DE10256663B3 - Gasentladungslampe für EUV-Strahlung - Google Patents
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft eine Gasentladungslampe für Extrem-Ultraviolett-Strahlung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Bevorzugte Anwendungsgebiete sind solche, die Extrem-Ultraviolett-(EUV-) Strahlung, bevorzugt im Wellenlängenbereich von ca. 10 bis 20 nm, benötigen, wie zum Beispiel die Halbleiter-Lithographie.
- Es ist allgemein bekannt, ein dichtes heißes Plasma als strahlungsemittierendes Medium zur Bereitstellung von EUV-Strahlung einzusetzen.
- Die WO 01/91523 A2 lehrt hierzu den Einsatz einer EUV-Strahlungsquelle mit einer Vielzahl von kreissegmentförmig angeordneten Teilelektroden, zwischen denen Ionenstrahlen beschleunigt werden. Die Ionenstrahlen münden in einen Plasma-Entladungsraum und bilden dort ein dichtes heißes Plasma, welches Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich emittiert. Um die Divergenz der Ionenstrahlen zu mindern, und darüber ein besonders kleines Plasmavolumen zu schaffen, sind zudem Mittel zur elektrischen Neutralisierung der Ionen vorgesehen.
- Eine Vorrichtung zur Erzeugung von EUV- und weicher Röntgenstrahlung offenbart die WO 01/01736 A1, bei der zwei Hauptelektroden vorgesehen sind, zwischen denen sich ein gasgefüllter Zwischenraum befindet. Die Hauptelektroden weisendabei eine oder mehrere Öffnungen auf. Die Konfiguration der Hauptelektroden bewirkt, dass das Plasma nur innerhalb des durch den Durchmesser der beiden zentralen Öffnungen bestimmten Zylinders zündet und nachfolgend infolge des Pin cheffekts auf einen noch kleineren Zylinder komprimiert wird. Es wird insofern nur ein einziger Plasmakanal ausgebildet.
- Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine Gasentladungslampe mit einem im EUV-Wellenlängenbereich emittierenden Pinchplasma bereitzustellen, bei der ein räumlich stark lokalisiertes Plasma erzeugt wird und gleichzeitig die Erosion des Kathodenmaterials möglichst gering ist.
- Die Lösung dieses technischen Problems erfolgt durch die Merkmale des unabhängigen Anspruchs 1. Vorteilhafte Weiterbildungen werden durch die abhängigen Ansprüche angegeben.
- Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass das oben genannte technische Problem gelöst wird durch eine Gasentladungslampe für Extrem-Ultraviolett-Strahlung mit einer Anode und einer Hohlkathode, bei der die Hohlkathode mindestens zwei Öffnungen und die Anode eine durchgehende Öffnung aufweist, und bei der die Längsachsen der Hohlkathodenöffnungen einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben, der auf der Symmetrieachse der Anodenöffnung liegt.
- Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, dass die Kathodenerosion dadurch gemindert werden kann, dass der gesamte, von der Kathode ausgehende Elektronenstrom über mehrere Kathodenöffnungen verteilt wird. Die Kathode einer Gasentladungsquelle muss nämlich während eines Strompulses einen sehr hohen Elektronenstrom von mehreren Kiloampere liefern. Dies führt zur Ausbildung von sogenannten Kathodenflecken in der Innenfläche der Kathodenöffnung sowie im unmittelbar angrenzenden, der Anode zugewandten Oberflächenbereich der Kathode. Aus diesen Kathodenflecken treten die Elektronen bevorzugt aus. An diesen Orten kann jedoch eine weit über die rein thermische Abdampfung hinausgehende Erosion des Kathodenmaterials stattfinden. Durch die Wahl mehrerer Hohlkathodenöffnungen wird die an einem Kathodenfleck auftretende Stromdichte gemindert. Dies führt insgesamt zu einer geringeren Erosion der Kathode, insbesondere im Öffnungsbereich, und zu einer verbesserten Standzeit der Gasentladungslampe.
