JP4319221B2

JP4319221B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP4319221B2
Application number: JP2006510929A
Authority: JP
Inventors: 民夫遠藤; 領一大蔵; 達朗吉田; 喜重瀧川
Original assignee: リアライズ・アドバンストテクノロジ株式会社
Priority date: 2004-03-12
Filing date: 2005-03-07
Publication date: 2009-08-26
Anticipated expiration: 2025-03-07
Also published as: CN100466190C; US20070272357A1; KR100837711B1; KR20060118612A; EP1727191A1; CN1930667A; JPWO2005088691A1; TW200537613A; WO2005088691A1

Description

本発明は、基板処理装置に関し、特に、基板を処理した後の各種処理液を分別回収するものに用いて好適なものである。

従来、半導体素子等を基板に形成する各種製造プロセスにおいて、各基板毎にウェットエッチング、ウェット洗浄等の薬液処理を行う枚葉式の基板処理装置が用いられる。この基板処理装置は、位置固定された基板を回転（スピン）させながら各種薬液を供給して当該基板に各種処理を行うものであり、基板を処理した薬液は、回転の遠心力により基板から飛散して基板側方に設けられた回収槽に回収されて、排出処理される。このとき、基板から飛散した薬液は、周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収槽に回収される。

従来の基板処理においては、基板を処理した薬液を回収するときに、酸の薬液とアルカリの薬液とが混合して化学反応により塩が発生し、それがパーティクルの原因となってしまうのを避けるため、酸の薬液による処理とアルカリの薬液による処理とを別の基板処理装置で行っている。

ここで、従来における基板処理装置の一例として、下記に示す特許文献１を挙げて、前述した薬液の回収方法について説明する。
図１８は、従来例の基板処理装置の概略図であり、図１８Ａにその断面図、図１８Ｂにその上面図を示す。

図１８に示すように、１０１は被処理対象である基板、１０２は基板１０１に各種薬液を供給する薬液供給ノズル、１０３は基板１０１を保持する基板チャック部、１０４は基板チャック部１０３に接続されているシャフト、１０５は基板チャック部１０３で保持された基板１０１をシャフト１０４の軸方向に回転させるモータ、１０６〜１０８は各種薬液毎に回収するために設けられた回収ポット、１０９〜１１１は各回収ポット１０６〜１０８に設けられた排液機構、１１２は基板チャック部１０３の高さを上下方向に移動させる昇降装置である。

従来例に示す基板処理装置は、基板チャック部１０３で基板１０１を保持し、モータ１０５を駆動させて基板１０１をシャフト１０４の軸方向に回転させながら薬液供給ノズル１０２から基板１０１上に薬液を供給して、基板１０１を処理する。そして、モータ１０５の回転により基板１０１から飛散した薬液は、回収ポット１０６に回収される。また、回収された薬液は排液機構１０９から排出される。

続いて、昇降装置１１２を駆動させて基板１０１の位置を回収ポット１０７の入り口の位置に移動させる。そして、モータ１０５を駆動させて基板１０１を回転させながら薬液供給ノズル１０２から基板１０１上に別の薬液を供給して、基板１０１を処理し、処理した薬液を回収ポット１０７で回収する。続いて、昇降装置１１２を駆動させて基板１０１の位置を回収ポット１０８の入り口の位置に移動させて、前述と同様にさらに別の薬液で基板１０１を処理して、その処理した薬液を回収ポット１０８で回収する。ここで、回収ポット１０６〜１０８に回収される基板１０１を処理した各種薬液は、周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収される。以上のようにすることで、基板１０１を処理した複数の薬液を分別して回収している。

特開平５−２８３３９５号公報

しかしながら、上記した従来の基板処理装置では、他の回収ポットの開口部が開いた状態で薬液回収を行うために、基板処理後のミスト状もしくはガス状の薬液が他の回収ポットに混入してしまう恐れがあった。これは酸の薬液による処理とアルカリの薬液による処理とを行う場合に、上述したようなパーティクルの発生を惹起するため、特に顕著な問題となる。このような薬液の混入を防止するためには、例えば、酸の薬液による処理とアルカリの薬液による処理とを複数の基板処理装置を併用して処理することが必要となるが、この場合には、複数の基板処理装置で薬液処理を行うことになるため、工程の煩雑さを招くという更なる問題が生じてしまう。

