DE10336273A1 - Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Röntgenstrahlung - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Gasentladungsquelle, insbesondere zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolett- und/oder weicher Röntgenstrahlung, bei der sich zwischen zwei Elektroden (1, 2) ein gasgefüllter Elektrodenzwischenraum (3) befindet, bei der Vorrichtungen zum Einlassen und Abpumpen von Gas vorhanden sind und bei der eine Elektrode (1) eine eine Symmetrieachse (4) definierende und für den Austritt von Strahlung vorgesehene Öffnung (5) aufweist. Die vorgeschlagenen Verbesserungen bestehen darin, dass zwischen den beiden Elektroden (1, 2) eine zumindest eine Öffnung (7) auf der Symmetrieachse (4) aufweisende und als differentielle Pumpstufe wirkende Blende (6) vorhanden ist.
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10336273A DE10336273A1 (de) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Röntgenstrahlung |
DE502004009224T DE502004009224D1 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher röntgenstrahlung |
AT04744676T ATE427026T1 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher ríntgenstrahlung |
CNB2004800226731A CN100482030C (zh) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | 用于产生远紫外线和软x射线的装置 |
KR1020067002392A KR101058068B1 (ko) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | 극자외선과 연질x선 발생기 |
PCT/IB2004/051323 WO2005015602A2 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher röntgenstrahlung |
US10/567,038 US7734014B2 (en) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Extreme UV and soft X ray generator |
JP2006522465A JP4814093B2 (ja) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | 極紫外線及び軟x線発生器 |
EP04744676A EP1654914B8 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher röntgenstrahlung |
TW093123359A TW200515458A (en) | 2003-08-07 | 2004-08-04 | Device for generating EUV and soft X-radiation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10336273A DE10336273A1 (de) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Röntgenstrahlung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10336273A1 true DE10336273A1 (de) | 2005-03-10 |
Family
ID=34129504
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10336273A Ceased DE10336273A1 (de) | 2003-08-07 | 2003-08-07 | Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Röntgenstrahlung |
DE502004009224T Active DE502004009224D1 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher röntgenstrahlung |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE502004009224T Active DE502004009224D1 (de) | 2003-08-07 | 2004-07-29 | Vorrichtung zur erzeugung von euv- und weicher röntgenstrahlung |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7734014B2 (de) |
EP (1) | EP1654914B8 (de) |
JP (1) | JP4814093B2 (de) |
KR (1) | KR101058068B1 (de) |
CN (1) | CN100482030C (de) |
AT (1) | ATE427026T1 (de) |
DE (2) | DE10336273A1 (de) |
TW (1) | TW200515458A (de) |
WO (1) | WO2005015602A2 (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102007020742B8 (de) * | 2007-04-28 | 2009-06-18 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zum Schalten großer elektrischer Ströme über eine Gasentladung |
US8951384B2 (en) | 2011-10-20 | 2015-02-10 | Applied Materials, Inc. | Electron beam plasma source with segmented beam dump for uniform plasma generation |
US20130098555A1 (en) * | 2011-10-20 | 2013-04-25 | Applied Materials, Inc. | Electron beam plasma source with profiled conductive fins for uniform plasma generation |
US9129777B2 (en) | 2011-10-20 | 2015-09-08 | Applied Materials, Inc. | Electron beam plasma source with arrayed plasma sources for uniform plasma generation |
US9443700B2 (en) | 2013-03-12 | 2016-09-13 | Applied Materials, Inc. | Electron beam plasma source with segmented suppression electrode for uniform plasma generation |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5467362A (en) * | 1994-08-03 | 1995-11-14 | Murray; Gordon A. | Pulsed gas discharge Xray laser |
WO1999029145A1 (de) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von extrem-ultraviolettstrahlung und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung |
WO2001001736A1 (de) * | 1999-06-29 | 2001-01-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur erzeugung von extrem-ultraviolett- und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung |
DE10051986A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-05-16 | Schwerionenforsch Gmbh | Verfahren zum Strippen von Ionen in einer aus einem Gasentladungsplasma bestehenden Umladestrecke und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE10134033A1 (de) * | 2001-04-06 | 2002-10-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung/weicher Röntgenstrahlung |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3005931A (en) * | 1960-03-29 | 1961-10-24 | Raphael A Dandl | Ion gun |
