JP4443408B2 - メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4443408B2 JP4443408B2 JP2004529301A JP2004529301A JP4443408B2 JP 4443408 B2 JP4443408 B2 JP 4443408B2 JP 2004529301 A JP2004529301 A JP 2004529301A JP 2004529301 A JP2004529301 A JP 2004529301A JP 4443408 B2 JP4443408 B2 JP 4443408B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight percent
- reaction
- cptes
- nahs
- added
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 38
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 claims abstract description 24
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 33
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 37
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 15
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 abstract description 5
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 abstract description 5
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M sodium hydrosulfide Chemical compound [Na+].[SH-] HYHCSLBZRBJJCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 76
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 63
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 48
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 45
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000000047 product Substances 0.000 description 30
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 24
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 20
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 15
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 14
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 14
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 13
- -1 alkali metal hydrosulfide Chemical class 0.000 description 12
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000003929 acidic solution Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 7
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Substances [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 6
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N sulfanylsilane Chemical compound S[SiH3] TXDNPSYEJHXKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyldisulfanyl)propyl]silane Chemical group CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FBBATURSCRIBHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000003408 phase transfer catalysis Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](CCCl)(OCC)OCC IKBFHCBHLOZDKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIFBEYQLKOBDQH-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCCl IIFBEYQLKOBDQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJPGPCCOXUQRLT-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCl VJPGPCCOXUQRLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- GJSVPKPZYMHAJI-UHFFFAOYSA-N Cl[Si]([SiH3])(C)CC(C)C Chemical compound Cl[Si]([SiH3])(C)CC(C)C GJSVPKPZYMHAJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006354 Si—S—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- ZMZCDKKVGLGCSJ-UHFFFAOYSA-N chloromethoxy-methoxy-methyl-(2-methylpropyl)silane Chemical compound CC(C)C[Si](C)(OC)OCCl ZMZCDKKVGLGCSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M disodium;sulfanide Chemical compound [Na+].