さらに、近時においては、半導体基板等の高集積化に伴って、その製造装置の高機能化も進展してきており、製造装置の装置構成もますます複雑化してきている。よって、被処理基板上に各種薬液を供給し、当該被処理基板を処理した薬液を回収する基板処理装置においても、その装置構成をできるだけ簡素化して作製することが求められてきている。

本発明は前述の問題点に鑑みてなされたものであり、多種多様の処理液を用いて基板に各種処理を施した後、これらの処理液を回収するに際して、同一の装置構成による連続した工程のなかで使用済みの各処理液が混合することを確実に防止し、且つ簡易な構成で信頼性の高い基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明の基板処理装置は、被処理基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段で保持された前記被処理基板を回転させる基板回転手段と、前記被処理基板上に複数の処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板保持手段で保持された前記被処理基板の周囲を取り囲む複数のフェンスを有し、当該各フェンスを昇降させて前記基板回転手段により前記被処理基板から飛散した前記処理液をその種類毎に前記各フェンスで画定される各回収槽に分別回収するとともに、前記処理液をある前記回収槽で回収するときに他の前記回収槽の入り口を閉じた状態で回収を行う処理液回収手段とを備え、前記処理液回収手段は、前記各フェンスと係合して当該フェンスを昇降させる段差部が設けられたフェンス昇降板を有しており、当該フェンス昇降板を、当該フェンス昇降板の前記段差部が形成されている形成面内で回転させて前記各フェンスの前記昇降動作を行う。

本発明の基板処理装置における他の態様は、前記フェンス昇降板には、前記各フェンスのそれぞれに対応して前記段差部が設けられている。

また、本発明の基板処理装置におけるその他の態様は、前記段差部は、前記フェンス昇降板の表面に凸部が形成されたものであり、前記処理液回収手段は、前記フェンス昇降板を当該フェンス昇降板の前記段差部が形成されている形成面内で回転させ、前記凸部の上面に前記フェンスを移動させて当該フェンスを上昇させることによって前記処理液を回収する前記回収槽の導路を形成する。

また、本発明の基板処理装置におけるその他の態様は、前記各フェンスが前記各回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されており、前記処理液回収手段は、前記被処理基板から離れた位置の回収槽から順次回収を行う。

図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置の概略断面図である。図２は、本実施形態の基板処理装置における昇降機構の概略断面図である。図３は、図２に示したフェンス昇降板の上面図である。図４は、図３に示した各カムチャートの断面図である。図５は、上面から見た本実施形態の基板処理装置内の断面図である。図６は、回収槽を形成する各フェンスの先端部を示した概略断面図である。図７は、回収槽を形成する各フェンスの先端部を示した概略断面図である。図８は、本実施形態の基板処理装置における薬液回収前の概略断面図である。図９Ａは、図８に示した基板処理装置の昇降機構の断面図である。図９Ｂは、図８に示した基板処理装置のフェンス昇降板の各カムチャートの上面図である。図１０は、図８に引き続き、本実施形態の基板処理装置における薬液回収の手順を示す概略断面図である。図１１Ａは、図１０に示した基板処理装置の昇降機構の断面図である。図１１Ｂは、図１０に示した基板処理装置のフェンス昇降板の各カムチャートの上面図である。図１２は、図１０に引き続き、本実施形態の基板処理装置における薬液回収の手順を示す概略断面図である。図１３Ａは、図１２に示した基板処理装置の昇降機構の断面図である。図１３Ｂは、図１２に示した基板処理装置のフェンス昇降板の各カムチャートの上面図である。図１４は、図１２に引き続き、本実施形態の基板処理装置における薬液回収の手順を示す概略断面図である。図１５Ａは、図１４に示した基板処理装置の昇降機構の断面図である。図１５Ｂは、図１４に示した基板処理装置のフェンス昇降板の各カムチャートの上面図である。図１６は、図１４に引き続き、本実施形態の基板処理装置における薬液回収の手順を示す概略断面図である。図１７Ａは、図１６に示した基板処理装置の昇降機構の断面図である。図１７Ｂは、図１６に示した基板処理装置のフェンス昇降板の各カムチャートの上面図である。図１８Ａは、従来例の基板処理装置の概略断面図である。図１８Ｂは、従来例の基板処理装置の概略上面図である。

