレイミドとの共重合体
の合成） 本発明のフォトレジスト組成物において用いられる、ア
ルカリ可溶性を有するその他のシクロオレフィンとマレ
イミドとの共重合体の合成例を表の形式で表２に示す。
合成例１９ （ビシクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−無
水マレイン酸共重合体の加水分解） 合成例１で得られたビシクロ［２，２，１］へブタ−２
，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体５ｇと５％水酸
化ナトリウム水溶液１００ｄとを混合し、７０℃で１２
時間反応を行った。反応終了後、系を塩酸で酸性化し、
析出した固状物をろ取し、これをさらに水で繰り返し洗
浄した。その後、７０℃で２４時間真空乾燥し４．２ｇ
の無色固体を得た。
ＩＲ測測定おこなった結果、原料樹脂であるビシクロ［
２，２，１１へブタ−２，５−ジエン−無水マレイン酸
共重合体における１７７０ｃｍ−’および１８５０ｃｍ
−’の吸収（酸無水環のＣ−０に基ずく吸収）が消失し
ていることから、この無色固体は原料樹脂の酸無水環が
ほぼ完全に加水分解したものであることを確認した。
さらに、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価
したところ、２４８ｎｍ光に対しては７８％Ｔ／μｍの
透過率を有することが解った。
合成例２０〜２７ （その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重
合体の加水分解） 本発明のフォトレジスト組成物において用いられる、ア
ルカリ可溶性を有するその他のシクロオレフィンと無水
マレイン酸との共重合体の加水分解体の合成例を表の形
式で表３に示す。
合成例２８ （ビンクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−無
水マレイン酸共重合体のエステル化） 合成例１で得られたビシクロ［２，２，１］へブタ−２
，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体５ｇと脱水ＴＨ
Ｆ１５０ｒＩｄｌとを混合し、５０℃で系が均一になる
まで十分に攪拌した。次いでこの溶液にイソプロピルア
ルコール１５．８ｇを加え、触媒として濃硫酸０．　５
ｍｊ！を添加して８時間加熱環流した。反応終了後、反
応溶液を多量の水中に段下し、析出した固状物をろ取し
た。さらに、テトラヒドロフラン溶解水析出により繰り
返し精製を行い、７０℃で２４時間真空乾燥し５．１ｇ
の無色固体を得た。
ＮＭＲおよびＩＲ測測定おこなった結果、この無色固体
は原料樹脂であるビシクロ［２，２，１１へブタ−２，
５−ジエン−無水マレイン酸共重合体の酸無水環が部分
的にイソプロピルアルコールによってエステル開環した
ものであることを確認した。また、この樹脂のＩＲＡＩ
＋定による１７７０ｃｍ−’および１８５０ｃｍ−’の
吸収の変化量から算出された酸無水環のエステル化率は
６８％であった。
さらに、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価
したところ、２４８ｎｍ光に対しては７８％Ｔ／μｍの
透過率を有することが解った。
ａ成例２９〜３４ （その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重
合体のエステル化） 本発明のフォトレジスト組成物において用いられる、ア
ルカリ可溶性を有するその他のシクロオレフィンと無水
マレイン酸との共重合体のエステル化体の合成例を表の
形式で表４に示す。
合成例３５ （ビシクロ［２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−無
水マレイン酸共重合体のアミド化） 合成例１で得られたビシクロ［２，２，１］へブタ−２
，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体５ｇと脱水ジメ
チルホルムアミド１００−とを混合し、５０°Ｃで系が
均一になるまで十分に攪拌した。次いでこの溶液にイソ
プロピルアミン１５．０ｇを加え、８０℃で８時間反応
を行った。反応終了後、反応溶液を多量のエチルエーテ
ル中に投下し、析出した固状物をろ取した。さらに、テ
トラヒドロフラン溶解エチルエーテル析出により繰り返
し精製を行い、７０℃で２４時間真空乾燥し５．１ｇの
無色固体を得た。
ＮＭＲおよびＩＲｔｌｌ定をおこなった結果、この無色
固体は原料樹脂であるビシクロ［２，２，１１へブタ−
２，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体の酸無水環が
部分的にイソプロピルアミンによってアミド開環したも
のであることを確認した。また、この樹脂の元素骨Ｐ？
による窒素原子の含有率から算出された酸無水環のアミ
ド化率は６８％であった。
さらに、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価
したところ、２４８ｎｍ光に対しては７８％Ｔ／μｍの
透過率を有することが解った。
合成例３６〜４１ （その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重
合体のアミド化） 本発明のフォトレジスト組成物において用いられる、ア
ルカリ可溶性を有するその他のシクロオレフィンと無水
マレイン酸との共重合体のアミド化体の合成例を表の形
式で表５に示す。
合成例４２ （ビシクロ［２，２，１１へブタ−２，５−ジエン−無
水マレイン酸共重合体のアミド化体のイミド閉口）合成
例３５で得られたビシクロ［２，２，１］へブタ−２，