[Na+].[SH-] VDQVEACBQKUUSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 229960000789 guanidine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- PJJJBBJSCAKJQF-UHFFFAOYSA-N guanidinium chloride Chemical compound [Cl-].NC(N)=[NH2+] PJJJBBJSCAKJQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000005358 mercaptoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 description 1
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- BBMHARZCALWXSL-UHFFFAOYSA-M sodium dihydrogenphosphate monohydrate Chemical compound O.[Na+].OP(O)([O-])=O BBMHARZCALWXSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC RKHXQBLJXBGEKF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IUVXCVGGLRYGFE-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl-lambda5-arsane hydrochloride Chemical compound C1=CC=C(C=C1)[AsH](C2=CC=CC=C2)(C3=CC=CC=C3)C4=CC=CC=C4.Cl IUVXCVGGLRYGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZUQEBQRKNZZDO-UHFFFAOYSA-M tetraphenylarsanium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=CC=C1[As+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NZUQEBQRKNZZDO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
CPTES−クロロプロピルトリエトキシシラン
CPTMS−クロロプロピルトリメトキシシラン
MPTAS−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン
MPTES−メルカプトプロピルトリエトキシシラン
TBAB−臭化テトラブチルアンモニウム
TBAC−塩化テトラブチルアンモニウム
TESPD−3,3’ビス(トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド
TESPM−3,3’ビス(トリエトキシシリルプロピル)モノスルフィド
メルカプト官能性アルコキシシランの合成を水性/有機媒体中で相間移動触媒法を用いた反応により行う。反応中に、少量のガス(H2S、CO2およびSO2など)を使用すること、および本発明の他のpH調整剤を使用すること(これらはすべて水相中では性質において酸性である)によって、TESPMおよびTESPDなどの望ましくない最終生成物の生成が最小限に抑えられる。したがって、メルカプトプロピルトリアルコキシシランの収率は、90パーセントを上回るまで有意に増加され得る。述べた通り、(i)クロロプロピルトリエトキシシランと(ii)水硫化ナトリウム溶液および(iii)臭化テトラブチルアンモニウム触媒(TBAB)との反応中にH2SまたはCO2を正圧にすることによって、圧力を保持しないときには約10重量パーセントであることと比較して、1.0重量パーセント未満までTESPMおよびTESPDが最小限に抑えられることも、驚くべきことに発見された。
この実施例の目的は、本発明のpH調整剤をいずれも用いないときにはTESPMの形成が減少しないことを示すことである。したがって、添加漏斗、冷却器、攪拌機および温度計を備える三首丸底フラスコ中で、61.7重量パーセントのNaHSおよび6.07重量パーセントのNa2Sを含有するNaHSフレーク100g(1.26moles)と、脱イオン(DI)水75.62gとを添加した。混合物を70℃に加熱し、混合して、NaHSの明るい黄色の溶液を作製した。次いで、25重量パーセント活性を含有する臭化テトラブチルアンモニウム溶液9.0g(0.0094mole)を添加し、混合した。混合物の色が暗褐色に変化し、触媒中間体の油状層が界面で形成された。次いで、クロロプロピルトリエトキシシラン317.6g(1.32mole)を、500rpmで混合しながら、8分間でゆっくり添加した。反応温度は、発熱によって82℃に上昇した。反応を80℃で3時間行い、混合物を50℃に冷却した後に脱イオン水139.6gを添加して、塩化ナトリウム副生成物を溶解した。相分離を行った後、有機相287.7gを回収した。ガスクロマトグラフィー(GC)分析により決定した通り、有機相は、8.4重量パーセントの未反応CPTES、61.7重量パーセントのメルカプトプロピルトリエトキシシラン、9.6重量パーセントのTESPMおよび17.82重量パーセントのTESPDを含有していた。
この実施例は実施例1の逆であり、生成物がゲル化したことを示す。したがって、実施例1での添加順序を逆にし、水76.2gを水硫化ナトリウムフレーク100.11gに添加することにより、水硫化ナトリウムフレークの溶液を調製した。該溶液を、クロロプロピルトリエトキシシラン317.6gおよび固体臭化テトラブチルアンモニウム3.1gを含有する反応混合物に添加漏斗を介して67℃でゆっくり添加した。NaHS添加の5分間以内に反応混合物はゲル化した。
