JP4314309B2 - ガス放電による高電流切り換え装置 - Google Patents
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Description
a)中空カソードガス放電に基づく既知の擬火花スイッチおよび放射線源の形状は、カソードの高出力冷却を可能にしない。そのようなスイッチの高出力動作(4kHzを超える繰り返し周波数)は、数十kWの平均熱出力の散逸を必要とする。
b)放電空間と中空カソード空間とを隔てる金属壁の厚さは、通常約1〜3mmである。これはカソードの寿命を大幅に制限し、これは熱の散逸不足により悪化する。
11 アノード内部
12 アノード冷却システム
13 対称軸
2 中空カソード
21 中空カソード空間
22 金属壁
23 放電チャネル
24 冷却チャネル
25 冷媒供給源
26 冷媒出口
27 接続溝
28 カソード基体
29 カソードカラー
3 放電空間
31 プラズマチャネル
4 予備電離ユニット
5 予備電離パルス生成器
6 主放電パルス生成器
7 ガス供給ユニット
8 真空システム
F 基点
d (金属壁の)厚さ
D (放電チャネルの)直径
L (放電チャネルの)長さ
S (共通)交点
Claims (22)
- 共に対称軸(13)周りに回転対称状に中空であるように形作られているアノード(1)とカソード(2)とを備え、これらによりアノード(1)の内部に放電空間が形成されており、前記カソード(2)が作動ガスの予備電離用の中空カソード空間(21)を有し、当該中空カソード空間(21)が、予備電離作動ガスを放電空間(3)に流入させるため等間隔に配置された複数の開口を有する金属壁(22)によって前記放電空間(3)に対し境界を定められることで、前記放電空間(3)を流れる高電流のため前記開口を通ってガス放電経路の空間的に分布された基点(F)を創出する、EUV放射線を放出するガス放電プラズマを生成するためのガス放電による高電流切り換え装置において、
前記中空カソード空間(21)と前記放電空間(3)との間の前記金属壁(22)が1センチメートル以上の厚さを有することで、前記金属壁(22)の開口が流入チャネル(23)に変わり、当該チャネルの端部が前記放電空間(3)内の共通交点(S)上で前記放電空間(3)に指向されること、および
ほぼ半径方向に延びる冷却チャネル(24)が前記金属壁(22)に設けられて効率的冷却により前記カソード(2)のイオン浸食を低減することを特徴とする装置。 - 前記放電空間(3)への前記流入チャネル(23)の開口が、湾曲した金属壁(22)で、中空カソード(2)とアノード(1)の対称軸(13)に沿って同心配置された少なくとも1つの円線上に均一分布して配置されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記放電空間(3)内に開口する放電チャネル(231)を示し共通交点(S)で収束する部分内で少なくとも、前記金属壁(22)での前記流入チャネル(23)が、前記流入チャネル(23)の長さ(L)より大幅に小さい均一な直径(D)を有することを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記流入チャネル(23)がそれぞれ、共線の入力部(232)と、前記放電空間(3)内で収束する放電チャネル(231)とで形成されており、前記共線入力部(232)が前記中空カソード空間(21)から始まって、収束放電チャネル(231)内に入ることを特徴とする請求項3に記載の装置。
- 前記中空カソード空間(21)内で始まる前記共線入力部(232)が、前記放電空間(3)への前記収束放電チャネル(231)より大きい直径を有し、前記収束放電チャネル(231)のみが直径(D)と長さ(L)の所定比で形成されていることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記放電チャネル(231)の直径(D)と長さ(L)の比が0.1〜0.15であることを特徴とする請求項3または5に記載の装置。
- 共に対称軸(13)周りに回転対称状に中空であるように形作られているアノード(1)とカソード(2)とを備え、これらによりアノード(1)の内部に放電空間が形成されており、前記カソード(2)が作動ガスの予備電離用の中空カソード空間(21)を有し、当該中空カソード空間(21)が、予備電離作動ガスを放電空間(3)に流入させるため等間隔に配置された複数の開口を有する金属壁(22)によって前記放電空間(3)に対し境界を定められることで、前記放電空間(3)を流れる高電流のため前記開口を通ってガス放電経路の空間的に分布された基点(F)を創出する、擬火花スイッチ内のガス放電による高電流切り換え装置において、