５−ジエン−無水マレイン酸共重合体のアミド化体５ｇ
と脱水ジメチルホルムアミド１００ｄとを混合し、５０
℃で系が均一になるまで十分に攪拌した。次いでこの溶
液に触媒としてトリーｎ−ブチルアミン３．５ｇ、およ
び共沸溶媒としてトルエン１２ｒｄを添加して、１４０
℃で加熱した。この時、生成する水は共沸により徐々に
反応系の外に取り出してやり、水が完全に生成しなくな
るまで４時間反応を行った。反応終了後、反応溶液を多
量のエチルエーテル中に投下し、析出した固状物をろ取
した。さらに、テトラヒドロフラン溶解エチルエーテル
析出により繰り返し精製を行い、７０℃で２４時間真空
乾燥し５．１ｇの無色固体を得た。
ｌＲ側定をおこなった結果、原料樹脂であるビシクロ［
２，２，１］へブタ−２，５−ジエン−無水マレイン酸
」（重合体のアミド化体における１７２０ｃｒｎ−’の
吸収（カルボキシル基のＣ−０に基づく吸収）が、この
無色固体においては消失していることから、この無色固
体は原料樹脂であるビシクロ［２，２，Ｉ］へブタ−２
，５−ジエン−無水マレイン酸共重合体のアミド化体に
おいて、その酸無水環のアミド開環部がイミド閉口した
ものであることを確認した。
さらに、この樹脂の透明性を合成例１と同様にして評価
したところ、２４８ｎｍ光に対しては７８％Ｔ／μｍの
透過率を有することが解った。
合成例４３〜４７ （その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重
合体のアミド化体のイミド閉口）本発明のフォトレジス
ト組成物において用いられる、アルカリ可溶性を有する
その他のシクロオレフィンと無水マレイン酸との共重合
体のアミド化体をイミド閉口した合成例を表の形式で表
６に示す。
実施例１ （ポジ画１象の形成） 一キノンジアジド系ポジ型フォトレジスト組成物の１調
整 合成例１で得られた樹脂８．０ｇと、感光剤として２，
３．４−トリオキシベンゾフェノン−２，３，４−トリ
ス［ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸
］エステル１．３ｇとからなる本発明ポジ型フォトレジ
スト組成物をシクロへキサノン２２−に溶解し、この溶
液を０．２μｍのフィルターを用いて濾過しレジスト溶
液を調整した。
フォトレジストのコーティング− ＨＭＤＳ　（ヘキサメチルジシラザン）により疎水化処
理を行ったシリコンウエノ＼上に、上記レジスト溶液を
スピンコーターを用い、２３００回転で回転塗布した。
次いで、このウェハを強制熱風循環オーブン中で９０℃
で２０分間加熱（ブレベーク）シ、厚さ１．０μｍのレ
ジスト膜を形成した。
−レジストの感度の４−１定− 上記レジスト膜に対して、ＫｒＦエキシマレーザ−（波
長２４８ｎｍ）を、露光位置と露光量を変えて照射した
。照射後、このレジスト膜をテトラメチルアンモニウム
ハイドロオキサイドの１．０％水溶液に１分間浸漬し現
像をおこなった。
その後、脱イオン水で４０秒間リンスを行い、強制熱風
循環オーブン中で９０℃で３０分間加熱（ボス］・ベー
ク）し、得られた膜の膜厚を接触式膜厚Ａ？Ｉ定計を用
いて測定した。照射量と残膜率との関係をプロットし、
残膜率が０％となる露光量をもって感度とした。その結
果、上記レジストの感度は７４　ｍ　ｊ　／　ｃＪであ
った。
−微細画像の形成− 同様にして得られた未露光の前期レジスト膜に対して、
微細パターンを有するクロムフォトマスクラ用いて、Ｋ
　ｒ　Ｆエキシマレーザ−を光源とする５：１縮小投影
露光装置で、適正量のＫ　ｒ　Ｆエキシマレーザ−露光
をおこなった。露光後、このレジス！・膜をテトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキサイドの１．０％水溶液に
１分間浸漬し現像をおこなった。その後、脱イオン水で
４０秒間すンスを行い、強制熱風循環オーブン中で９０
℃で３０分間加熱（ボストベーク）シ、フォトマスクパ
ターンのボン画像を得た。
このようにして得られたポジ画像を、走査型型ｆ・顕微
鏡で観察した結果、矩形状の良好なパターンプロフィー
ルを白°する、０．５μｍＬ／Ｓ（ライン及スペース）
が解像していることが解った。
実施例２ （ネガ画像の形成） 一ビスアジド系ネガ型フォトレジスト組成物の調整 合成例１で得られた樹脂８．０ｇと、感光剤として３，
３°−ジアジドジフェニルスルホン１．１ｇとからなる
本発明のネガ型フォトレジスト組成物をシクロへキサノ
ン２２−に溶解し、この溶液を０．２μ１１のフィルタ
ーを用いて濾過しレジスト溶液を調整した。
−フォトレジストのコーティング− ＨＭＤＳ　（ヘキサメチルジシラザン）により疎水化処
理を行ったシリコンウエノ１上に、上記レジス！・溶ｌ
ｆＭを用い、実施例１と同様にして厚さ１　、　　ＯＩ
ｔ　ｍのレジスト膜を形成した。
レジストの感度のハ１定− 上記レジス！・膜にλ・１して、ＫｒＦエキシマレーザ
−（波長２４８　ｎ　ｍ　）を、露光位置と露光量を変
えて照射した。照射後、このレジスト膜をテトラメチル
アンモニウムハイドロオキサイドの１．０％水溶液に１
分間浸漬し現像をおこなった。
その後、脱イオン水で４０秒間リンスを行い、強制熱風
循環オーブン中で９０℃で３０分間加熱（ボストベーク
）し、得られた膜の膜厚を接触式膜厚計１定計を用いて
測定した。照射量と残膜率との関係をプロットし、残膜
率が８０％となる露光量をもって感度とした。その結果
、上記レジストの感度は１２８ｍｊ／ｃ−であった。
微細画像の１し成− 同様にして得られた未露光の前期レジスト膜に対して、
微細パターンを有するクロムフ第１・マスクを用いて、
Ｋ　ｒ　Ｆエキシマレーザ−を光源とする５：１縮小投
影露光装置で、適正量のＫ　ｒ　Ｆエキシマレーザ−露
光をおこなった。露光後、このレジスト膜をテトラメチ