この実施例の目的は、硫黄の添加によってTESPMの形成が減少するが、TESPDの形成は増加することを示すことである。したがって、実施例1の反応と同様の反応において、NaHSに対する硫黄の比を0.05に増加して、TESPMをTESPDに変換した。NaHSフレーク(146.3g、1.83mole)、硫黄(2.92g、0.092mole)およびDI水100gをガラスジャケット式反応器中で混合し、70℃に加熱した。TBAB溶液(14.4g、0.011mole)を添加し、混合した。直ぐに、油状のオメガ相(oily omega phase)が表面に形成された。CPTES(400g、1.66mole)を約30ml/分の速度で添加した。反応温度が発熱により94℃に上昇し、いくらかのゲルが有機相中で観察された。反応を3時間行った後、有機相380.1g(95重量パーセントのCPTES)を回収した。ガスクロマトグラフィー分析によって、1.5パーセントのCPTES、66.7パーセントのMPTES、3.37パーセントのTESPMおよび27.9パーセントのTESPDが示された。
この実施例は、有機相中でゲル化が起こらないように塩を添加したことを除き、実施例3と同じである。しかしながら、TESPMの形成は減少したが、TESPDの形成は増加した。したがって、過剰量のNaHSフレークを用い、CPTESの添加前にNaCl塩を添加して水相を飽和させた。硫黄/NaHS比は0.05であった。CPTES添加を完了した後、触媒溶液も添加した。したがって、NaHSフレーク(100g、1.248mole)、NaCl87.7g、硫黄(2.0g、0.063mole)および水161.5gを混合し、60℃に加熱した。CPTES(161.5g、0.671mole)をゆっくり添加し、300rpmで混合した。TBAB触媒の25重量パーセント溶液を65℃で反応混合物に添加した。わずかな発熱が観察され、約5時間で反応を完了した。有機相のGC分析によって、該有機相は、0.35重量パーセントのCPTES、62.2重量パーセントのMPTES、1.1重量パーセントのTESPMおよび34.1重量パーセントのTESPDを含有していることが示された。生成物は安定していた。水硫化ナトリウムフレークを用いたとき、副反応のためにMPTES収率は少なくなった。
この実施例は、NaHSフレークに代えてNaHS溶液を用いることにより得られる利益を示す。この実施例において、NaHS溶液を用いることにより、MPTESの収率は増加した一方で、TESPMおよびTESPD副生成物の量は減少した。したがって、NaHSフレークを45重量パーセントのNaHSを含有する溶液と代えた。NaHS溶液は水を含有していたので、水相中で追加の水は用いなかった。したがって、45重量パーセントのNaHS(143g、1.15mole)および50重量パーセントのTBAB溶液(99.6g、0.015mole)を含有する溶液をガラス反応器に添加し、混合し、70℃に加熱した。CPTES(240.8g、1.0mole)をゆっくり添加して、80℃以下で反応温度を保持した。5時間後、反応混合物を室温まで冷却し、水を添加して、水相中でNaCl塩を溶解した。明るい黄色の有機相229gを回収し(CPTESに基づき95重量パーセント)、分析した。GC分析によって、該有機相は、1.6重量パーセントのCPTES、84重量パーセントのMPTES、6.9重量パーセントのTESPMおよび1.4重量パーセントのTESPDを含有していることが示された。生成物中にゲルは見出されなかった。生成物の色を1〜2重量パーセントの活性化カーボンブラックおよびクレーで処理することにより除去した。
この実施例では、NaHS/CPTES比を1.15から1.30に変えた。他の条件はすべて、実施例5と同様にした。反応混合物中のNaHS濃度が増加するのに従って、反応比が増加することが観察された。生成物の組成に有意な変化は観察されなかった。反応は3時間で完了した。GC分析の結果により、0.8重量パーセントのCPTES、82.3重量パーセントのMPTES、6.6重量パーセントのTESPMおよび0.8重量パーセントのTESPDが示された。
反応物の添加順序を逆にしたことを除き、実施例6を繰り返した。したがって、CPTES(240.8g、1.0mole)および固体TBAB(4.82g、0.015mole)をガラス反応器に添加し、混合し、70℃に加熱した。45重量パーセントのNaHS(160.4g、1.30mole)を含有する溶液を、添加漏斗を用いて、約20分間で添加した。NaHSを最初添加する際にわずかな発熱が観察された。反応を4時間後に停止し、副生成物であるNaClを水に溶解した。相分離後に回収した有機相は225.5g(CPTESに基づき93.6重量パーセント)であった。GC分析による生成物の組成により、生成物は、0.83重量パーセントのCPTES、84.2重量パーセントのMPTES、6.79重量パーセントのTESPMおよび0.7重量パーセントのTESPDを含有していることが示された。水硫化ナトリウムの添加順序を変えることにより、MPTESの収率にわずかな改善があった。GC分析により、実施例6でのGC分析より低い含有量の加水分解オリゴマー(hydrolyzed oligomer)も示された。
この実施例の目的は、TESPMの形成をさらに最小限に抑え、MPTESの収率を増加させることである。したがって、HCl溶液を、CPTESとの反応中に周囲温度でNaHS溶液に滴下して添加した。反応において形成された硫化水素ガスを苛性スクラバー(caustic scrubber)中で中和した。45重量パーセントのNaHS溶液150.1g(1.2mole)および50重量パーセントのTBAB触媒溶液9.63g(0.015mole)を反応器に添加し、混合し、65℃に加熱した。1.3モルのHCl溶液100g(0.15mole)およびCPTES240.0g(1.0mole)を、CPTESの添加が15分間で完了するような速度で2つの添加漏斗から同時に添加し、HClの添加を約1時間で完了した。反応を70℃で5時間継続した。GCデータにより11.4重量パーセントの未反応のCPTESが残留していることが示され、したがって、NaHS溶液12.48g(0.1002mole)を再度添加し、5時間反応させた。冷却後に有機相を分離し、0.45ミクロンの濾過ディスクを通して濾過した。有機相のガスクロマトグラフィー(GC)分析により、生成物が2.6重量パーセントのCPTES、91.0重量パーセントのMPTES、1.99重量パーセントのTESPMおよび2.34重量パーセントのTESPDを含有していることが示された。
