JP4443393B2 - 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 - Google Patents
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Description
特許文献1には、ガラス基板の短辺方向に往復動可能とされたノズルからガラス基板表面にレジスト液を所定幅で供給し、この所定幅で供給されたレジスト液をガラス基板の長辺方向に移動するプレート(スキージ)にて均一な厚さに均す内容が開示されている。
工程1:トレイの凹部に基板を嵌め込む。
工程2:塗布液供給ノズルから塗布液をトレイの上面で凹部から外れた箇所に供給するとともに、トレイを所定角度回転させるかノズルを移動させることで、アプリケータの移動方向を基準として基板よりも上流側に円弧状または直線状の塗布液だまりを形成する。
工程3:アプリケータを基板に向かって移動させ前記塗布液だまりの塗布液を基板上面に押し広げる。
工程4:トレイの凹部から基板を払い出す。
工程5:基板が払い出されたトレイの上面に洗浄液を供給しつつトレイを回転して洗浄せしめる。
工程6:洗浄液が飛散してから更に回転を継続して乾燥せしめる。
また、本発明によれば従来の回転塗布に比べて無駄になる塗布液の量が大幅に少なくなる。
また、本発明によれば従来のスリットノズルに比較して機構が簡単なため均一な厚みの塗膜を形成するための微妙な調整を必要としない。
更に、本発明によれば塗布から洗浄までをトレイを移動することなく行うことも可能で、装置全体をコンパクトにすることができる。
トレイ1には基板Wを嵌め込むための凹部11が形成されている。この凹部11は平面視で基板Wと相似で、深さは基板Wの厚みと略等しくされている。
Claims (7)
- 回転可能なトレイと塗布液供給ノズルと塗布液を押し広げるアプリケータとを備えた塗布装置であって、前記トレイには基板収納用の凹部が形成され、この凹部は基板を収納した状態で基板上面とトレイ上面とが面一になる深さで且つ基板と相似形とされ、また前記塗布液供給ノズルは前記凹部を外したトレイの上方に配置され、更に前記アプリケータは前記凹部に収納された基板の上面との間に隙間を形成した状態で相対的に水平方向に移動可能とされていることを特徴とする塗布装置。
- 請求項1に記載の塗布装置において、前記アプリケータはスキージまたはローラであることを特徴とする塗布装置。
- 請求項1に記載の塗布装置において、前記トレイの凹部内には昇降可能なスピンナーチャックが設けられていることを特徴とする塗布装置。
- 請求項1乃至請求項3に記載の塗布装置を用いた塗布方法であって、以下の工程を含むことを特徴とする塗布方法。
工程1:トレイの凹部に基板を嵌め込む。
工程2:塗布液供給ノズルから塗布液をトレイの上面で凹部から外れた箇所に供給するとともに、トレイを所定角度回転させるかノズルを移動させることで、アプリケータの移動方向を基準として基板よりも上流側に円弧状または直線状の塗布液だまりを形成する。
工程3:アプリケータを基板に向かって移動させ前記塗布液だまりの塗布液を基板上面に押し広げる。
工程4:トレイの凹部から基板を払い出す。 - 請求項4に記載の塗布方法であって、前記工程に引き続いて以下の工程を行うことを特徴とする塗布方法。
工程5:基板が払い出されたトレイの上面に洗浄液を供給しつつトレイを回転して洗浄せしめる。
工程6:洗浄液が飛散してから更に回転を継続して乾燥せしめる。 - 基板のローダ/アンローダ部、基板表面への塗布部、基板加熱部、基板の裏面又は端面の洗浄部及びこれら各部との基板の受け渡しを行うロボットを備えた被膜形成装置であって、前記塗布部には請求項1乃至請求項3に記載の塗布装置が配置されていることを特徴とする被膜形成装置。
- 請求項6に記載の被膜形成装置において、前記基板加熱部または洗浄部にも塗布部に設けたトレイと同じトレイを配置していることを特徴とする被膜形成装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004344819A JP4443393B2 (ja) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 |
KR1020050114165A KR101217442B1 (ko) | 2004-11-29 | 2005-11-28 | 도포장치, 도포방법 및 피막형성장치 |
US11/288,991 US7611581B2 (en) | 2004-11-29 | 2005-11-29 | Coating apparatus, coating method and coating-film forming apparatus |
TW094141912A TWI358326B (en) | 2004-11-29 | 2005-11-29 | Coating apparatus, coating method and coating-film |
US12/584,103 US8132526B2 (en) | 2004-11-29 | 2009-08-31 | Coating apparatus, coating method and coating-film forming appratus |
US13/364,739 US8449945B2 (en) | 2004-11-29 | 2012-02-02 | Coating apparatus, coating method and coating-film forming apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004344819A JP4443393B2 (ja) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006150233A JP2006150233A (ja) | 2006-06-15 |
JP4443393B2 true JP4443393B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=36567910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004344819A Active JP4443393B2 (ja) | 2004-11-29 | 2004-11-29 | 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US7611581B2 (ja) |
JP (1) | JP4443393B2 (ja) |
KR (1) | KR101217442B1 (ja) |
TW (1) | TWI358326B (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4443393B2 (ja) | 2004-11-29 | 2010-03-31 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 |
JP5013400B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2012-08-29 | 国立大学法人東北大学 | 塗布膜コーティング装置 |
KR100818614B1 (ko) * | 2007-04-09 | 2008-04-02 | 주식회사 나래나노텍 | 플레이트-투-플레이트 인쇄방식을 이용한 반도체 웨이퍼코팅용 장치 및 이를 이용한 반도체 웨이퍼 코팅방법 |
JP5080178B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2012-11-21 | 日本電波工業株式会社 | レジスト塗布装置 |
MX2015000100A (es) | 2012-06-25 | 2015-04-10 | 3M Innovative Properties Co | Dispositivos para revestir superficies contorneadas. |