ルアンモニウムハイドロオキサイドの１．０％水溶液に
１分間浸漬し現像をおこなった。その後、脱イオン水で
４０秒間リンスを行い、強制熱風循環オーブン中で９０
℃で３０分間加熱（ボストベーク）し、フォトマスクパ
ターンのネガ画像を得た。
このようにして得られたネガ画像を、走査型電子顕微鏡
で観察した結果、矩形状の良好なパターンプロフィール
を有する、０．５μｍＬ／Ｓ（ライン及スペース）が解
像していることが解った。
実施例３〜９４ 同様にして得られた、その他の本発明のフオトレジスＩ
・組成物を用いて、実施例１もしくは実施例２と同様に
してポジもしくはネガ型の画像を形成した。その結果を
表７に表の形式で示す。
（表７の脚注続き）

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）環状脂肪族炭化水素骨格からなる単位と、無水マ
    レイン酸に由来する単位および／またはマレイミドを基
    材とする単位とを有するアルカリ可溶性樹脂と、活性光
    線の照射によって、上記樹脂のアルカリ可溶性を促進も
    しくは阻害させ、露光部と未露光部との間に大いなる溶
    解度差を生じさせ、続くアルカリ水溶液現像によりポジ
    あるいはネガ型の画像を形成するのに十分な量の感光剤
    とを含むフォトレジスト組成物。
  2. （２）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸と
    の共重合体であることを特徴とする特許請の範囲第１項
    記載のフォトレジスト組成物。
  3. （３）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素とマレイミドとの共
    重合体であることを特徴とする、特許請求の範囲第１項
    記載のフォトレジスト組成物。
  4. （４）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環を加水
    分解してなることを特徴とする、特許請求の範囲第１項
    記載のフォトレジスト組成物。
  5. （５）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環をヒド
    ロキシル基を有する化合物で開環してなる樹脂であるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第１項記載のフォトレ
    ジスト組成物。
  6. （６）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環をアミ
    ノ基を有する化合物で開環してなる樹脂であることを特
    徴とする特許請求の範囲第１項記載のフォトレジスト組
    成物。
  7. （７）前記アルカリ可溶性樹脂が、１つ以上の不飽和二
    重結合を有する環状脂肪族炭化水素と無水マレイン酸と
    の共重合体の無水マレイン酸構成単位の酸無水環をアミ
    ノ基を有する化合物で開環した後、上記共重合体中に開
    環により形成されたマレアミック酸構成単位の一部もし
    くは全部をイミド閉口してなることを特徴とする、特許
    請求の範囲第１項記載のフォトレジスト組成物。
  8. （８）前記環式炭化水素が下記一般式（１）で示される
    化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項か
    ら第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成物
    。 一般式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１〜Ｒ＾４は水素もしくは炭素数１〜３のア
    ルキル基であって、各々同一または異なっていても良い
    。）
  9. （９）前記環式炭化水素が下記一般式（２）で示される
    化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項か
    ら第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成物
    。 一般式（２） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾５〜Ｒ＾１＾０は水素もしくは炭素数１〜３
    のアルキル基であって、各々同一または異なっていても
    良い。）
  10. （１０）前記環式炭化水素が下記一般式（３）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。 一般式（３） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１＾１〜Ｒ＾１＾７は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良い。）
  11. （１１）前記環式炭化水素が下記一般式（４）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。 一般式（４） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１＾８〜Ｒ＾２＾１は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良い。）