以下、添付図面を参照しながら本発明の基板処理装置及びその処理方法の具体的な実施形態について説明する。

図１は、本発明の実施形態に係る基板処理装置の概略断面図である。
図１に示すように、この基板処理装置は、被処理対象の基板１１が設置され、当該基板１１の表面を各種処理液（薬液）を用いて処理するための基板処理部１と、使用済みの各種薬液を選択的に分別回収する薬液回収部２とを備えて構成されている。

基板処理部１においては、１２は基板１１に各種薬液を供給する薬液供給ノズル、１３は基板１１を保持する基板チャック部、１４は基板チャック部１３に接続されているシャフト、１５は基板チャック部１３で保持された基板１１をシャフト１４の軸方向に回転させるモータである。

薬液回収部２においては、１６〜１９は各種薬液毎に回収するために各フェンス３ａ〜３ｄ及び仕切り板３ｅで画定された回収槽、２０〜２３は各回収槽１６〜１９にそれぞれ設けられた排液機構、２４〜２７は各回収槽１６〜１９にそれぞれ設けられた排気機構、２８は各回収槽１６〜１９を画定するフェンス３ａ〜３ｄを上下に駆動させて各回収槽１６〜１９の導路を形成する昇降機構である。ここで、回収槽１６がフェンス３ａ及び３ｂにより、回収槽１７がフェンス３ｂ及び３ｃにより、回収槽１８がフェンス３ｃ及び３ｄにより、回収槽１９がフェンス３ｄ及び仕切り板３ｅによりそれぞれ画定されている。各フェンス３ａ〜３ｄは、不図示であるがその内部を純水等で洗浄するための洗浄機構を備えており、耐薬品性、耐吸水性に優れた材料、例えばテフロン（Ｒ）で構成されている。

続いて、昇降機構２８について詳述する。
図２は、本実施形態の基板処理装置における昇降機構２８の概略断面図である。この図２では、図１で示したフェンス３ａを上昇させて回収槽１６で薬液回収を行う場合の昇降機構２８の駆動を示している。

図２に示すように、昇降機構２８は、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３と、各シャフト３０〜３３と係合するカム（段差部）２９ａが設けられたフェンス昇降板２９と、フェンス昇降板２９を円周方向に回転させるモータ３４とを有して構成されている。また、各シャフト３０〜３３の側面には、各シャフト３０〜３３を位置決めするためのガイド３５が設けられており、例えばフッ素樹脂、あるいは薬液と接触しない構造とした場合にはステンレス等の金属を材料として構成される。

本実施形態の基板処理装置では、モータ３４でフェンス昇降板２９を円周方向に回転させ、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３をカム２９ａと係合させることにより、各フェンス３ａ〜３ｄを上昇させて各回収槽１６〜１９の導路を形成し、この導路を形成した回収槽で各種薬液を回収するようにしている。

ここで、フェンス昇降板２９について詳述する。
図３は、図２に示したフェンス昇降板２９の上面図である。ここで、図３において、○で示した位置は、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３が配置されている位置である。本実施形態においては、各フェンス３ａ〜３ｄに対して各シャフト３０〜３３がそれぞれ３つずつ接続されている。また、フェンス昇降板２９には、各フェンス３ａ〜３ｄのそれぞれに対応して各カムチャート４０〜４３が形成されている。

図４は、図３に示した各カムチャート４０〜４３の断面図である。また、図４には、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３が配置されている位置も示している。