JP6203098B2 (ja) * | 2013-03-29 | 2017-09-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2016122756A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 株式会社ディスコ | 露光装置 |
US10422754B2 (en) * | 2015-03-05 | 2019-09-24 | Khalifa University of Science and Technology | Online measurement of black powder in gas and oil pipelines |
US20190375670A1 (en) * | 2017-12-13 | 2019-12-12 | Eli Altaras | Digital device protective case method and device |
CN109712919B (zh) * | 2019-02-15 | 2024-05-28 | 山东才聚电子科技有限公司 | 一种为晶圆填充玻璃粉的装置 |
JP6847560B1 (ja) * | 2019-12-20 | 2021-03-24 | 中外炉工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
KR102526188B1 (ko) * | 2021-12-01 | 2023-04-26 | (주)디아이비 | 코팅용 캐리어필름과 이를 이용한 레진 코팅방법 및 장치 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR970007060B1 (ko) * | 1989-02-17 | 1997-05-02 | 다이닛뽕 인사쓰 가부시끼가이샤 | 점성액체의 도포방법 및 도포장치 |
US5219615A (en) * | 1989-02-17 | 1993-06-15 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for forming a coating of a viscous liquid on an object |
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JPH03148111A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-24 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置製造用現像装置 |
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JPH07289973A (ja) | 1994-04-21 | 1995-11-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JPH07335532A (ja) | 1994-06-13 | 1995-12-22 | Fujitsu Ltd | 樹脂の回転塗布方法 |
JPH0822952A (ja) | 1994-07-07 | 1996-01-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板回転式現像処理方法及びその装置 |
JP3148111B2 (ja) * | 1995-10-12 | 2001-03-19 | トヨタ車体株式会社 | 自動車のマッドガード |
US5709593A (en) * | 1995-10-27 | 1998-01-20 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for distribution of slurry in a chemical mechanical polishing system |
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US6544590B1 (en) * | 2000-01-17 | 2003-04-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid coating method, apparatus and film-forming method for producing the same employing excess coating removing unit having absorbent fabric on porous structure |
JP2001269610A (ja) | 2000-01-17 | 2001-10-02 | Canon Inc | 塗布方法、塗布装置および被膜の作製方法 |
JP2002059060A (ja) | 2000-08-22 | 2002-02-26 | Canon Inc | 塗布方法、塗布装置および被膜の作製方法 |
JP4118659B2 (ja) | 2001-12-03 | 2008-07-16 | 東京応化工業株式会社 | 基板用トレイ |
JP3865669B2 (ja) | 2002-08-30 | 2007-01-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置及び液処理方法 |
JP3897694B2 (ja) | 2002-12-27 | 2007-03-28 | 東京応化工業株式会社 | 基板用トレイ |
JP4443393B2 (ja) | 2004-11-29 | 2010-03-31 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置、塗布方法および被膜形成装置 |
-
2004
- 2004-11-29 JP JP2004344819A patent/JP4443393B2/ja active Active
-
2005
- 2005-11-28 KR KR1020050114165A patent/KR101217442B1/ko active IP Right Grant
- 2005-11-29 US US11/288,991 patent/US7611581B2/en active Active
- 2005-11-29 TW TW094141912A patent/TWI358326B/zh active
-
2009
- 2009-08-31 US US12/584,103 patent/US8132526B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-02-02 US US13/364,739 patent/US8449945B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100009084A1 (en) | 2010-01-14 |
US20060115992A1 (en) | 2006-06-01 |
KR20060059827A (ko) | 2006-06-02 |
JP2006150233A (ja) | 2006-06-15 |
KR101217442B1 (ko) | 2013-01-02 |
US20120141682A1 (en) | 2012-06-07 |
US8132526B2 (en) | 2012-03-13 |
US7611581B2 (en) | 2009-11-03 |
TW200626247A (en) | 2006-08-01 |
US8449945B2 (en) | 2013-05-28 |
TWI358326B (en) | 2012-02-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070809 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091209 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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