  12. （１２）前記環式炭化水素が下記一般式（５）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。 一般式（５） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾２＾２〜Ｒ＾２＾５は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良い。）
  13. （１３）前記環式炭化水素が下記一般式（６）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。一般式（６） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾２＾６〜Ｒ＾３＾７は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良く、さらにＲ＾３＾４またはＲ＾３＾５は、Ｒ＾
    ３＾６またはＲ＾３＾７と互いに環を形成していても良
    い。ｎは０または１以上の正数であってＲ＾３＾０〜Ｒ
    ＾３＾３が複数回繰り返される場合には、これらは各々
    同一または異なっていても良い。）
  14. （１４）前記環式炭化水素が下記一般式（７）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。 一般式（７） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾３＾８〜Ｒ＾４＾４は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良い。）
  15. （１５）前記環式炭化水素が下記一般式（８）で示され
    る化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第２項
    から第７項までのいずれかに記載のフォトレジスト組成
    物。 一般式（８） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾４＾５〜Ｒ＾５＾２は水素もしくは炭素数１
    〜３のアルキル基であって、各々同一または異なってい
    ても良い。）
  16. （１６）前記ヒドロキシル基を有する化合物が、下記一
    般式（９）で示される化合物であることを特徴とする特
    許請求の範囲第５項記載のフォトレジスト組成物。 一般式（９） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾５＾３はアルキル基、シクロアルキル基、下
    記一般式、下記一般式（１１）及び下記一般式（１２）
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼（１０） ▲数式、化学式、表等があります▼（１１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１２） の中から選ばれた基であり、さらに上式中Ｒ″およびＲ
    ＾５＾５はアルキレン基、Ｒ＾５＾６は水素、アルキル
    基またはシクロアルキル基、Ｒ＾５＾７は水素、アルキ
    ル基、カルボキシル基、アルコキシ基、ニトロ基または
    アミノ基である。）
  17. （１７）前記アミノ基を有する化合物が、下記一般式（
    １３）で示される化合物であることを特徴とする特許請
    求の範囲第６項もしくは第７項記載のフォトレジスト組
    成物。 一般式（１３） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾５＾８はアルキル基、シクロアルキル基、下
    記一般式（１４）、下記一般式（１５）及び下記一般式
    （１６）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（１４） ▲数式、化学式、表等があります▼（１５） ▲数式、化学式、表等があります▼（１６） の中から選ばれた基であり、さらに上式中Ｒ＾５＾９お
    よびＲ＾６＾０はアルキレン基、Ｒ＾６＾１は水素、ア
    ルキル基またはシクロアルキル基、Ｒ＾６＾２は水素、
    アルキル基、カルボキシル基、アルコキシ基、ニトロ基
    またはアミノ基である。）
  18. （１８）前記感光剤がナフトキノン系ポジ型感光剤であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第１項から第１７項
    までのいずれかに記載のフォトレジスト組成物。
  19. （１９）前記感光剤がビスアジド系ネガ型感光剤である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１項から第１７項ま
    でのいずれかに記載のフォトレジスト組成物。
  20. （２０）前記感光剤の前記アルカリ可溶性樹脂に対する
    配合比が、前記アルカリ可溶性樹脂１００重量部あたり
    前記感光剤が１ないし１００重量部であることを特徴と
    する特許請求の範囲第１項から第１９項までのいずれか
    に記載のフォトレジスト組成物。
  21. （２１）前記アルカリ可溶性樹脂の分子量が１，０００
    ないし２０，０００であることを特徴とする特許請求の
    範囲第１項から第２０項までのいずれかに記載のフォト
    レジスト組成物。
  22. （２２）特許請求の範囲第１項記載のフォトレジスト組
    成物からなるレジスト膜を基板上に形成し、このレジス
    ト膜に対してマスクを通して紫外線またはエキシマレー
    ザーからの活性光線を照射して潜像を形成させ、これを
    アルカリ水溶液で現像することを特徴とするレジストパ
    ターンの形成方法。
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