図４から明らかなように、カム２９ａは、フェンス昇降板の表面に凸部が形成されたものであり、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３を凸部の上面（図４の「高」で示した面）に押し上げる面が緩斜面で形成され、各シャフト３０〜３３を当該上面から下ろす面が急斜面又は垂直面で形成されている。本実施形態においては、このカム２９ａの緩斜面は、各カムチャート４０〜４３の各カムともに、角度３０°程度で形成されている。また、各シャフト３０〜３３をカム２９ａの上面から下ろす面を急斜面又は垂直面で形成しているのは、各フェンス３ａ〜３ｄの降下を素早く行うためである。

図３の各カムチャート４０〜４３において黒色で示した領域は、図４に示すカム２９ａの凸部の上面を示す領域である。また、図３の各カムチャート４０〜４３において斜線で示した領域は、図４に示すカム２９ａの前記緩斜面の領域である。また、図３の各カムチャート４０〜４３において白色で示した領域は、図４に示すカム２９ａが形成されていない領域（図４の「低」で示した面）である。

続いて、回収槽１６〜１９を形成するフェンス３ａ〜３ｄの設置状態について説明する。
図５は、上面から見た本実施形態の基板処理装置内の断面図である。
本実施形態では、回収槽が４槽の場合を示している。回収槽１６〜１９は、基板１１の周囲を取り囲むように円形のフェンス３ａ〜３ｄで区切られて形成されており、そのフェンスの底面を各シャフト３０〜３３が各回収槽１６〜１９あたり３箇所（○の部分）配置されている。また、図５に示した●の部分には、排液口が設けられており、回収した薬液をこの排液口から排出できるように構成されている。さらに、図３に示した２４〜２７は、各回収槽１６〜１９に設けられ、回収したガスを排出する排気機構である。

続いて、回収槽１６〜１９の入り口部について詳述する。
図６は、回収槽１６〜１９を形成する各フェンス３ａ〜３ｄの先端部を示した概略断面図である。図６に示した状態は、薬液供給手段から基板１１上に薬液が供給されて、その基板１１を処理した薬液を一番外側の回収槽１６で回収するときの様子を示す断面図である。このとき、回収槽１６のみの入り口が開いており、他の回収槽１７〜１９の入り口が全て閉じられている。

図６に示すように、フェンス３ａ〜３ｄの先端部４ａ〜４ｄは、それぞれ重ね合わせるだけで各回収槽１６〜１９を閉じた状態とすることができるように湾曲した構造となっている。また、先端部４ａ〜４ｄは、薬液が例え当たったとしても付着して溜まらないような形状となっており、さらに、薬液が回収槽１６〜１９の外部に反射しない形状となっている。また、例えば先端部４ａに当たった薬液が下方に位置するフェンス３ｂの湾曲した先端部４ｂの先端部分に落ちた場合には、先端部４ｂ〜４ｄを通して回収槽１６外に流れ落ちるような先端形状となっている。

また、先端部４ａ〜４ｄには、パッキン等で封止する必要はなく、フェンス３ａ〜３ｄを重ね合わせることで、回収槽内部が陰圧となって密閉状態となり、薬液を他の回収槽で回収しているときに、その薬液が混入しないようになっている。この場合、図７に示すように、先端部４ａ〜４ｄは、基板１１の表面から飛散した薬液が先端部４ａ〜４ｄ、図示の例では先端部４ａに当たった場合でも、当該薬液が回収槽１６〜１９、図示の例では回収槽１６の内部へ反射し、回収槽１６外部へ飛び散らないような湾曲度に設定されているため、薬液を当該薬液に対応した回収槽のみに確実に回収することができる。

次に、本実施形態の基板処理装置で基板を処理した薬液を回収する手順について説明する。
図８，図１０，図１２，図１４，図１６は、本実施形態の基板処理装置における薬液回収の手順を示す概略断面図である。また、図９Ａ，図１１Ａ，図１３Ａ，図１５Ａ，図１７Ａは、本実施形態の基板処理装置の薬液回収の各手順における昇降機構２８の動作状態を示す断面図であり、図９Ｂ，図１１Ｂ，図１３Ｂ，図１５Ｂ，図１７Ｂは、本実施形態の基板処理装置の薬液回収の各手順におけるフェンス昇降板２９の各カムチャートの上面図である。本実施形態では、４種類の薬液を基板１１の周囲を囲むように配設された４枚のフェンス３ａ〜３ｄ及び仕切り板３ｅにより画定される４つの回収槽１６〜１９で回収する例で説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば更にフェンスの枚数を増設して５つ以上の回収槽を構成することも可能である。