-
1 zeigt eine erfindungsgemäße Gasentladungslampe mit einer Anode1 und einer Hohlkathode2 , wobei letztere drei Kathodenöffnungen3 ,3' ,3'' zu einem Hohlraum8 aufweist. Anode1 , Kathode2 und Hohlraum8 befinden sich in einer Gasatmosphäre bei Drücken von typischerweise 1-100 Pa. An das Elektrodensystem wird eine Spannung angelegt. Gasdruck und Elektrodenabstand werden so gewählt, dass die Zündung des Plasmas auf dem linken Ast der Paschenkurve erfolgt, d.h. die Ionisationsprozesse starten entlang der langen elektrischen Feldlinien, welche bevorzugt im Bereich der Öffnungen von Anode und Kathode auftreten. Im Verlaufe der Entladung ist der Hohlkathodenraum8 nicht potentialfrei, vielmehr ragt das Potential bzw. ragen die elektrischen Feldlinien auch in den Hohlkathodenraum8 hinein. Dort entsteht ein Hohlkathodenplasma mit hoher Effizienz der Plasmabildung aufgrund pendelnder Elektronen. - Als Folge dieses Hohlkathodenplasmas und insbesondere auch durch den im Hohlkathodenplasma erzeugten Elektronenstrahl, der sich durch die Öffnungen
3 ,3' ,3'' in Richtung der Anode bzw. in Pfeilrichtung ausbreitet, vgl. auch2a , entsteht ein hoch leitfähiges Plasma im Bereich zwischen Anode und Kathode. Die elektrische Leitfähigkeit ist insbesondere im Bereich des Schnittpunktes S besonders hoch. - Durch einen gepulsten Strom im einstelligen bis zweistelligen Kiloamperebereich wird dieses Plasma komprimiert und auf Temperaturen aufgeheizt, dass es Strahlung im Extrem-Ultraviolettbereich erzeugt. Die Strompulse werden hinsichtlich Amplitude und Periodendauer derart gewählt, dass das Plasma Quelle für EUV-Strahlung ist. Dieses Plasma entsteht bevorzugt im Bereich des Schnittpunktes
5 . -
1 zeigt hierbei eine Anordnung mit planaren Elektroden1 ,2, die sich technisch besonders einfach realisieren lässt. Auch möglich ist eine kreissegmentförmige Anordnung wie zum Beispiel in3 mit einer kreissegmentförmigen Hohlkathode2 . Diese Anordnung hat den Vorteil, dass die Elektrodenwände weiter vom Plasma entfernt sind, die Kühlung der Elektroden einfacher fällt, und sich auch größere Winkel zur Symmetrieachse6 realisieren lassen. Bei dieser Bauform kann die der jeweiligen Kathodenöffnung3 ,3' ,3'' gegenüberliegende Wand7 jeweils senkrecht zur Längsachse5 ,5' ,5'' dieser Öffnung stehen, und so durch Ionisation im Elektrodenzwischenraum dazu beitragen, dass bevorzugt im Bereich des gemeinsamen Schnittpunktes S eine hohe elektrische Leitfähigkeit vorliegt. - Die verwendeten Strompulse weisen vorteilhafterweise Amplituden mit zweistelliger Kiloamperezahl und Periodendauern im zwei- bis dreistelligem Nanosekundenbereich auf. Insbesondere bei diesen Parametern für die Strompulse wird das Plasma hinreichend komprimiert und dadurch SC aufgeheizt, dass es die erforderliche Temperatur für die Strahlungsemission erreicht.
- Als Arbeitsgas der Entladungsquelle wird hauptsächlich Xenon verwendet, in reiner Form oder im Gemisch mit anderen Gasen.
- Es können aber auch Gase mit anderen Strahlern wie z.B. Lithium oder Zinn, in elementarer Form oder als chemische Verbindung, eingesetzt werden, um eine möglichst hohe Strahlungseffizienz zu gewährleisten. Der Arbeitsdruck liegt etwa im Bereich von 1-100 Pascal. Der Arbeitspunkt wird dabei so gewählt, daß das Produkt aus Elektrodenabstand und Entladungsdruck auf dem linken Ast der Paschenkurve liegt. Die Zündspannung steigt in diesem Fall mit sinkendem Gasdruck bei fester Elektrodengeometrie.