NaHSO4の50重量パーセント溶液を、NaHS溶液のCPTES0.325g(2.69mole)との反応中にNaHS溶液に添加し、TBAB溶液8.2g(0.0124mole)をガラス反応器に添加し、混合し、75℃に加熱した。CPTESを添加する直前に、NaHSO4溶液の滴下による添加を開始した。CPTES497.8g(2.07mole)を反応混合物に8分間で添加した。NaHSO4溶液の添加を30分間で完了した。5時間の反応後に有機相を分離し、GCにより分析した。生成物は、2.0重量パーセントのCPTES、87.6重量パーセントのMPTES、2.7重量パーセントのTESPMおよび0.7重量パーセントのTESPDを含有していた。生成物を真空下で蒸留し、用いたCPTESの量に基づき約84パーセントの収率で95.4パーセントの純粋なMPTESを与えた。
ホウ酸をこの実施例で用い、反応混合物のpHを低下させた。実施例9と比較してCPTESおよびNaHSの添加順序も逆にして、任意の可能性のあるゲル形成を最小限に抑えた。したがって、CPTES206.3g(0.86mole)、固体TBAB4.13g(0.013mole)およびH3BO351.4g(0.83mole)をジャケット式ガラス反応器中で混合し、65℃に加熱した。NaHS溶液100.0g(0.83mole)を30分間の時間間隔にわたって滴下漏斗を用いてゆっくり添加した。NaHSおよびホウ酸の反応による泡(froth)および泡立ち(foaming)が観察された。3〜4時間CPTESと反応させた後、追加のNaHS溶液およびTBAB触媒を添加した。6時間の全反応時間の後、反応混合物を冷却し、濾過し、相分離した。GC分析による生成物の組成を決定したところ、1.2重量パーセントのCPTES、89.3重量パーセントのMPTES、2.8重量パーセントのTESPMおよび0.2重量パーセントのTESPDであった。
この実施例ではリン酸二水素ナトリウム一水和物をpH調整剤として用い、生成物中のTESPMの形成を減少させた。したがって、NaH2PO4・H2O27.6g(0.2mole)を反応器に添加した。NaHSの45重量パーセント溶液157.4g(1.30mole)をゆっくり添加し、NaHSおよびリン酸二水素の間の任意の激しい反応を回避した。H2Sガスが反応から発生し、H2Sガスを苛性スクラバー中でトラップした。TBAB溶液9.63g(0.015mole)を添加し、5分間混合した。触媒中間体の非常に暗い緑色のオメガ相が直ちに形成された。反応混合物を70℃にゆっくり加熱し、CPTES240.8g(1.0mole)を15分間にわたって添加した。反応を70℃で4時間継続した。冷却および相分離を行うと、227.6グラムの有機相が得られた。有機相の収率は、反応で用いたCPTESの量に基づき94.5パーセントであった。有機相のGCによる結果では、2.8パーセントのCPTES、89.6パーセントのMPTES、4.5パーセントのTESPMおよび1.15パーセントのTESPDが示された。
この実施例では、酢酸ナトリウム三水和物をNaHS溶液と混合して、水相のpHを減少させ、TESPMの形成を最小限にさせた。したがって、等モル量の酢酸ナトリウムおよびNaHSを反応器に添加し、混合した。pHの変化は観察されなかった。実施例8〜11で先に記載したように、わずかなモル過剰のCPTESを用い、TBAB触媒の存在下において反応を行った。しかしながら、最終生成物のGCの結果では、TESPMの減少に対する効果は示されなかった。生成物は、83.1重量パーセントのMPTESおよび7.38重量パーセントのTESPMを含有していた。
NaHS溶液をCPTESとTBAB触媒の存在下で反応させる前に、NaHS溶液を含有する圧力反応器を室温においてH2Sガスで加圧して10psi(69kPa)とした。水中のH2SガスはpH4.2であり、水相中でNa2S副生成物と反応してNaHSを与えた。9以下でpHを保持することによりNa2Sの形成も妨げられた。反応中のH2Sを正圧とすることより、任意のアルコキシ基の加水分解およびポリマー形成も最小限に抑えられた。
50psi/345kPaのH2S圧力を除き、その他の条件はすべて、実施例13と同じにした。反応を5時間で終了させた。生成物の組成は、0.4重量パーセントのCPTES、93.0重量パーセントのMPTES、1.9重量パーセントのTESPMおよび0.08重量パーセントのTESPDであった。生成物の収率は93.3パーセントであった。
100psi/690kPaのH2S圧力を除き、その他の条件はすべて、実施例13および14と同じにした。5時間反応させた後の生成物の組成は、0.5重量パーセントのCPTES、89.8重量パーセントのMPTES、0.8重量パーセントのTESPMおよび0.3重量パーセントのTESPDであった。収率は95.3パーセントであった。H2SガスによるpHの調節によって任意の副生成物の形成を抑制することにより、MPTESの収率が改善されることが判った。
反応物の添加順序を逆にしたことを除き、この実施例は実施例14と同じにした。さらに、固体TBAB触媒を用いて、CPTESの加水分解を回避させた。したがって、CPTES240.8g(1.0mole)および固体TBAB触媒4.8g(0.015mole)を圧力反応器に装填(load)し、反応器を密封した。圧力が50psi/345kPaで安定するまで、反応器をH2Sで加圧した。H2Sバルブを閉め、内容物を500rpmで混合しながら、反応混合物を70℃に加熱した。次いで、NaHS溶液139.2g(1.15mole)を圧力シリンジポンプを用いて約10ml/分の速度で反応器にゆっくり添加した。発熱反応により、反応温度が80℃に上昇した。80℃で5時間反応させた後、混合物を30℃に冷却し、任意の塩副生成物を脱イオン水69gに溶解した。冷却および相分離を行うと、229グラムの有機相が得られた。有機相の収率は、反応で用いたCPTESの量に基づき95.4パーセントであった。有機相のGC結果により、0.9パーセントのCPTES、93.3パーセントのMPTES、0.4パーセントのTESPMおよび1.0パーセントのTESPDが示された。したがって、逆の添加方法のこの実施例でH2Sガスを用いたとき、MPTESの収率が増加することが判った。
NaHS溶液をCPTESとTBAB触媒の存在下で反応する前に、NaHS溶液を含有する圧力反応器を室温においてCO2ガスで加圧して25psi/173kPaとした。水中のCO2ガスはカルボン酸が形成されたため弱酸性であり、該カルボン酸がNaHS溶液中の任意のNa2S副生成物と順に反応してTESPMの形成を最小限に抑え、MPTESの全収率を改善した。反応中のCO2の正圧を保持することにより、任意のアルコキシ基の加水分解およびポリマー形成も最小限になった。
CO2圧力を50psi/345kPaに増加したことを除き、他の条件はすべて実施例16と同じにした。相分離後、有機相をGCにより分析したところ、該有機相は、0.5重量パーセントのCPTES、88.8重量パーセントのMPTES、1.3重量パーセントのTESPMおよび2.6重量パーセントのTESPDを含有していた。反応中にCO2を50psi/345kPaで継続的に反応器に供給したとき、同様の良好な結果が得られた。