まず、図８は、本実施形態の基板処理装置における薬液回収前の概略断面図である。また、図９Ａ及び図９Ｂは、図８に示した基板処理装置の昇降機構２８の動作状態を示す概略図であり、図９Ａに昇降機構２８の断面図（図２における右半分の断面図）、図９Ｂにフェンス昇降板２９の各カムチャートの上面図（図３における各カムチャート）を示す。

図８に示すように、薬液ノズル１２から各種薬液を供給する前においては、各フェンス３ａ〜３ｄは、各回収槽１６〜１９の入り口を閉じるように基板１１に近いほうから順次重ね合って配設されており、いずれのフェンスも上方に駆動していない。このとき、昇降機構２８においては、図９Ａに示すように、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３とフェンス昇降板２９のカム２９ａとは係合していない。また、このときの各シャフト３０〜３３とカム２９ａ（黒色で示した領域及び斜線で示した領域）との位置関係は図９Ｂに示したようになっている。

続いて、図１０に示すように、薬液ノズル１２から第１の薬液を供給する前に、昇降機構２８により回収槽１６を画定するフェンス３ａを上方に駆動させて、当該回収槽１６の入り口を開いておく。このとき、他の回収槽１７〜１９の入り口は閉じられている。

この状態で基板チャック部１３により保持された基板１１をモータ１５で回転させながら薬液ノズル１２から第１の薬液を供給して、基板１１を処理する。基板１１を処理した第１の薬液は、モータ１５の回転により基板１１から飛散して、回収槽１６に回収される。このとき、回転の遠心力により基板から飛散した第１の薬液は周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収槽１６に回収される。回収槽１６に回収された第１の薬液は排液機構２０から排出され、また、回収されたガスは排気機構２４から排出される。

このとき、昇降機構２８においては、図２で示したモータ３４を駆動させてフェンス昇降板２９を円周方向に回転させる。本実施形態では、図９Ａで示した位置に対してフェンス昇降板２９を反時計回りに約２１°程度回転させている。これにより、図１１Ａに示すように、特定位置に配設されているシャフト３０と、回転移動したフェンス昇降板２９のカム２９ａとが係合し、シャフト３０に接続されたフェンス３ａを上方に駆動させている。このときの各シャフト３０〜３３とカム２９ａ（黒色で示した領域及び斜線で示した領域）との位置関係は図１１Ｂに示したようになっている。この図１１Ｂでも明らかなように、一番外周のシャフト３０のみがカム２９ａと係合しており、他のシャフト３１〜３３はカム２９ａと係合していない（白色で示した領域）。

続いて、図１２に示すように、薬液ノズル１２から第２の薬液を供給する前に、昇降機構２８により回収槽１７を画定するフェンス３ｂを、その回収槽１７の入り口を開くとともに、回収槽１６の入り口を閉じる位置まで上方に駆動させる。このとき、回収槽１８、１９の入り口は閉じられているため、回収槽１７の入り口のみが開いた状態となっている。

この状態で基板１１をモータ１５で回転させながら薬液ノズル１２から第２の薬液を供給して、基板１１を処理する。基板１１を処理した第２の薬液は、モータ１５の回転により基板１１から飛散して、回収槽１７に回収される。このとき、回転の遠心力により基板から飛散した第２の薬液は周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収槽１７に回収される。回収槽１７に回収された第２の薬液は排液機構２１から排出され、また、回収されたガスは排気機構２５から排出される。