前記中空カソード空間(21)と前記放電空間(3)との間の前記金属壁(22)が1センチメートル以上の厚さを有することで、前記金属壁(22)の開口が流入チャネル(23)に変わり、当該チャネルの端部(231)が、前記放電空間(3)内の流入チャネル(23)を通って生成されたガス放電経路が厳密に指向されたプラズマチャネル(31)として空間的に分布されるために分岐するまで共線状に前記放電空間(3)に向かって配向されること、および
ほぼ半径方向に延びる冷却チャネル(24)が前記金属壁(22)に設けられて効率的冷却により前記中空カソード(2)の金属壁(22)のイオン浸食を低減することを特徴とする装置。 - 前記放電空間(3)への前記流入チャネル(23)の開口が、湾曲した金属壁(22)で、中空カソード(2)とアノード(1)の対称軸(13)に対して同心配置された少なくとも1つの円線上に均一分布して配置されることを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 少なくとも前記放電空間(3)内に開口する放電チャネル(231)を示す所定部分内で、前記金属壁(22)内の流入チャネル(23)が、長さ(L)より大幅に小さい均一な直径(D)を有することを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記流入チャネル(23)がそれぞれ、共線の入力部(232)と、分岐するチャネル部分とで形成されており、前記共線入力部(232)が前記中空カソード空間(21)から始まって、前記放電空間(3)に向かって分岐する放電チャネル(231)に入ることを特徴とする請求項7に記載の装置。
- 前記中空カソード空間(21)内で始まる前記共線入力部(232)が、前記放電空間(3)への前記分岐放電チャネル(231)より大きい直径を有し、前記分岐放電チャネル(231)のみが直径(D)と長さ(L)の所定比で形成されていることを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 前記放電チャネル(231)の直径(D)と長さ(L)の比が0.1〜0.15であることを特徴とする請求項9または11に記載の装置。
- 前記冷却チャネル(24)がそれぞれ、前記流入チャネル(23)間の中心に配置されかつ前記中空カソード(2)の対称軸(13)にて相互に交差し、冷媒供給源(25)と冷媒出口(26)とがそれぞれ、半円状で互いに対向して配置されるように形成されることを特徴とする請求項1または7に記載の装置。
- 前記冷媒供給源(25)と前記冷媒出口(26)とが、円筒状表面領域に沿って前記カソードの裏端面から除去された対向配置溝(27)として形成されることを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記電離作動ガスを流入させる各流入チャネル(23)が、対をなして対称配置された冷却チャネル(24)により囲まれ、そのような冷媒チャネル対(242)すべての中心軸(241)が、前記中空カソード(2)の対称軸(13)で交差することを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記中空カソード(2)が高融点金属で作製されることを特徴とする請求項1または7に記載の装置。
- 前記中空カソード(2)がカソード基体(28)と電極カラー(29)とを備え、前記電極カラー(29)が高融点金属で作製され、前記カソード基体(28)が高熱伝導率を有する金属で作製されることを特徴とする請求項16に記載の装置。
- 前記高融点金属がタングステンまたはモリブデンで作製されることを特徴とする請求項16または17に記載の装置。
- 前記カソード基体(28)が銅または銅合金で作製されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記高熱伝導カソード基体(28)と前記高融点電極カラー(29)の間の境界が、前記中空カソード(2)の金属壁(22)内に配置されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記冷却チャネル(24)が前記カソードカラー(29)内に配置されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
- 前記冷却チャネル(24)が前記カソード基体(28)内に配置されることを特徴とする請求項17に記載の装置。
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