JP4354243B2 - 被処理体の昇降機構及び処理装置 - Google Patents
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Description
処理装置20は、アルミニウムやアルミニウム合金などで構成された処理容器22を有している。この処理容器22の天井部には、必要な処理ガス、例えばTiCl4やNH3などを導入するためにガス供給手段であるシャワーヘッド構造24が設けられている。シャワーヘッド構造24の下面には多数のガス噴射口26A,26Bが設けられ、これらのガス噴射口から上記処理ガスが処理空間Sに噴射されるようになっている。
図3は、上記とは異なる構成例である第2実施形態の構造を示す拡大部分断面図である。この第2実施形態において、ピン挿通孔50′と延長スリーブ68′以外は上記実施形態と同様であるので、それらの説明は省略する。この構成例において、ピン挿通孔50′には、その内部に段部50a′が形成されている。この段部50a′は、ピン挿通孔50′の上部開口の近傍(直下)に設けられている。そして、段部50a′は上方に向いた段差面を有している。一方、延長スリーブ68′は、上下に貫通したスリーブ孔68a′を有するとともに、上記段部50a′に係合可能な鍔部68u′を有している。そして、延長スリーブ68′は、その鍔部68u′が段部50a′に係合した状態でピン挿通孔50′に挿通されている。延長スリーブ68′は、ピン挿通孔50′の下端から下方へと突出している。
次に、上記第1実施形態及び第2実施形態に共通する作用効果について詳細に説明する。図4(a)には、従来の被処理体の昇降機構を示し、図4(b)には本実施形態(第2実施形態)を示す。なお、図4(b)には第2実施形態のみを示すが、以下の説明のうち第1実施形態にも共通な箇所には第1実施形態の参照符号も併せて記載する。
図6は、本発明に係る第3実施形態の構成を示す拡大部分断面図である。この実施形態では、リフターピン62以外の構成は上記第2実施形態と同様であるので、それら同様の部分については説明を省略する。この実施形態において、リフターピン62は、その外面の中間部分に環状凹部62dを有している点で上記各実施形態と異なり、その他の部分については上記リフターピン52と同様である。
次に、図8を参照して本発明に係る第4実施形態について説明する。図8(a)は、本実施形態の構成を示す拡大部分断面図である。この実施形態では、リフターピン72を除いた他の構成は上記第2実施形態と同様であるので、同一部分には同一符号を付し、同様部分の説明は省略する。
次に、図9を参照して本発明に係る第5実施形態について説明する。この実施形態のリフターピン82には、図9(a)及び(b)に示すように、第3実施形態と同様に構成された環状凹部82dが形成されている。そして、この環状凹部82dの上方に表面溝82xが形成されている。より具体的には、図9(c)に示すように表面溝82xは上方から環状凹部82dに連通している。この環状凹部82dは、上記と同様にリフターピン82の外周面のうち最も堆積物の付着量が多くなると予想される領域(第4実施形態の領域Xaと同じ領域)に形成され、堆積物の付着によるリフターピン82の動作不良を防止する効果を奏する。本実施形態では、環状凹部82dに表面溝82xが上方から連通しているため、表面溝82xを通して拡散したクリーニングガスによって環状凹部82d内に付着した堆積物をより効率的に(より短時間で)除去することができる。
次に、図10を参照して本発明に係る第6実施形態について説明する。この実施形態では、リフターピンを省略した状態を表す図10(a)に示すように、リフターピンが挿通可能に構成されたスリーブ孔98aの上部内周面に表面溝92xが形成されている点で、上記第4実施形態及び第5実施形態とは異なる。この表面溝92xは、スリーブ孔98aの上部開口縁から下方に伸びている。表面溝92xの下端は、スリーブ孔98aの下部開口縁に達することなく、スリーブ孔98aの中間部分に配置されている。すなわち、表面溝92xは、スリーブ孔98aの上端から中央部にかけて形成されていることが好ましい。
Claims (12)
- 処理容器内にて処理される被処理体を載置する載置台に上下方向に貫設されたピン挿通孔と、該ピン挿通孔に対して昇降自在に挿通されるリフターピンと、該リフターピンを駆動して前記ピン挿通孔から前記リフターピンを出没動作させる駆動手段とを有し、前記リフターピンの出没動作によって前記被処理体を昇降可能とした被処理体の昇降機構において、
前記載置台には、その底部から前記ピン挿通孔と同軸に下方へ突出するように構成された延長スリーブが設けられ、該延長スリーブ内に前記リフターピンが挿通され、
前記リフターピンの外面は前記ピン挿通孔若しくは前記延長スリーブに対して上部接触点と下部接触点の2点で接触し、前記リフターピンの動作範囲の全体に亘って前記下部接触点が前記延長スリーブの下端内縁より上方内面上に位置し、
前記リフターピンは、上軸部と、該上軸部の下方に接続され下方に向けて漸次縮径するテーパ状の外面を備えた下軸部とを有し、前記上軸部と前記下軸部との境界位置が前記下部接触点となるように構成されていることを特徴とする被処理体の昇降機構。 - 前記ピン挿通孔の下部開口縁に前記延長スリーブの上端が接続されていることを特徴とする請求項1に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記延長スリーブは、前記設置台と別体で、前記載置台に対して着脱可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記延長スリーブは、前記ピン挿通孔の内部に挿通され、前記ピン挿通孔の内部から下方外部へ突出していることを特徴とする請求項1又は3に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記ピン挿通孔の内部に上方へ向いた段部が設けられ、該段部にて前記延長スリーブが下側から規制され、前記延長スリーブにおける前記載置台の底部から下方へ突出した部分が固定部材に固定され、該固定部材が前記底部により上側から規制されていることを特徴とする請求項4に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記リフターピンは、前記下軸部が前記上軸部より小径に構成され、前記上軸部と前記した軸部の間に段差部が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記リフターピンの下端部は、前記駆動手段に設けられた駆動面に対して離間可能な状態で当接支持されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記処理容器と、前記載置台と、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の被処理体の昇降機構とを有することを特徴とする処理装置。
- 処理容器内にて処理される被処理体を載置する載置台に上下方向に貫設されたピン挿通孔と、該ピン挿通孔に対して昇降自在に挿通されるリフターピンと、該リフターピンを駆動して前記ピン挿通孔から前記リフターピンを出没動作させる駆動手段とを有し、前記リフターピンの出没動作によって前記被処理体を昇降可能とした被処理体の昇降機構において、
前記リフターピンの外面の軸線方向の所定位置に環状凹部が設けられていることを特徴とする被処理体の昇降機構。 - 前記載置台には、その底部から前記ピン挿通孔と同軸に下方へ突出するように構成された延長スリーブが設けられ、該延長スリーブ内に前記リフターピンが挿通されることを特徴とする請求項9に記載の被処理体の昇降機構。
- 前記処理容器と、前記載置台と、請求項9又は10に記載の被処理体の昇降機構とを有することを特徴とする処理装置。
- 前記環状凹部は、前記リフターピンが降下して前記載置台の載置面上に前記被処理体が配置される処理時において前記ピン挿通孔若しくは前記延長スリーブの内部に配置される位置に設けられることを特徴とする請求項11に記載の処理装置。
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