- Am Anfang der Entladung, d.h. bei beginnendem Stromfluss, wird gemäß
2a in der Hohlkathode2 ein Plasma13 erzeugt. Im Verlauf der Entladung tritt dieses Plasma13 durch die Kathodenöffnungen hindurch und bildet leitfähige Kanäle11 zwischen Kathode und Anode, vgl. hierzu2b . Aus dem Vorstehenden ergibt sich, dass der aus den Hohlkathodenöffnungen austretende Strahl11 aus Ionen und Elektronen eine gewisse räumliche Ausdehnung hat. Als gemeinsamer Schnittpunkt S soll dabei auch derjenige Raumbereich12 verstanden werden, innerhalb dessen sich diese räumlich ausgedehnten Strahlen kreuzen bzw. überlappen. - Längs der Kanäle
11 kommt es zu einem schnellen Anstieg des Stroms, wodurch das Plasma gemäß2c magnetisch auf ein kleines Volumen14 auf der Symmetrieachse6 der Anordnung komprimiert wird. Es kann hierbei ein zigarrenförmiges Plasma auf und in Richtung der Haupt-Symmetrieachse6 realisiert werden. Die Länge dieses Plasmagebietes in Achsrichtung beträgt ca. 2 bis 5 mm, und senkrecht hierzu ca. 0.5 bis 2 mm. Der Schwerpunkt dieses Plasmagebietes liegt ca. im Schnittpunkt S. Aufgrund des starken Temperaturanstiegs werden die darin befindlichen Gasatome mehrfach ionisiert und emittieren die gewünschte EUV-Strahlung. - Die Ausrichtung der Hohlkathodenöffnungen auf einen gemeinsamen Schnittpunkt S bewirkt, dass sich die in der Anfangsphase der Entladung erzeugten Elektronen- bzw. Plasmastrahlen in einem Punkt, nämlich dem Schnittpunkt S, treffen, und somit auf einen Raumpunkt gerichtete Stromkanäle vorgeben. In der späteren Phase hohen Stromflusses bildet sich auf diese Weise infolge des Pincheffektes ein sehr lokalisiertes Plasma aus.
- Erfindungsgemäß sind mindestens zwei Kathodenöffnungen vorgesehen, vorteilhaft ist die Verwendung einer noch größeren Anzahl von Kathodenöffnungen. Die Verwendung einer größeren Anzahl von Kathodenöffnungen vergrößert die Elektrodenfläche noch mehr und verringert die Belastung, die jede einzelne Kathodenöffnung erfährt. Wunschgemäß mindert dies die Erosion der Kathode.
- Es ist günstig, wenn die Längsachse
5 der jeweiligen Hohlkathodenöffnung3 weitgehend senkrecht auf dem der Hohlkathodenöffnung3 gegenüberliegenden Teil der Hohlkathodenwand7 , d.h. der Rückwand des Hohlkathodenraums, steht, siehe3 . Die Orientierung der Hohlkathodenwand7 in Relation zur Längsachse der Hohlkathodenöffnung hat nämlich starken Einfluss auf die Richtung des Elektronen- bzw. Plasmastrahls und auf seine Stromstärke beim Austritt aus der Kathodenöffnung. - In der Startphase der Entladung werden nämlich Elektronen von den Rückwänden
7 der Hohlkathode oder der Hohlkathoden emittiert, und zwar jeweils senkrecht zur Wand. Dies führt zur Ausbildung eines Elektronenstrahls, gefolgt von einem Strahl neutralen Plasmas, welcher durch die jeweiligen Öffnungen3 ,3' ,3'' in Richtung Anode propagiert. Da die primäre Elektronenemission senkrecht zur Wand der Hohlkathode erfolgt, treten die Ladungsträger dann möglichst vollständig aus den Öffnungen aus, wenn die Längsachse der Öffnungen senkrecht auf der Hohlkathodenrückwand steht. - Die eingangs erwähnten Ausführungsformen haben die Gemeinsamkeit, dass die mindestens zwei Hohlkathodenöffnungen zu einem einzigen und insofern gemeinsamen Hohlkathodenraum führen.
- Gemäß
4a und4b ist es aber auch möglich, dass jeder Hohlkathodenöffnung3 ,3' ,3'' ein separater Hohlkathodenraum8 ,8' ,8'' zugeordnet ist. Allgemeiner kann insofern unter einer Hohlkathode auch eine Kathode mit mindestens zwei Öffnungen3 ,3' mit mindestens einem zugeordneten Hohlkathodenraum8 verstanden werden. - Separate Hohlkathodenräume sind kleiner als ein gemeinsamer Hohlkathodenraum. Aufgrund der geringeren Größe hat man den Vorteil, dass das Plasma schneller rekombiniert und damit höhere Repetitionsraten möglich sind.