100psi/690kPaのCO2圧力で反応を行ったことを除き、実施例18を繰り返した。反応混合物を70℃に加熱したとき、圧力が135psi/932kPaに増加した。NaHSが反応中に消費されたため、CPTES添加中に圧力が低下した。反応完了後に有機相を単離し、分析した。生成物は、2.3重量パーセントのCPTES、88.2重量パーセントのMPTES、0.9重量パーセントのTESPMおよび2.8重量パーセントのTESPDを含有していた。活性化カーボンブラックで処理することにより、生成物の色を除去した。
50psi/345kPaのCO2ガス圧力下で反応を行ったことを除き、実施例16を繰り返した。NaClおよびNaHCO3塩が反応中に生成した。冷却および相分離を行うと、有機相222.8グラムが得られた。有機相の収率は、反応で用いたCPTESの量に基づき92.8パーセントであった。有機相のGCの結果により、0.8パーセントのCPTES、92.4パーセントのMPTES、1.2パーセントのTESPMおよび0.5パーセントのTESPDが示された。
Claims (3)
- メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法であって、以下の順次工程:
第一に、(i)pH調整剤および(ii)式M2SnまたはMHSのスルフィド含有化合物(式中、Mはアルカリ金属またはアンモニウム基であり、Hは水素であり、nは1〜6の整数である)を水相中で混合してpHが4〜9の範囲の前記水相を与えること、
第二に、(iii)相間移動触媒を前記水相に添加すること、
第三に、(iv)ハロアルキルアルコキシシランを前記水相に添加してメルカプトアルキルアルコキシシランおよび水溶性副生成物を含有する反応混合物を形成すること、および
第四に、前記所望のメルカプトアルキルアルコキシシランを前記水溶性副生成物から分離すること
を含む前記方法。 - メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法であって、以下の順次工程:
第一に、(i)ハロアルキルアルコキシシラン、(ii)相間移動触媒および(iii)無水pH調整剤を一緒に混合すること、
第二に、式M2SnまたはMHS(式中、Mはアルカリ金属またはアンモニウム基を表し、Hは水素を表し、nは1〜6の整数である)のスルフィド含有化合物または前記化合物の混合物の水溶液を添加して、メルカプトアルキルアルコキシシランおよび水溶性副生成物を含有する、4〜9の範囲のpHを有する水性反応混合物を形成すること、
第三に、前記所望のメルカプトアルキルアルコキシシランを前記水溶性副生成物から分離すること
を含む前記方法。 - 前記ハロアルキルアルコキシシランが、式(RO)3−mRmSi−Alk−X(式中、各Rは、1〜12個の炭素原子を含有する炭化水素基であり;mは、0、1または2であり;Alkは、1〜18個の炭素原子を含有する二価の炭化水素基を表し;およびXは、塩素、臭素またはヨウ素である)を有する請求項2に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/219,080 US6680398B1 (en) | 2002-08-16 | 2002-08-16 | Method of making mercaptoalkylalkoxysilanes |
PCT/US2003/025101 WO2004016629A1 (en) | 2002-08-16 | 2003-08-11 | Method of making mercaptoalkylalkoxysilanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005535721A JP2005535721A (ja) | 2005-11-24 |
JP4443408B2 true JP4443408B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=30000163
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004529301A Expired - Lifetime JP4443408B2 (ja) | 2002-08-16 | 2003-08-11 | メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6680398B1 (ja) |
EP (1) | EP1534719B1 (ja) |
JP (1) | JP4443408B2 (ja) |
KR (1) | KR100953282B1 (ja) |
CN (1) | CN1319977C (ja) |
AT (1) | ATE321056T1 (ja) |
AU (1) | AU2003264043A1 (ja) |
DE (1) | DE60304214T2 (ja) |
WO (1) | WO2004016629A1 (ja) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002249852A1 (en) * | 2000-11-09 | 2002-08-12 | Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Enhancement of immune response to vaccine by interferon alpha |
US20040227127A1 (en) * | 2003-01-31 | 2004-11-18 | Boswell Lisa Marie | Hydrophobing silica with organosilicon compounds and blends thereof |
US8008520B2 (en) * | 2003-07-03 | 2011-08-30 | Momentive Performance Materials Inc. | Process for the preparation of thiocarboxylate silane |
DE102005020534B4 (de) | 2004-09-07 | 2006-07-06 | Degussa Ag | Verfahren zur Herstellung von Mercaptoorganyl(alkoxysilanen) |
CN1746175B (zh) * | 2004-09-11 | 2010-06-23 | 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司 | 巯基烷基烷氧基硅烷的制备方法 |