NL298175A (de) * | 1962-11-20 | |||
JPS5763755A (en) * | 1980-10-03 | 1982-04-17 | Fujitsu Ltd | X-ray generating appratus |
JPS61218056A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X線発生装置 |
JPH0687408B2 (ja) | 1986-03-07 | 1994-11-02 | 株式会社日立製作所 | プラズマx線発生装置 |
KR900003310B1 (ko) * | 1986-05-27 | 1990-05-14 | 리가가구 겡큐소 | 이온 발생 장치 |
US4841197A (en) * | 1986-05-28 | 1989-06-20 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Double-chamber ion source |
US4894546A (en) * | 1987-03-11 | 1990-01-16 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Hollow cathode ion sources |
JPH01117253A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-10 | Hamamatsu Photonics Kk | プラズマx線発生装置 |
JP2572787B2 (ja) * | 1987-11-18 | 1997-01-16 | 株式会社日立製作所 | X線発生装置 |
JPH01243349A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマ極端紫外光発生装置 |
DE3927089C1 (de) * | 1989-08-17 | 1991-04-25 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De | |
JP2819420B2 (ja) * | 1989-11-20 | 1998-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | イオン源 |
IT1246682B (it) * | 1991-03-04 | 1994-11-24 | Proel Tecnologie Spa | Dispositivo a catodo cavo non riscaldato per la generazione dinamica di plasma |
US5397956A (en) * | 1992-01-13 | 1995-03-14 | Tokyo Electron Limited | Electron beam excited plasma system |
US5539274A (en) * | 1993-09-07 | 1996-07-23 | Tokyo Electron Limited | Electron beam excited plasma system |
US6031241A (en) | 1997-03-11 | 2000-02-29 | University Of Central Florida | Capillary discharge extreme ultraviolet lamp source for EUV microlithography and other related applications |
US6576917B1 (en) | 1997-03-11 | 2003-06-10 | University Of Central Florida | Adjustable bore capillary discharge |
US6815700B2 (en) * | 1997-05-12 | 2004-11-09 | Cymer, Inc. | Plasma focus light source with improved pulse power system |
DE10139677A1 (de) * | 2001-04-06 | 2002-10-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung |
DE10151080C1 (de) * | 2001-10-10 | 2002-12-05 | Xtreme Tech Gmbh | Einrichtung und Verfahren zum Erzeugen von extrem ultravioletter (EUV-)Strahlung auf Basis einer Gasentladung |
US7342236B2 (en) * | 2004-02-23 | 2008-03-11 | Veeco Instruments, Inc. | Fluid-cooled ion source |
-
2003
- 2003-08-07 DE DE10336273A patent/DE10336273A1/de not_active Ceased
-
2004
- 2004-07-29 WO PCT/IB2004/051323 patent/WO2005015602A2/de active Application Filing
- 2004-07-29 JP JP2006522465A patent/JP4814093B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-29 AT AT04744676T patent/ATE427026T1/de not_active IP Right Cessation
- 2004-07-29 KR KR1020067002392A patent/KR101058068B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-07-29 US US10/567,038 patent/US7734014B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-29 DE DE502004009224T patent/DE502004009224D1/de active Active
- 2004-07-29 CN CNB2004800226731A patent/CN100482030C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-07-29 EP EP04744676A patent/EP1654914B8/de not_active Not-in-force
- 2004-08-04 TW TW093123359A patent/TW200515458A/zh unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5467362A (en) * | 1994-08-03 | 1995-11-14 | Murray; Gordon A. | Pulsed gas discharge Xray laser |
WO1999029145A1 (de) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung von extrem-ultraviolettstrahlung und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung |
WO2001001736A1 (de) * | 1999-06-29 | 2001-01-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zur erzeugung von extrem-ultraviolett- und weicher röntgenstrahlung aus einer gasentladung |
DE10051986A1 (de) * | 2000-10-20 | 2002-05-16 | Schwerionenforsch Gmbh | Verfahren zum Strippen von Ionen in einer aus einem Gasentladungsplasma bestehenden Umladestrecke und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE10134033A1 (de) * | 2001-04-06 | 2002-10-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung/weicher Röntgenstrahlung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20060054422A (ko) | 2006-05-22 |
KR101058068B1 (ko) | 2011-08-22 |
WO2005015602A3 (de) | 2005-06-02 |
US7734014B2 (en) | 2010-06-08 |
ATE427026T1 (de) | 2009-04-15 |
DE502004009224D1 (de) | 2009-05-07 |
EP1654914A2 (de) | 2006-05-10 |
JP2007501997A (ja) | 2007-02-01 |
CN100482030C (zh) | 2009-04-22 |
EP1654914B1 (de) | 2009-03-25 |
EP1654914B8 (de) | 2009-08-12 |
JP4814093B2 (ja) | 2011-11-09 |
US20080143228A1 (en) | 2008-06-19 |
TW200515458A (en) | 2005-05-01 |
WO2005015602A2 (de) | 2005-02-17 |
CN1833472A (zh) | 2006-09-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8131 | Rejection |