このとき、昇降機構２８においては、図２で示したモータ３４を駆動させてフェンス昇降板２９をさらに円周方向に回転させる。本実施形態では、図９Ａで示した位置に対してフェンス昇降板２９を反時計回りに約４５°程度回転させている。これにより、図１３Ａに示すように、特定位置に配設されているシャフト３０，３１と、回転移動したフェンス昇降板２９のカム２９ａとが係合し、シャフト３０，３１に接続されたフェンス３ａ，３ｂを上方に駆動させている。このときの各シャフト３０〜３３とカム２９ａ（黒色で示した領域及び斜線で示した領域）との位置関係は図１３Ｂに示したようになっている。この図１３Ｂでも明らかなように、シャフト３０，３１がカム２９ａと係合しており、他のシャフト３２，３３はカム２９ａと係合していない（白色で示した領域）。

続いて、図１４に示すように、薬液ノズル１２から第３の薬液を供給する前に、昇降機構２８により回収槽１８を画定するフェンス３ｃを、その回収槽１８の入り口を開くとともに、回収槽１７の入り口を閉じる位置まで上方に駆動させる。このとき、回収槽１６、１９の入り口は閉じられているため、回収槽１８の入り口のみが開いた状態となっている。

この状態で基板１１をモータ１５で回転させながら薬液ノズル１２から第３の薬液を供給して、基板１１を処理する。基板１１を処理した第３の薬液は、モータ１５の回転により基板１１から飛散して、回収槽１８に回収される。このとき、回転の遠心力により基板から飛散した第３の薬液は周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収槽１８に回収される。回収槽１８に回収された第３の薬液は排液機構２２から排出され、また、回収されたガスは排気機構２６から排出される。

このとき、昇降機構２８においては、図２で示したモータ３４を駆動させてフェンス昇降板２９をさらに円周方向に回転させる。本実施形態では、図９Ａで示した位置に対してフェンス昇降板２９を反時計回りに約７３°程度回転させている。これにより、図１５Ａに示すように、特定位置に配設されているシャフト３０〜３２と、回転移動したフェンス昇降板２９のカム２９ａとが係合し、シャフト３０〜３２に接続されたフェンス３ａ〜３ｃを上方に駆動させている。このときの各シャフト３０〜３３とカム２９ａ（黒色で示した領域及び斜線で示した領域）との位置関係は図１５Ｂに示したようになっている。この図１５Ｂでも明らかなように、シャフト３０〜３２がカム２９ａと係合しており、他のシャフト３３はカム２９ａと係合していない（白色で示した領域）。

続いて、図１６に示すように、薬液ノズル１２から第４の薬液を供給する前に、昇降機構２８により回収槽１９を画定するフェンス３ｄを、その回収槽１９の入り口を開くとともに、回収槽１８の入り口を閉じる位置まで上方に駆動させる。このとき、回収槽１６、１７の入り口は閉じられているため、回収槽１９の入り口のみが開いた状態となっている。

この状態で基板１１をモータ１５で回転させながら薬液ノズル１２から第４の薬液を供給して、基板１１を処理する。基板１１を処理した第４の薬液は、モータ１５の回転により基板１１から飛散して、回収槽１９に回収される。このとき、回転の遠心力により基板から飛散した第４の薬液は周囲の大気と混ざり合ってミスト状もしくはガス状で回収槽１９に回収される。回収槽１９に回収された第４の薬液は排液機構２３から排出され、また、回収されたガスは排気機構２７から排出される。

このとき、昇降機構２８においては、図２で示したモータ３４を駆動させてフェンス昇降板２９をさらに円周方向に回転させる。本実施形態では、図９Ａで示した位置に対してフェンス昇降板２９を反時計回りに約１０７°程度回転させている。これにより、図１７Ａに示すように、特定位置に配設されているシャフト３０〜３３と、回転移動したフェンス昇降板２９のカム２９ａとが係合し、シャフト３０〜３３に接続されたフェンス３ａ〜３ｄを上方に駆動させている。このときの各シャフト３０〜３３とカム２９ａ（黒色で示した領域及び斜線で示した領域）との位置関係は図１７Ｂに示したようになっている。この図１７Ｂでも明らかなように、全てのシャフト３０〜３３がカム２９ａと係合している。