US6998452B1 (en) | 2005-01-14 | 2006-02-14 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Controlled free radical agent for nanocomposite synthesis |
DE102005038791A1 (de) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Degussa Ag | Organosiliciumverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
US7151188B1 (en) | 2005-11-16 | 2006-12-19 | General Electric Company | Process for the production of mercaptoalkylalkoxysilanes |
DE102005060122A1 (de) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von (Mercaptoorganyl)alkylpolyethersilanen |
DE102006027235A1 (de) * | 2006-06-09 | 2008-01-17 | Evonik Degussa Gmbh | Kautschukmischungen |
DE102006041356A1 (de) * | 2006-09-01 | 2008-03-20 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
DE102007037556A1 (de) | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von alkylpolyethersubstituierten Mercaptosilanen |
CN101423528B (zh) * | 2007-11-02 | 2012-07-25 | 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司 | 巯基烷基烷氧基硅烷的制备方法 |
DE102007062282A1 (de) * | 2007-12-21 | 2009-06-25 | Saltigo Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Thiodiglycolsäuredialkylestern |
DE102008035623A1 (de) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organosilanen |
CN102241701B (zh) * | 2011-05-25 | 2014-03-12 | 泰山医学院 | 一种γ-巯丙基三乙氧基硅烷的合成方法 |
JP2013181029A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-12 | Daiso Co Ltd | 高純度のメルカプトシラン化合物の製造法。 |
JP2013199441A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルキルチオールの製造方法 |
JP2014108923A (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Daiso Co Ltd | 有機珪素化合物 |
CN103408582B (zh) * | 2013-09-04 | 2015-12-09 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种3-巯丙基三乙氧基硅烷偶联剂的制备方法 |
CN104926854B (zh) * | 2014-03-23 | 2018-05-11 | 浙江新安化工集团股份有限公司 | 一种常压低温水相制备巯丙基三乙氧基硅烷的方法 |
EP3177280B1 (en) * | 2014-08-07 | 2020-02-26 | Arkema, Inc. | Synthesis of 2,2,2-trifluoroethanethiol |
CN104926857B (zh) * | 2015-06-25 | 2017-10-31 | 嘉兴学院 | 3‑巯丙基三乙氧基硅烷的合成方法 |
CN109320542A (zh) * | 2018-11-13 | 2019-02-12 | 江西宏柏新材料股份有限公司 | 含巯丙基的硅烷偶联剂的双釜串联合成方法 |
CN115215898A (zh) * | 2022-07-29 | 2022-10-21 | 上海橡实化学有限公司 | 一种生产巯丙基三乙氧基硅烷的方法 |
CN115873234A (zh) * | 2022-11-25 | 2023-03-31 | 广西珀源新材料有限公司 | 一种用于量产多元硫醇的方法及其制备的多元硫醇 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1102251A (en) | 1964-02-04 | 1968-02-07 | Union Carbide Corp | Treatment of metal surfaces |
US3590065A (en) | 1969-07-18 | 1971-06-29 | Dow Corning | Method of preparing mercaptoalkylalkoxy silanes |
US3849471A (en) | 1972-12-14 | 1974-11-19 | Union Carbide Corp | Process for reacting weak acids with chloroalkyl substituted silicon compounds |
US3890213A (en) | 1973-08-28 | 1975-06-17 | Phillips Petroleum Co | Mercaptoalkyltrialkoxysilane production |
US5405985A (en) | 1994-07-08 | 1995-04-11 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US5840952A (en) | 1995-11-02 | 1998-11-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method of manufacturing 3-mercaptopropylalkoxy silane |