- Ebenfalls vorteilhaft ist eine Ausgestaltung der Erfindung, bei der die Hohlkathode
2 keine Öffnung auf der Symmetrieachse6 aufweist, siehe hierzu5a und5b . Bei Vorhandensein einer Öffnung an dieser Stelle lässt sich nämlich experimentell feststellen, dass der von dieser Öffnung ausgehende Stromfluss häufig die von den anderen Öffnungen3 ,3' ausgehenden Stromflüsse deutlich übersteigt. Indem man keine Öffnung an dieser Stelle vorsieht, vermeidet man die Gefahr, dass diese Öffnung einer besonders starken Erosion unterliegt. Mit anderen Worten ist die Verteilung des Gesamtstroms auf die Einzelströme besonders gleichmäßig. - Während
5a und5b Varianten ohne Hohlkathodenöffnung auf der Symmetrieachse6 darstellen, bei denen diese Öffnungen3 ,3' einen einzigen gemeinsamen Hohlraum aufweisen, gelten die obigen Ausführungen sinngemäß ebenfalls, wenn wie in4a oder4b separate Hohlräume8 ,8' ,8'' vorgesehen sind. - Eine zeichnerisch nicht dargestellte Variante besteht darin, dass eine durchgehende Hohlkathodenöffnung auf der Symmetrieachse gewählt wird, deren Durchmesser kleiner als die Durchmesser der übrigen Hohlkathodenöffnungen ist. In diesem Falle spielt die zentrale Hohlkathodenöffnung, also die Hohlkathodenöffnung auf der (Haupt-) Symmetrieachse der Elektrodenanordnung, für die Zündung des Plasmas keine Rolle. Vorteilhaft bei dieser Variante ist, dass eine Erosion durch Teilchen, welche bei der Kompression des Pinchplasmas in axiale Richtung emittiert werden, vermieden werden kann.
- Bei einer anderen Variante kann vorgesehen sein, dass eine oder mehrere Hohlkathodenöffnungen
3 ,3' ,... als Sackloch ausgebildet sind, siehe6a und6b . Diese Bauform ist besonders einfach herstellbar. - Untersuchungen haben ferner ergeben, dass bei nicht optimierten Betriebsparametern der Schwerpunkt des Plasmas nicht am Punkts S, sondern häufig in Richtung Kathode verschoben ist. Speziell mit einem Sackloch
3' auf der Symmetrieachse6 , wie in6c und6d dargestellt, lässt sich der Abstand des Plasmas von der Kathodenwand vergrößern, insbesondere wenn der Durchmesser des Sacklochs größer ist als der Durchmesser der weiteren Hohlkathodenöffnungen3 bzw.3' . Der vergrößerte Abstand des Plasmas von der Kathodenwand führt zu einer weiteren Minderung der Kathodenerosion. - Weiterhin ist für den Fall eines Sacklochs auf der Hauptsymmetrieachse
6 die Anordnung toleranter gegenüber Erosion im Öffnungsbereich. Eventuelle Abrundungen bzw. vorhandener Abtrag der Kathode an der Kante der Öffnung spielen für den Fall eines Sacklochs für den Stromtransport und damit für das Pinchplasma eine nicht so große Rolle wie in einer Geometrie mit einer durchgehenden Öffnung. Im letztgenannten Fall wird die Geometrie des Pinchplasmas wesentlich durch den Stromansatz und dessen zeitliche Entwicklung in der Öffnung bestimmt, wobei sich erfahrungsgemäß die erodierte Kante auf die Pinchgeometrie negativ auswirkt. Das Pinchplasma wird länger und führt dazu, dass weniger Strahlung ausgekoppelt werden kann. Insofern führt das Sackloch dazu, dass trotz auftretender Erosion das Plasma bez. Lage und Geometrie unverändert bleibt. - Die Anode