以上のような処理を行うことで、複数種類の薬液を所定の回収槽で回収するときに、他の回収槽に混入することなく回収を行うことができるため、効率のよい分別回収・分別廃棄を行うことができる。また、基板チャック部１３で保持する基板１１の位置を、処理液を回収していないときのフェンス３ａ〜３ｄの位置よりも上に位置させて、基板１１の搬入及び搬出をスムーズに行うことができるように構成することも可能である。

また、昇降機構２８は、複数種類の薬液をその種類毎に各回収槽に分別回収するために、シャフト３０〜３３に接続されたフェンス３ａ〜３ｄを、フェンス３ａ，フェンス３ｂ，フェンス３ｃ，フェンス３ｄの順番でそれぞれ独立して上方に駆動させたが、当該分別回収を終了した後、次の被処理基板を処理するために上方に駆動させた各フェンス３ａ〜３ｄを元の高さに降下させる際には、当該各フェンス３ａ〜３ｄを、フェンス３ｄ，フェンス３ｃ，フェンス３ｂ，フェンス３ａの順番でそれぞれ独立して下方に駆動させる。本発明の実施形態においては、上方に駆動させた各フェンス３ａ〜３ｄを元の高さに降下させる際には、図２で示したモータ３４を駆動させて、フェンス昇降板２９を図１７Ｂに示した位置からさらに反時計回りに回転（フェンスの上方駆動と同一方向に回転）させて各フェンス３ａ〜３ｄを元の高さに降下させる形態でも、あるいはフェンス昇降板２９をモータ３４により時計回りに回転（フェンスの上方駆動と逆方向に回転）させて当該フェンス昇降板を図９Ｂに示した元の位置に戻して各フェンス３ａ〜３ｄを元の高さに降下させる形態でも適用可能である。

本発明の実施形態によれば、基板１１を処理した薬液をある回収槽で回収するときに、他の回収槽の入り口を閉じた状態で回収するようにしたので、他の回収槽にその回収しようとする処理液が混入してしまうのを防止することができる。これにより、例えば、酸の薬液による処理とアルカリの薬液による処理とを行う場合に、それらの混入により生じるパーティクルの原因となる塩を発生させることなく、同一の装置構成による連続した工程のなかで基板処理を行うことができる。

さらに、フェンス昇降板２９を当該フェンス昇降板のカム（段差部）２９ａが形成されている形成面内で（実施例では、フェンス昇降板２９が円板で形成されているため、円周方向に）回転させ、当該カム２９ａとフェンスとを係合させてフェンスの昇降動作を行うようにしたので、基板処理装置の装置構成を複雑化させることなく、簡易な構成で各種薬液をその種類毎に分別回収することができる。このように構成することで、例えば、フェンスの昇降動作をエアーシリンダーを用いて行う場合や、ボールスクリューを用いて行う場合等と比較して、その装置構成を著しく簡素化することができる。また、カム２９ａにおいて、各フェンス３ａ〜３ｄに接続された各シャフト３０〜３３を上面に押し上げる面を緩斜面で形成し、各シャフト３０〜３３を当該上面から下ろす面を急峻な急斜面又は垂直面で形成するようにしたので、上方に駆動させた各フェンス３ａ〜３ｄを元の高さに降下させる際に、フェンス昇降板２９を当該各フェンスの上方駆動と同一方向に回転させて降下させる形態の場合には、各フェンス３ａ〜３ｄの降下を素早く行うことができる。

以上のことから、多種多様の処理液を用いて基板に各種処理を施した後、これらの処理液を回収するに際して、使用済みの各処理液が混合することを確実に防止し、且つ簡易な構成で信頼性の高い基板処理装置を提供することが可能となる。

なお、本実施形態の基板処理装置においては、各種薬液をその種類毎に分別回収するための回収槽を４つ構成した例を示したが、本発明においては複数構成したものであれば適用可能である。また、本実施形態においては、各回収槽を画定する各フェンス３ａ〜３ｄに対して、それぞれ３つのシャフトを接続した例を示したが、本発明においてはいくつのシャフトを接続させて構成しても適用可能である。

また、フェンス昇降板２９に設けられた、各シャフトと係合するカム２９ａの個数について、本実施形態においては、それぞれのシャフトに対して１つとしているが、カム２９ａは、フェンス昇降板２９の面積、各フェンスの昇降のために必要なモータのトルク、緩斜面角度、各フェンスの昇降高さなどを考慮して設計されており、強度、トルクなどに問題ない場合には、それぞれのフェンスに対して複数個のカムを備えるようにして、各フェンスの昇降の効率化を図ることも可能である。

また、同一方向にフェンス昇降板２９を回転させて、各フェンスを昇降させる場合において、本実施形態では、フェンスの上昇時には緩斜面、降下時には急斜面を有するカムを構成しているが、フェンス昇降のためのカム角度は任意であり、上昇時、降下時ともに同一角度のカムとすることも可能であり、逆に上昇時には急斜面、降下時には緩斜面のカムとすることも当然、可能である。

本発明によれば、基板を処理した処理液をある回収槽で回収するときに、他の回収槽の入り口を閉じた状態で回収するようにしたので、他の回収槽にその回収しようとする処理液が混入してしまうのを防止することができる。これにより、例えば、酸の薬液による処理とアルカリの薬液による処理とを行う場合に、それらの混入により生じるパーティクルの原因となる塩を発生させることなく、同一の装置構成による連続した工程のなかで基板処理を行うことができる。さらに、フェンス昇降板を当該フェンス昇降板の段差部（カム）が形成されている形成面内で回転させ、当該段差部とフェンスとを係合させてフェンスの昇降動作を行うようにしたので、基板処理装置の構成を複雑化させることなく、簡易な構成で各種処理液をその種類毎に分別回収することができる。

Claims

被処理基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段で保持された前記被処理基板を回転させる基板回転手段と、
前記被処理基板上に複数の処理液を供給する処理液供給手段と、
前記基板保持手段で保持された前記被処理基板の周囲を取り囲む複数のフェンスを有し、当該各フェンスを昇降させて前記基板回転手段により前記被処理基板から飛散した前記処理液をその種類毎に前記各フェンスで画定される各回収槽に分別回収するとともに、前記処理液をある前記回収槽で回収するときに他の前記回収槽の入り口を閉じた状態で回収を行う処理液回収手段とを備え、
前記処理液回収手段は、前記各フェンスと係合して当該フェンスを昇降させる段差部が設けられたフェンス昇降板を有しており、当該フェンス昇降板を、当該フェンス昇降板の前記段差部が形成されている形成面内で回転させて前記各フェンスの前記昇降動作を行うことを特徴とする基板処理装置。
前記フェンス昇降板には、前記各フェンスのそれぞれに対応して前記段差部が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
前記段差部は、前記フェンス昇降板の表面に凸部が形成されたものであり、
前記処理液回収手段は、前記フェンス昇降板を当該フェンス昇降板の前記段差部が形成されている形成面内で回転させ、前記凸部の上面に前記フェンスを移動させて当該フェンスを上昇させることによって前記処理液を回収する前記回収槽の導路を形成することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
前記段差部は、前記フェンス昇降板の表面に凸部が形成されたものであり、
前記処理液回収手段は、前記フェンス昇降板を当該フェンス昇降板の前記段差部が形成されている形成面内で回転させ、前記凸部の上面に前記フェンスを移動させて当該フェンスを上昇させることによって前記処理液を回収する前記回収槽の導路を形成することを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
前記各フェンスが前記各回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されており、
前記処理液回収手段は、前記被処理基板から離れた位置の回収槽から順次回収を行うことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
前記各フェンスが前記各回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されており、
前記処理液回収手段は、前記被処理基板から離れた位置の回収槽から順次回収を行うことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
前記各フェンスが前記各回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されており、
前記処理液回収手段は、前記被処理基板から離れた位置の回収槽から順次回収を行うことを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
前記各フェンスが前記各回収槽の入り口を閉じるように前記被処理基板に近いほうから順次重ね合って配設されており、
前記処理液回収手段は、前記被処理基板から離れた位置の回収槽から順次回収を行うことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。