US5583245A (en) | 1996-03-06 | 1996-12-10 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
US6384256B1 (en) | 2001-06-29 | 2002-05-07 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of sulfur-containing organosilicon compounds |
-
2002
- 2002-08-16 US US10/219,080 patent/US6680398B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-11 WO PCT/US2003/025101 patent/WO2004016629A1/en active IP Right Grant
- 2003-08-11 JP JP2004529301A patent/JP4443408B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-08-11 AU AU2003264043A patent/AU2003264043A1/en not_active Abandoned
- 2003-08-11 EP EP03788381A patent/EP1534719B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2003-08-11 AT AT03788381T patent/ATE321056T1/de not_active IP Right Cessation
- 2003-08-11 KR KR1020057002542A patent/KR100953282B1/ko active IP Right Grant
- 2003-08-11 DE DE60304214T patent/DE60304214T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-08-11 CN CNB03818799XA patent/CN1319977C/zh not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003264043A1 (en) | 2004-03-03 |
DE60304214D1 (de) | 2006-05-11 |
KR100953282B1 (ko) | 2010-04-16 |
DE60304214T2 (de) | 2007-03-29 |
CN1319977C (zh) | 2007-06-06 |
WO2004016629A1 (en) | 2004-02-26 |
KR20050044903A (ko) | 2005-05-13 |
ATE321056T1 (de) | 2006-04-15 |
EP1534719A1 (en) | 2005-06-01 |
EP1534719B1 (en) | 2006-03-22 |
CN1675228A (zh) | 2005-09-28 |
JP2005535721A (ja) | 2005-11-24 |
US6680398B1 (en) | 2004-01-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4443408B2 (ja) | メルカプトアルキルアルコキシシランの製造方法 | |
US5596116A (en) | Process for the preparation of silane polysulfides | |
JP4372542B2 (ja) | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
EP0705838B1 (en) | Process for the preparation of silane polysulfides | |
JP3543352B2 (ja) | 含硫黄有機珪素化合物の製造方法 | |
JP4268039B2 (ja) | 緩衝相間移動触媒法を用いるイオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
EP1644387B1 (en) | Process for the preparation of thiocarboxylate silane | |
EP1956025A1 (en) | Aqueous catalytic process for the preparation of thiocarboxylate silane | |
JP4372541B2 (ja) | イオウ含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP2004521946A (ja) | 硫黄含有有機シロキサン化合物の調製方法 | |
EP1960408B1 (en) | Process for the production of mercaptoalkylalkoxysilanes | |
JP4386189B2 (ja) | スルフィド鎖含有有機珪素化合物の製造方法 | |
JP4420223B2 (ja) | スルフィド鎖含有有機珪素化合物の製造方法 | |
JPH0416476B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060413 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090310 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090414 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20090714 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090722 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090731 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091215 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4443408 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |