JP4005625B2 - 回転式基板処理装置 - Google Patents
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Description
10 回転機構
11 ロータ
12 駆動部
20 廃液回収用のカップ
20′ 薬液回収部
30 上段液体ガイド
31 円筒部
32 傾斜部
33 ロッド
40 下段液体ガイド
41 円筒部
42 傾斜部
43 ガイド
50 飛散防止カバー
60 ケーシング
70 クリーンファン
80 薬液噴射ノズル
90 純水噴射ノズル
100 ガス噴射ノズル
Claims (7)
- 処理すべき基板を回転機構により水平に支持して回転させ、その回転によって基板から飛散する2種類の液体を分離回収する回転式基板処理装置において、2種類の液体のうちの一方を回収するべく回転機構の外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を昇降すると共に、上方の回収位置で基板から飛散する一方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の下段液体ガイドと、下段液体ガイドより外側に設けられ、基板位置より下方の待機位置と上方の回収位置の間を下段液体ガイドから独立して昇降すると共に、内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部を上部に有することにより、昇降方向で下段液体ガイドに重なり合うことが可能であり、且つ上方の回収位置で基板から飛散する他方の液体を受けて下方へ導く筒状で可動式の上段液体ガイドとを具備することを特徴とする回転式基板処理装置。
- 上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より上方の回収位置で重ね合わせが可能である請求項1に記載の回転式基板処理装置。
- 上段液体ガイドと下段液体ガイドは、両者同時に基板位置より下方に保持可能である請求項1又は2に記載の回転式基板処理装置。
- 上段液体ガイドと下段液体ガイドは、基板位置より下方の待機位置で重ね合わせが可能である請求項3に記載の回転式基板処理装置。
- 回転機構は昇降しない固定型である請求項1〜4のいずれかに記載の回転式基板処理装置。
- 下段液体ガイドは、内側へ傾斜して上方に延出した傾斜部を上部に有する請求項1〜5のいずれかに記載の回転式基板処理装置。
- 上段液体ガイドが下段液体ガイドに重なり合った状態で、上段液体ガイドの傾斜部が下段液体ガイドの傾斜部に重なり合う請求項6に記載の回転式基板処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2007096509A JP4005625B2 (ja) | 2007-04-02 | 2007-04-02 | 回転式基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Family Applications (1)
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JP2007096509A Expired - Lifetime JP4005625B2 (ja) | 2007-04-02 | 2007-04-02 | 回転式基板処理装置 |
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JP (1) | JP4005625B2 (ja) |
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- 2007-04-02 JP JP2007096509A patent/JP4005625B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
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