1 enthält eine durchgehende zentrale Hauptöffnung4 auf der Symmetrieachse6 . Die Anode1 kann neben der durchgehenden zentralen Hauptöffnung4 mindestens zwei weitere Öffnungen4' ,4'' aufweisen. Die Längsachsen9' bzw.9'' dieser zusätzlichen Anodenöffnungen4' bzw.4'' sind jeweils identisch mit der Längsachse einer Hohlkathodenöffnung3' bzw.3'' , siehe hierzu7 . Insofern gibt es zu jeder zusätzlichen Anodenöffnung4' ,4'' eine gegenüberliegende, nicht auf der Symmetrieachse befindliche Hohlkathodenöffnung3' ,3'' . In diesem Fall gibt es überlappende Plasmakanäle am Ort S, und die weiteren Anodenöffnungen4' ,4'' definieren weitgehend das über den Pincheffekt zu komprimierende Plasmavolumen. Da die zusätzlichen Anodenöffnungen4' ,4'' einen kleineren Durchmesser aufweisen als die zentrale Anodenöffnung4 auf der Symmetrieachse6 , wird das zu komprimierende Plasmavolumen insgesamt kleiner ausfallen. Das Plasma wird dadurch auf ein noch kleineres Volumen komprimiert. Dies hat den Vorteil, dass ein noch höherer Anteil der erzeugten EUV-Strahlung entlang der Symmetrieachse6 ausgekoppelt und für die Applikation nutzbar gemacht werden kann. Da man dadurch zur Erlangung einer vorgegebenen EUV-Ausgangsleistung geringere Pulsenergien benötigt, lässt sich die Erosion des Kathodenmaterials weiter einschränken. - Die zusätzlichen Anodenöffnungen können unterschiedlich ausgestaltet sein. Von S aus betrachtet befindet sich hinter der Anodenöffnung
4' ,4'' in7 ein offener Raumbereich, in8a ist dieser Raumbereich geschlossen. Die geschlossene Ausführung hat zur Folge, dass das Plasma durch Vorgänge im besagten Raumbereich nicht gestört werden kann, und die Plasmaemission besonders störungsfrei erfolgt. Baulich besonders einfach ist hierbei die Variante gem.8b , dass der geschlossene Raumbereich aus einer als Sackloch ausgebildeten Anodenöffnung4' ,4'' besteht. - Unabhängig vom Vorhandensein und der Ausgestaltung der zusätzlichen Anodenöffnungen
4' ,4'' kann die Hauptöffnung4 auch als Gitter, dessen offene Bereiche streifenförmig oder schachbrettartig sind, ausgeführt sein. Das Gitter wirkt in diesem Fall während der Zündungsphase des Plasmas als elektrische Abschirmung. Diese Ausgestaltung der zentralen Hauptöffnung der Anode ist vor allem bei Vorhandensein von zusätzlichen Anodenöffnungen von Vorteil. Dann wird nämlich der Zündprozess noch dominanter durch die zusätzlichen Anodenöffnungen4' ,4'' bestimmt und damit das zu komprimierende Plasmavolumen insgesamt noch kleiner ausfallen. - In einer weiteren vorteilhaften Ausführung der Erfindung sind für den oder die Hohlkathodenräume Triggervorrichtungen vorgesehen. Auf diese Weise lässt sich die Zündung der Ent ladung präzise nach Bedarf auslösen. Insbesondere lässt sich auch die Gleichzeitigkeit der Zündung der Teilentladungen verbessern.
- Als Triggervorrichtung kann gemäß
9a und9b eine Zusatzelektrode10 im Hohlraum8 vorgesehen sein. Diese Zusatzelektrode10 kann, indem sie durch eine Triggerelektronik auf positivem Potential gegenüber der Kathode2 gehalten wird, die Entzündung der Entladung verhindern. Wird die Triggerelektrode durch einen Steuerimpuls an die Triggerelektronik auf Kathodenpotential geschaltet, erfolgt eine präzise steuerbare Zündung der Entladung. Analoges gilt für den Fall, dass ein dielektrischer Trigger eingesetzt wird. - Gemäß
10a kann eine gepulste Hochfrequenzquelle10 ,10' ,10'' als Triggervorrichtung vorgesehen sein, und zum Beispiel eine Mikrowellenquelle zur Auslösung der Entladung verwendet werden. Die Hochfrequenz wird durch die Öffnung in Richtung der strichpunktierten Achsen in den oder die Hohlkathodenräume8 ,8' ,8'' eingekoppelt, und löst dort den Aufbau des Hohlkathodenplasmas, und schließlich die Hauptentladung aus. - Zur Triggerung können auch gemäß
10b Glimmentladungseinheiten vorgesehen sein. Innerhalb dieser Einheiten wird vor der eigentlichen Hauptentladung eine Glimmentladung aufrecht erhalten. Aus dem Glimmplasma werden dann durch Anlegen eines positiven Spannungspulses an die der Hohlkathode2 zugewandten Gitterelektrode Elektronen extrahiert, die die Hauptentladung im Hohlkathodenraum8 ,8' ,8'' und im Raum zwischen Anode und Kathode, also im Elektrodenzwischenraum, initiieren. - Gemäß
10c und10d können zum Triggern auf die jeweiligen Hohlkathodenöffnungen fokussierte Laserstrahlen15 ,15' ,15'' einer gepulst betriebenen Laserstrahlquelle zur Auslösung von Primärelektronen aus der Kathodeoberfläche und zur Zündung der Entladung verwendet werden. Es können ein oder mehrere fokussierte Laserstrahlen sowohl von der Anodenseite, siehe10d , als auch durch Öffnungen von der Kathodenseite, siehe10c , eingestrahlt werden. -
11 zeigt eine Doppelplasma-Anordnung mit einer Hilfsanode17 . Hilfsanode und Anode1 werden über Leitungen19 elektrisch miteinander verbunden. Während der Zündungsphase der Entladung baut sich in den Hohlkathodenräumen8 ,8' ,8'' ein Plasma auf, von dem aus ein Elektronenstrahl in Richtung der Anode1 und auch in Richtung Hilfsanode17 propagiert. Im späteren Verlauf entsteht im Raum18 ,18' ,18'' zwischen den Öffnungen16 ,16' ,16'' und Hilfsanode17 ein Plasma, das seinerseits einen Ionenstrahl in Richtung Hohlkathode2 emittiert. Der Ionenstrahl durchquert den Hohlkathodenraum8 ,8 ',8'' und tritt durch die Öffnungen3 ,3' ,3'' in den Elektrodenzwischenraum ein. Hier wird längs des Ionenstrahls eine nochmals lokal verstärkte Ionisation des Hauptplasmas zwischen Anode1 und Kathode2 bewirkt. Damit wird die räumliche Ausdehnung des EUV-Strahlung emittierenden Plasmavolumens nochmals verringert. Dies erlaubt eine bessere Auskopplung der bereitgestellten EUV-Strahlung. - Aus den vorstehenden Ausführungen ergibt sich, dass die verschiedenen Ausführungsformen von Kathode, Anode(n), jeweiligen Öffnungen sowie zugehörigen Triggervorrichtungen auch beliebig kombiniert werden können.
-
- 1
- Anode
- 2
- Hohlkathode
- 3,3',3''
- Hohlkathodenöffnung
- 4
- Anodenöffnung, durchgehend
- 5, 5',5''
- Längsachse einer Hohlkathodenöffnung
- 6
- Symmetrieachse, definiert durch die durchgehende
- Anodenöffnung
- 7
- Hohlkathodenrückwand
- 8, 8', 8''
- Hohlkathodenraum
- 9
- Längsachse einer zusätzlichen Anodenöffnung
- 10
- Triggervorrichtung
- 11
- Räumlich ausgedehnter Strahl aus Elektronen
- und Ionen
- 12
- Überlappungsbereich der Elektronenstrahlen
- 13
- Plasma
- 14
- Pinchplasma
- 15, 15', 15''
- Laserstrahlen
- 16, 16', 16''
- Öffnungen der Hohlkathode, welche der
- Hilfsanode zugewandt sind
- 17
- Hilfsanode
- 18, 18', 18''
- Zwischenraum
zwischen Hohlkathode
2 und Hilfsanode17 - 19
- elektrische
Leitungen, welche Anode
1 und Hilfsanode17 miteinander verbinden
Claims (13)
- Gasentladungslampe für EUV-Strahlung, mit einer Anode (
1 ) und einer Hohlkathode (2 ), bei der die Hohlkathode (2 ) mindestens zwei Öffnungen (3 ,3' ) und die Anode (1 ) eine durchgehende Öffnung (4 ) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass die Längsachsen (5 ,5' ) der Hohlkathodenöffnungen (3 ) einen gemeinsamen Schnittpunkt S haben der auf der Symmetrieachse (6 ) der Anodenöffnung (4 ) liegt. - Gasentladungslampe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Längsachse (
5 ) der jeweiligen Hohlkathodenöffnung (3 ) weitgehend senkrecht auf dem der Hohlkathodenöffnung (3 ) gegenüberliegenden Teil der Hohlkathodenwand (7 ) steht. - Gasentladungslampe nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Hohlkathodenöffnung (
3 ) ein separater Hohlkathodenraum (8 ) zugeordnet ist. - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass eine Hohlkathodenöffnung als Sackloch ausgebildet ist.
- Gasentladungslampe nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die auf der Symmetrieachse (
6 ) befindliche Hohlkathodenöffnung (3 ) als Sackloch ausgebildet ist. - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Hohlkathode (
2 ) keine Öffnung (3 ) auf der Symmetrieachse (6 ) der Anodenöffnung (4 ) aufweist, - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Hohlkathode (
2 ) eine durchgehende Öffnung auf der Symmetrieachse (6 ) der Anodenöffnung (4 ) aufweist, deren Durchmesser kleiner ist als der Durchmesser der übrigen Hohlkathodenöffnungen. - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Anode (
1 ) zusätzliche Öffnungen (4' ,4'' ) aufweist, deren Längsachsen (9' ,9'' ) jeweils identisch mit der Längsachse einer Hohlkathodenöffnung sind. - Gasentladungslampe nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass vom Schnittpunkt
5 aus betrachtet der Raumbereich hinter der zusätzlichen Anodenöffnung (4' ,4'' ) geschlossen ist. - Gasentladungslampe nach einem der Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine zusätzlichen Anodenöffnung (
4' ,4'' ) als Sackloch ausgebildet ist. - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 8,9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass die zentrale durchgehende Anodenöffnung
4 als Gitter ausgeführt ist, dessen offene Bereiche streifenförmig oder schachbrettartig ausgebildet sind. - Gasentladungslampe nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass für den oder die Hohlkathodenräume (
8 ) Triggervorrichtungen (10 ) vorgesehen sind, vorzugsweise eine Zusatzelektrode, ein dielektrischer Trigger, eine gepulste Hochfrequenzquelle, eine oder mehrere Glimmentladungseinheiten, oder eine gepulste Laserstrahlquelle. - Gasentladungslampe nach einem der Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass als Triggervorrichtung eine Doppelplasmaanordnung mit einer Hilfsanode (
17 ) vorgesehen ist.
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---|---|---|---|
DE10256663A DE10256663B3 (de) | 2002-12-04 | 2002-12-04 | Gasentladungslampe für EUV-Strahlung |
JP2004556668A JP4594101B2 (ja) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | Euv放射用放電灯 |
PCT/IB2003/005496 WO2004051698A2 (de) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | Gasentladungslampe für euv-strahlung |
EP03812235A EP1570507A2 (de) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | Gasentladungslampe für euv-strahlung |
US10/536,918 US7397190B2 (en) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | Gas discharge lamp for extreme UV radiation |
CNB2003801049941A CN100375219C (zh) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | 用于超紫外辐射的气体放电灯 |
AU2003302551A AU2003302551A1 (en) | 2002-12-04 | 2003-11-28 | Gas discharge lamp for euv radiation |
TW092133834A TW200503045A (en) | 2002-12-04 | 2003-12-02 | Gas discharge lamp for EUV radiation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10256663A DE10256663B3 (de) | 2002-12-04 | 2002-12-04 | Gasentladungslampe für EUV-Strahlung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10256663B3 true DE10256663B3 (de) | 2005-10-13 |
Family
ID=32403701
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10256663A Expired - Lifetime DE10256663B3 (de) | 2002-12-04 | 2002-12-04 | Gasentladungslampe für EUV-Strahlung |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7397190B2 (de) |
EP (1) | EP1570507A2 (de) |
JP (1) | JP4594101B2 (de) |
CN (1) | CN100375219C (de) |
AU (1) | AU2003302551A1 (de) |
DE (1) | DE10256663B3 (de) |
TW (1) | TW200503045A (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8100 | Publication of patent without earlier publication of application | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R081 | Change of applicant/patentee |
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|
R081 | Change of applicant/patentee |
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|
R081 | Change of applicant/patentee |
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